IMPL03E220離子注入機中束流操作規(guī)范

1、文件標題（Title） IMPL032 E500220HP離子注入機(中束流)操作規(guī)范 文件類別：Q(質(zhì)量)S(EHS) C(S+Q) 一、文件擬制、審核：部門擬制者簽名日期審核者審核者簽名審核日期工程部擴散王曉靜卞蘭芹卞蘭芹王曉靜20056-09-111-12張 明張 明2005-1-12二、 文件會簽：部門會簽人員簽名日期部門會簽人員簽名日期制造部徐 步徐 步2005-1-13三、 文件批準和生效：部門批準人員簽名日期文件編號版本生效日期工程部劉 逵劉 逵2005-1-13QW-750824B122005-1-13 四、 文件分發(fā)：分發(fā)部門接收人日期分發(fā)部門接收人日期五、文件修訂記錄：修訂

2、日期修訂申請人修訂人主要修訂內(nèi)容2005-1-12王曉靜葉可佳文件標題具體化；由“E500HP注入機操作規(guī)范”改為“IMPL02 E500HPIMPL03 E220離子注入機(中束流)操作規(guī)范”。5.0定義中“生產(chǎn)線的M1(L6M1)”改為“生產(chǎn)線的IMPL02”8.0附錄一：標題具體化。六、 機密等級：普通。 1.0 標題：IMPL03 E2202 E500HP離子注入機(中束流)操作規(guī)范2.0 目的：該文件目的在于提供一個IMPL02 E500HPIMPL03 E220離子注入機(中束流)(以下簡稱E500HP220)設(shè)備標準工藝操作過程。3.0 適用范圍：該文件適用于所有工藝操作E500

3、HP220人員。4.0 參考文件：無。5.0 定義： 該E500HP220為生產(chǎn)線的IMPL032，該設(shè)備為VARIAN注入設(shè)備(中束流注入機)。6.0責任： 6.1 操作人員需嚴格按該文件操作該設(shè)備。6.2 設(shè)備人員有確保設(shè)備狀態(tài)良好的責任。6.3 工藝人員有確保工藝正常，可做產(chǎn)品的責任。 6.4 所有人員在該設(shè)備上處理園片時，要嚴格按標準工藝操作來作業(yè)。 6.5 所有人員在標準工藝操作中，遇到異常情況，需及時向EE、PE反映處理。7.0 內(nèi)容： 7.1 制程目的： 形成不同形式(N型或P型)摻雜。 7.2 安全： 在操作E500HP220的過程中，有以下幾種不安全因素： .1 高壓電擊：E

4、500HP220的對地最高電壓為200KV,它將嚴重灼傷人體或觸電。 .2 機械損傷：在終端臺的部位有很多運動部件,如被卷入或碰撞將會傷及人體。 .3 X射線輻射：帶有能量的二次電子會產(chǎn)生強烈的X 射線,一旦泄漏將會危及人 們的身體健康。 .4 高溫燙傷：離子源部分以及泵等在運行過程中會產(chǎn)生很高的溫度,如果觸及這些部位將會造成燙傷。 .5 有毒氣體: 離子部分及真空腔的有毒氣體（如BF3等）如被吸入會危及人的健 康甚至生命。 為防止以上不安全因素嚴禁作業(yè)員私自打開設(shè)備的OUTER DOOR，觸摸OUTER DOOR內(nèi)任何部位； 設(shè)備各INTERLOCK安全裝置，嚴禁BYPASS。 在運轉(zhuǎn)中一旦

5、發(fā)生危險情況，需要立刻關(guān)閉機臺，可按下紅色的EMO按鈕, 整個 機臺的所有電源都將被關(guān)閉。 7.3 材料：Ar、BF3、PH3、AsH3氣體。 7.4 操作過程： 確認設(shè)備狀態(tài)牌，設(shè)備正常后，確認各部分（SOURE，BEAMLINE）真空達到5E-7以下可進行正常作業(yè)；否則嚴禁作業(yè)。 半自動方式：.1 (若為STANDBY狀態(tài)，直接跳到7.4.2.5執(zhí)行)在Sign-On Screen畫面(見下圖1)中觸“Enter your OPERATOR ID”對話框；.2 用屏幕所顯示的鍵盤輸入正確的OPERATOR ID，作業(yè)員為“1234”觸“ENTER”確認；.3 再在密碼對話框中輸入正確的密碼

6、，作業(yè)員為“1234”，OPERATOR ID和密碼應(yīng)輸入正確，兩次錯誤設(shè)備將自鎖（見下圖2），請通知相應(yīng)工程師。圖一 登錄畫面圖二 登錄畫面鎖住 .4 戶頭登錄后進入MODE MENU畫面（如圖三），觸“MANUAL MODE”按紐進入MANUAL MENU SCREEN（如圖四）。圖三 MODE MENU SCREEN圖四 MANUAL MENU SCREEN 7.4.2.5觸 MANUAL VACUUM，進入 VACUUM SCREEN。（如圖5）確認各部分（SOURE，BEAMLINE）真空達到5E-7以下，方可作業(yè) 圖五 VACUUM SCREEN .65 觸圖四中LOAD WAFE

7、RSBATCH CONTROL，進入BATCH STATUS SCREEN。（如圖65）圖五六 BATCH STATUS SCREEN 切換按紐，如該處為電壓、電流相互切換該圈顯示紅色或黃色表示當前為調(diào)節(jié)該項開關(guān)按紐，OFF時按一下開，再按一下則關(guān) 圖七六 SOURCE SCREEN.76 觸對應(yīng)需上下料端的UNLOAD按紐，該上下料端門自動打開（中間按紐為兩邊門一起開），等待門打開后，加上所需加工的圓片，再觸LOAD按紐，門自動關(guān)閉；.78 觸所加圓片端的PROCESS按紐，出現(xiàn)RECIPE INDEX SCREEN，選擇正確的工藝菜單；.98 觸USE按紐，則回到BATCH STATUS

8、SCREEN，并在PROCESS框內(nèi)顯示所選的菜單名，確認所選菜單是否正確，如不正確重新觸PROCESS選擇菜單；.109 如正確觸LOT按紐，用屏幕顯示的鍵盤輸入批號，觸ENTER回到BATCH STATUS SCREEN，并在LOT框內(nèi)顯示相應(yīng)的批號。.110 再次確認菜單、批號是否正確，如不正確重新從7.4.2.87開始操作，如正確觸BATCH STATUS屏幕上顯示的GO 按紐。.121 32步；.123 觸右上角STOP終止自動引束，并到SOURCE畫面，如圖76所示：.134 將圖六七中各電源打開，先按下表對各參數(shù)進行設(shè)定：參數(shù)名稱設(shè)定值參數(shù)名稱設(shè)定值A(chǔ)RC VOL90VAXIS

9、X450ARC CUR0.5AAXIS Y450GAS1.5AXIS Z900MAG30AEXT VOL按菜單設(shè)定FIL CUR150AAMU按對應(yīng)元素設(shè)定.154 觸右下角的束流檔（SETUP、FOCUS、TARGET）中的SETUP，確認SETUP框外框線為紅色，如圖七六所示；.165 對以上各參數(shù)進行微調(diào)，使SETUP束流與設(shè)備中LEARN的束流值相近；.176 觸SOURCE畫面右上角的BEAMLINE按紐進入BEAMLINE畫面，如圖7；圖八七 BEAMLINE SCREEN.178 觸右下角的束流檔（SETUP、FOCUS、TARGET）中的FOCUS，切換到FOCUS；.198

10、按菜單內(nèi)容加上后加速ACC電壓，如為雙電荷注入MIR電壓設(shè)置為28kv；.2019 反復(fù)（3次左右）按Q1、Q2、DEF、LENS MAGNET的順序進行調(diào)節(jié)，使FOCUS束流達到最大值；.210 按BEAMLINE畫面的右上角的BEAM SCAN，進入BEAM SCAN畫面，如圖98；.221 按BEAM SCAN畫面上方的SETUP按紐，設(shè)備自動進行校準及計算掃描次數(shù)，完成后自動顯示圖109畫面；.232 如掃描次數(shù)少于菜單規(guī)定次數(shù)，設(shè)備自動報警，應(yīng)按比例降低束流值；.243 觸圖109畫面上方的IMPLANT按紐，設(shè)備自動進入注入畫面，如圖1011；.254 在IMPLANT MONIT

11、OR 畫面，觸GO設(shè)備即進行自動作業(yè)；.265 作業(yè)結(jié)束后設(shè)備自動回到BATCH STATUS SCREEN，觸對應(yīng)的UNLOAD按紐，設(shè)備自動打開上下料門，下料，作業(yè)完成。關(guān)機： .1 在BATCH STATUS畫面中觸MODE MENU，顯示MODE MENU SCREEN。.2 在MODE MENU SCREEN畫面，觸SYSTEM SHUT DOWN，并在磁盤驅(qū)動器中插入備份盤，即進行自動關(guān)機。.3 結(jié)束后按設(shè)備提示取出備份盤，設(shè)備自動關(guān)機退回Sign-on Screen。 出片檢查： 按擴散表面檢查操作標準的規(guī)定對圓片進行出片檢查。7.4.5 送入下道工序。圖九八 BEAMSCAN

12、SCREEN圖十圖十九圖十一 IMPLANT MONITOR SCREEN 7.5 注意事項： 終止作業(yè)：在IMPLANT MONITOR畫面下觸HOLD可使當前作業(yè)終止。 對于出現(xiàn)異常，未完成注入的圓片一定要在交班本上有異常情況的書面交班，交班 的內(nèi)容包括： A. 發(fā)現(xiàn)的異常現(xiàn)象； B. 異常現(xiàn)象所涉及的批次，工序號，片號等； C. 異常時，圓片的加工情況； D. 出現(xiàn)異常的注入機。 E. 受異常影響的園片，現(xiàn)在所放置的位置。 禁止設(shè)備狀態(tài)不穩(wěn)定時作業(yè)； 注入過程中如存在參數(shù)(能量，注入時間，AMU等)不正常，束流、氣壓不穩(wěn)（波動大于10%），高壓打火（一批超過2次打火）時，嚴禁作業(yè)，并通知相關(guān)工程師或技術(shù)員。8.0 附錄：附錄一：IMPL02 E500HPIMPL03 E220離子注入機(中束流)操作流程圖9.0 有效期：本文件自發(fā)布之日起至下次修正日止。10.0 機密等級：普通。END附錄一：IMPL02 E500HPIMPL03 E220離子注入