標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 41114-2021 無損檢測 超聲檢測 相控陣超聲檢測標(biāo)準(zhǔn)試塊規(guī)范》是一項國家標(biāo)準(zhǔn),旨在為相控陣超聲檢測技術(shù)提供一套統(tǒng)一的標(biāo)準(zhǔn)試塊規(guī)范。該標(biāo)準(zhǔn)詳細規(guī)定了用于校準(zhǔn)、性能驗證以及靈敏度調(diào)整等目的的相控陣超聲檢測標(biāo)準(zhǔn)試塊的設(shè)計要求、制造方法及使用條件。

標(biāo)準(zhǔn)中明確了不同類型試塊的具體尺寸和材料選擇原則,確保這些試塊能夠滿足不同應(yīng)用場景下對相控陣系統(tǒng)性能評價的需求。例如,對于平面波束成像應(yīng)用而言,可能需要特定形狀和尺寸的反射體來模擬實際缺陷;而對于復(fù)雜結(jié)構(gòu)件檢測,則可能需要用到包含多角度斜探頭接口設(shè)計的專用試塊。

此外,《GB/T 41114-2021》還涵蓋了如何通過這些標(biāo)準(zhǔn)試塊來進行系統(tǒng)校正的方法論指導(dǎo),包括但不限于時間延遲設(shè)置、增益調(diào)整等方面的內(nèi)容。它強調(diào)了在進行任何類型的無損評估之前,必須先利用適當(dāng)?shù)臉?biāo)準(zhǔn)試塊完成設(shè)備的準(zhǔn)確標(biāo)定工作,以保證后續(xù)檢測結(jié)果的有效性和可靠性。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于采用相控陣技術(shù)實施無損檢測的所有領(lǐng)域,如航空航天、核電站維護、石油化工等行業(yè)中的關(guān)鍵部件質(zhì)量控制過程。通過遵循此標(biāo)準(zhǔn)所提出的各項要求,可以有效提升相控陣超聲檢測技術(shù)的應(yīng)用水平,促進其在中國乃至全球范圍內(nèi)更廣泛地推廣與發(fā)展。


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....

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  • 2021-12-31 頒布
  • 2022-07-01 實施
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GB∕T 41114-2021 無損檢測 超聲檢測 相控陣超聲檢測標(biāo)準(zhǔn)試塊規(guī)范-免費下載試讀頁

文檔簡介

?ICS19.100CCSJ04

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T41114—2021/ISO19675:2017

無損檢測超聲檢測

相控陣超聲檢測標(biāo)準(zhǔn)試塊規(guī)范

Non-destructivetesting—Ultrasonictesting—

Specificationforacalibrationblockforphasedarraytesting(PAUT)

(ISO19675:2017,IDT)

2021-12-31發(fā)布

2022-07-01實施

隱蠢惠霞O霊籌餐2H

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GB/T41114—2021/ISO19675=2017

目次

tuW n

i翻 i

2規(guī)范性引用文件 1

3術(shù)語和定義 1

4鶴# 1

5讎 1

6椒己 3

7一致性聲明 5

8相控陣標(biāo)準(zhǔn)試塊允許的修改 6

附錄A(規(guī)范性) 材料各向異性的確定 8

附錄B(資料性)PAUT標(biāo)準(zhǔn)試塊可能的用法說明 12

參考t獻 17

I

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本文件按照GB/T1.1—2020((標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第1部分:標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則》的規(guī)定起草。

本文件等同采用ISO19675:2017((無損檢測超聲檢測相控陣超聲檢測標(biāo)準(zhǔn)試塊規(guī)范》。本文件做了下列最小限度的編輯性改動:

一EN16018和ISO23243技術(shù)內(nèi)容一致,為與現(xiàn)有技術(shù)文件保持一致,EN16018改為ISO23243(第2章);

——為適應(yīng)國內(nèi)技術(shù)應(yīng)用,增加5.1的注;

一為適應(yīng)國內(nèi)技術(shù)應(yīng)用,增加國家標(biāo)準(zhǔn)標(biāo)記[見6a)];

為適應(yīng)國內(nèi)技術(shù)應(yīng)用,調(diào)整了圖2b)和圖2c)的尺寸標(biāo)記形式和視圖方向;

——增加對附錄B的引用(第8章);

——增加公式(A.1)符號說明;

一增加了參考文獻GB/T1591—2018.以便于使用。

請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利。本文件的發(fā)布機構(gòu)不承擔(dān)識別專利的責(zé)任。

本文件由全國無損檢測標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC56)提出并歸口。

本文件起草單位:上海材料研究所、浙江省電力鍋爐壓力容器檢驗所有限公司、上海市特種設(shè)備監(jiān)督檢驗技術(shù)研究院、山東瑞祥模具有限公司、浙江優(yōu)爾特檢測科技有限公司、上海寶冶工程技術(shù)有限公司。

本文件主要起草人:蔣建生、黃隱、張杰、趙洲峰、楊宇清、張平輝、李晴、呂君敏、汪麗麗、丁杰、張義鳳、馬君、薛峰、宋飛。

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無損檢測超聲檢測

相控陣超聲檢測標(biāo)準(zhǔn)試塊規(guī)范

1范圍

本文件規(guī)定了用于測試相控陣超聲檢測設(shè)備性能的鋼制試塊的尺寸、材料以及制作要求。2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中,注日期的引用文件,僅該日期對應(yīng)的版本適用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本文件。

ISO5577無損檢測超聲檢測 術(shù)語(Non-destructivetesting—Ultrasonictesting—Vocabula

ry)

注:GB/T12604.1—202()無損檢測術(shù)語超聲檢測(ISO5577:2017,MOD)

ISO23243無損檢測相控陣超聲檢測術(shù)語(Non-destructivetesting—Ultrasonictestingwitharrays—Vocabulary)

EN10025-2結(jié)構(gòu)鋼熱軋產(chǎn)品第2部分:非合金結(jié)構(gòu)鋼交貨技術(shù)條件(Hotrolledproductsofstructuralsteels—Part2:Technicaldeliveryconditionsfornon-alloystructuralsteels)

3術(shù)語和定義

ISO5577和ISO23243界定的術(shù)語和定義適用于本文件。

ISO和IEC維護的標(biāo)準(zhǔn)化工作中使用的術(shù)語數(shù)據(jù)庫網(wǎng)址如下: IEC電-丁百科:/;

ISO在線瀏覽平臺:/obp。

4縮略語

下列縮略語適用于本文件。

ACG:角度增益修正

FSH:滿屏高度

RF:射頻

SDH:橫孔

SNR:信噪比

TCG:時間增益修正

5制作

5.1鋼

試塊應(yīng)采用符合EN10025-2規(guī)定的鋼號為S355J0的鋼或與此鋼號相當(dāng)?shù)匿撝谱鳌?/p>

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注:國內(nèi)牌號如GB/T1591—2018m中Q355C是與此鋼號相當(dāng)?shù)匿摗?/p>

5.2預(yù)加工和熱處理

5.2.1毛坯

在熱處理前,粗加工規(guī)格應(yīng)為320mmX120mmX30mm的長方體。

5.2.2熱處理

應(yīng)按如下要求進行熱處理:

a) 加熱至920°C.保溫30min(奧氏體化);

b) 水中快速冷卻(淬火);

c) 加熱至650°C.回火3h;

d) 在靜止空氣中冷卻。

5.2.3最終機加工前的檢查

試塊預(yù)加工尺寸推薦值為305mmX101mmX26.5mm。

試塊所有的外表面應(yīng)進行預(yù)加工,確保表面粗糙度不大于1.6Mm。

預(yù)加工后的試塊應(yīng)滿足以下要求。

a) 試塊內(nèi)部應(yīng)無不連續(xù)。試塊熱處理后應(yīng)進行超聲檢測。超聲檢測采用標(biāo)稱中心頻率不低于10MHz且晶片尺寸為10mm?15mm之間的縱波直探頭進行檢測。應(yīng)在試塊四個較大的表面上進行檢測,保證超聲聲束覆蓋整個試塊體積。當(dāng)探頭置于試塊最大平面時,儀器增益應(yīng)設(shè)置為晶粒散射噪聲達到滿屏高度的10%,試塊內(nèi)部應(yīng)無任何高于晶粒散射噪聲的回波。

b) 試塊材料應(yīng)具有各向同性,按附錄A(見A.3)的規(guī)定測量橫波和縱波的聲速予以證實材料為各向同性。聲速測量時,探頭應(yīng)置于三個平面的中間位置。

c) 試塊應(yīng)具有較低的聲衰減。

注:由于冋波幅度取決于很多因素,因此很難對絕對衰減值進行測M。衰減值可通過簡單的定性測試估算。相對衰減M可使用5.2.3推薦的探頭測試多次底面反射冋波的材質(zhì)衰減M。通常觀察到至少四個高于25%FSH的回波,即可證明試塊衰減滿足要求,見圖1所示。

標(biāo)引序號說明:

1 ——始脈沖;

1、2、3、4…N 多次底面冋波。

圖1可接受的聲衰減

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5.3最終機加工

5.3.1尺寸和表面粗糙度

相控陣標(biāo)準(zhǔn)試塊的尺寸和公差應(yīng)按附錄A(見A.2)和圖2的規(guī)定進行測試和記錄。所有外表面的粗糙度不應(yīng)大于0.8Mm。

5.3.2刻度標(biāo)記

應(yīng)按圖3和表1的規(guī)定在試塊上制作永久性標(biāo)記。

標(biāo)記應(yīng)整齊且不能過深(最大深度約為0.1mm).也不應(yīng)采用導(dǎo)致試塊變形的方法加工。不應(yīng)使用沖壓方法制作永久性標(biāo)記。推薦使用蝕刻或者激光打標(biāo)方式制作永久性標(biāo)記。

5.3.3聲速核查

應(yīng)按附錄A(見A.3)的規(guī)定測試和記錄縱波和橫波的聲速。

6標(biāo)記

應(yīng)在每個試塊產(chǎn)品的圖2c)區(qū)域制作永久性標(biāo)記。標(biāo)記包含如下信息:

a) 引用本文件,如GB/T41114—2021;

b) 制造商的產(chǎn)品序列號和商標(biāo);

I ii

h I1

b)尺寸2(俯視圖)

圖2試塊尺寸(包含公差)

5

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單位為毫米

公差:

圖中人丁反射體公差和試塊整體尺寸的公差均為±0.1mm。

去除毛刺,打磨邊緣,無尖銳棱角。表面銑磨,所有表面的粗糙度Ra<0.8反射體和標(biāo)記的加工公差:

a) 孔的直徑,士0.2mm;

b) 所有相關(guān)角度,士r;

c) 參考反射體的中心位置,士0.1mm;

d) 角度標(biāo)識和刻度線的長度,士0.4mm。

圖2試塊尺寸(包含公差)(續(xù))

a)主視圖

圖3刻度標(biāo)記尺寸和位置

d)位置C的細節(jié)

注:尺寸見表1。

圖3刻度標(biāo)記尺寸和位置(續(xù))

7一致性聲明

對于每個試塊.制造商應(yīng)聲明或注明如下內(nèi)容:

a) 試塊符合本文件要求;

b) 試塊的主要尺寸和孔徑的測量數(shù)值;

c) 按5.2.3規(guī)定衰減的測量結(jié)果;

d) 按附錄A(見A.3)規(guī)定各個方向橫波和縱波的聲速測量結(jié)果。

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8相控陣標(biāo)準(zhǔn)試塊允許的修改

為便于使用較大激發(fā)孔徑的探頭進行測試,允許試塊厚度大于25mm。注:相控陣標(biāo)準(zhǔn)試塊可能的用法說明,見附錄B。

表1刻槽距離

距離(a)

距基準(zhǔn)“A”的距離

帶角標(biāo)的刻槽

不帶角標(biāo)的刻槽

距離(6)

距基準(zhǔn)“B”的距離

帶角標(biāo)的刻槽

不帶角標(biāo)的刻槽

mm

mm

(°)

(°)

mm

mm

(°)

(°)

12.6

162.4

40

23.1

151.9

30

13.5

161.5

42

24.0

151.0

31

14.5

160.5

44

25.0

150.0

32

15.5

159.5

46

26.0

149.0

33

16.7

158.3

48

27.0

148.0

34

17.9

157.1

50

28.0

147.0

35

19.2

155.8

52

29.1

145.9

36

20.6

154.4

54

30.1

144.9

37

22.2

152.8

56

31.3

143.7

38

24.0

151.0

58

32.4

142.6

39

26.0

149.0

60

33.6

141.4

40

28.2

146.8

62

34.8

140.2

41

30.8

144.2

64

36.0

139.0

42

33.7

141.3

66

37.3

137.7

43

37.1

137.9

68

38.6

136.4

44

41.2

133.8

70

40.0

135.0

45

46.2

128.8

72

41.4

133.6

46

52.3

122.7

74

42.9

132.1

47

60.2

114.8

76

44.4

130.6

48

70.6

104.4

78

46.0

129.0

49

85.1

89.9

80

47.7

127.3

50

49.4

125.6

51

51.2

123.8

52

53.1

121.9

53

55.1

119.9

54

57.1

117.9

55

59.3

115.7

56

61.6

113.4

57

64.0

111.0

58

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表1刻槽距離(續(xù))

距離(a)

距基準(zhǔn)“A”的距離

帶角標(biāo)的刻槽

不帶角標(biāo)的刻槽

距離(6)

距基準(zhǔn)“B”的距離

帶角標(biāo)的刻槽

不帶角標(biāo)的刻槽

mm

mm

(°)

(°)

mm

mm

(°)

(°)

66.6

108.4

59

69.3

105.7

60

72.2

102.8

61

75.2

99.8

62

78.5

96.5

63

82.0

93.0

64

85.8

89.2

65

89.8

85.2

66

94.2

80.8

67

99.0

76.0

68

104.2

70.8

69

109.9

65.1

70

7

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附錄A

(規(guī)范性)

材料各向異性的確定

A.1材料各向異性

材料的各向異性通常由材料不同方向上的不同聲速表征。

通常,無邊界的固體介質(zhì)中傳播三種波型。在各向同性材料中,它們是質(zhì)點運動方向與波傳播方向一致的縱波和質(zhì)點運動方向與波傳播方向垂直的兩個不同振動方向的橫波。各向異性材料中同樣傳播這三種波型,但是質(zhì)點的運動方向不是通常狀態(tài)下的與波的傳播方向一致或者垂直。因此,在各向異性材料中傳播的波型不是理論意義上的橫波或縱波。

縱波聲速容易測量;大多數(shù)碳鋼的縱波聲速基本不變,即使是具有明顯各向異性的碳鋼,其縱波聲速也基本不變。

橫波聲速更明顯地體現(xiàn)材料的各向異性程度。機械振動產(chǎn)生橫波聲速變化與其光學(xué)雙折射現(xiàn)象等同。聲學(xué)雙折射現(xiàn)象見圖A.1。

在各向異性材料的同一位置旋轉(zhuǎn)橫波直探頭,在相互垂直的兩個方向上、可簡便測試出橫波最快和最慢聲速。

時間/jis 一

01,45

1

時f司/}1S

01,

45

1

時間/ps

1

01,45

1

菌液/dB

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圖A.l在各向異性材料同一位置偏轉(zhuǎn)探頭時橫波雙折射現(xiàn)象

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A.2試塊尺寸測定

選擇滿足測量精度且計量溯源的測量器具測量試塊的物理尺寸(見圖2)o試塊文件應(yīng)提供尺寸測量結(jié)果的準(zhǔn)確度。

A.3聲速測定

A.3.1概述

超聲探傷儀連接不同的直探頭(縱波和橫波),測量底面回波傳播時間。利用同一測量點的厚度W)和傳播時間⑴計算聲速(V),見公式(A.1):

V=2d/t (A.1)

式中:

V 聲速;

d 試塊厚度;

t—傳播時間。

在3個相互垂直方向上(X,y,Z)測量聲速傳播時間,見圖A.2。

測量時的環(huán)境溫度應(yīng)為17°C?23°C。

標(biāo)引序號說明:

1、2、3——探頭位置(也可使用相對面)。

圖A.2測定聲速時探頭位置

A.3.2縱波

探頭的標(biāo)稱中心頻率至少為5MHz,寬帶脈沖且晶片直徑為10mm?12.5mm。在圖A.2中所示的三個位置,用該探頭測量一次底面回波和二次底面回波的傳播時間差(見A.3.3的注)。

A.3.3橫波

使用頻率在4MHz至5MHz之間,寬帶脈沖且晶片直徑尺寸在10mm?12.5mm之間的橫波直探頭。在圖A.2中所示的三個位置,用該探頭測量一次底面回波和二次底面回波的傳播時間差(見注)。使用橫波直探頭測量聲速時,為了獲得更好的耦合效果,通常選擇高黏度的耦合劑。

由于橫波偏振特性,探頭在每個位置進行兩次測量,第二次測量的探頭偏振面垂直于第一次測量的偏振面,見圖A.2和圖A.3所示。

因此,每個標(biāo)準(zhǔn)試塊至少獲得6個橫波聲速測量值。

注:可使用多次底面回波,1mm/fzs=l000m/s。

b)第二偏振面確定VT2

圖A.3橫波聲速測量時探頭位置和方向

A.3.4聲速測定報告和驗收

聲速最大允許誤差率應(yīng)為士0.2%,即橫波聲速測量的誤差值為±6m/s,縱波聲速測量的誤差值為+12m/s0

鋼的參考聲速M如下:

10

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Vlo:5920m/s;

Vto:3255m/so

鋼的實際測量聲速允許范圍如下:

縱波聲速,Vl應(yīng)為Vu,±30m/s;

橫波聲速,^^和VT2應(yīng)為VT?!?5m/s;

應(yīng)按表A.1的規(guī)定記錄聲速測量結(jié)果。

表A.1聲速測量記錄表

位置

縱波L

橫波T

VL

m/s

與參考聲速的偏差

m/s

VT1

m/s

與參考聲速的偏差m/s

VT2

m/s

與參考聲速的偏差

m/s

1

2

3

所有縱波聲速測量結(jié)果應(yīng)在5890m/s?5950m/s之內(nèi)。所有橫波聲速測量結(jié)果應(yīng)在3240m/s?3270m/s之內(nèi)。應(yīng)報廢任何聲速超出上述范圍的試塊。

附錄B

(資料性)

PAUT標(biāo)準(zhǔn)試塊可能的用法說明

本附錄不替代測試相控陣儀器、相控陣探頭或組合系統(tǒng)性能的有關(guān)文件。本附錄的目的是比較本文件確定的PAUT標(biāo)準(zhǔn)試塊與ISO2400確定的試塊用途,并簡要說明本文件確定的PAUT標(biāo)準(zhǔn)試塊的適當(dāng)用法。具體見表B.1?表B.4。

表B.lPAUT標(biāo)準(zhǔn)試塊測試相控陣超聲檢測系統(tǒng)性能

功能

單晶片模式(ISO2400)

推薦的PAUT模式

探頭人射點(斜探頭)

半徑為100mm的圓心

方法相同

聲束角度(斜探頭)

聲束對準(zhǔn)指向直徑為50mm或直徑為

1.5mm的孔時,人射點所對應(yīng)的刻度線

方法相同,聲束指向距刻度線最近的

3mm橫孔

聲束偏向角

端角反射最高時探頭外殼與試塊邊緣的夾角

方法相同,使用量角器和直尺

時基線性

25mm的多次回波間隔

方法相同

時基校準(zhǔn)

范圍-延遲調(diào)整,91mm的縱波傳播時間等于50mm的橫波傳播時間

方法相同,但有機玻璃不能用于等效

50mm的橫波模式

垂直線性

調(diào)節(jié)3mm橫孔回波幅度,使之達到滿屏高度80%,然后加2dB,再減2dB,6dB,18dB,24dB

方法相同,使用1.6mm橫孔

屏高線性

保持兩個信號的比率,增加dB值,使較高幅度信號以滿屏高度10%的步進增加

方法相同

脈沖寬度

底面回波峰值的10%處射頻脈沖時基寬度

方法相同

中心頻率測量

轉(zhuǎn)換為時基線,使用來自半徑或厚度的信號,以1戶為周期計數(shù)

方法相同

信噪比(SNR)

設(shè)置3mm橫孔回波幅度為滿屏高度的10%,移走探頭并將探頭面的賴合劑擦拭干凈;提高增益至噪聲達到滿屏高度的10%時的增益值

方法相同,使用1.6mm橫孔

表B.2PAUT標(biāo)準(zhǔn)試塊的附加功能應(yīng)用

功能

單晶片模式

推薦的PAUT模式

楔塊延時

楔塊延時可通過固定深度的反射體或固定距離的反射面進行測定,例如半徑為100mm的圓弧面

#

庫七七標(biāo)準(zhǔn)下載

GB/T41114—2021/ISO19675=2017

表B.3PAUT試塊的可能應(yīng)用示例(常用功能)(續(xù))

功能 推存應(yīng)用

功能

單晶片模式

推薦的PAUT模式

柵瓣評價

通過比較最淺深度橫孔偏軸響應(yīng)幅度與主軸響應(yīng)幅度,評價潛在的柵瓣

有效陣元評價

探頭置于楔塊或試塊上,以步進為1的陣元設(shè)置依次激發(fā)探頭各陣元進行線掃描,宜在B掃或未修正扇掃描中通過各陣元波幅響應(yīng)/成像顯示評價陣元的有效性

線掃描靈敏度一致性

使用橫孔調(diào)節(jié)線掃描靈敏度一致性

扇掃描靈敏度一致性(ACG)

使用K50mm或jRIOOmm圓弧調(diào)整扇掃描靈敏度一致性

成像檢查

對排成一線的3mm橫孔采用扇掃描顯示,通過扇掃可對定位成像精度及延遲法則進行核查

陣元配置

斜表面的單晶片步進線掃描。帶楔塊的探頭由楔塊提供斜面,0°線陣(無楔塊)探頭要求使用一個傾斜面,監(jiān)測單調(diào)增加的底面回波時間

各向異性評定

使用試塊和超聲系統(tǒng),結(jié)合橫波和縱波聲速測量值評價試塊的各向異性

使用試塊和超聲系統(tǒng),結(jié)合橫波和縱波聲速測量值評價試塊的各向異性

表B.3PAUT試塊的可能應(yīng)用示例(常用功能)

功能

推存應(yīng)用

1

.iv

探頭人射點(斜

探頭)

聲束角度(斜探頭)

龍朋湖

聲束偏向

70°和45°位置

.84

最大角反射回波,使用量角器獲取聲束偏向角

時基線性 25mm(或更?。┖穸榷啻位夭ǖ拈g隔

時基校準(zhǔn)

縱波fe式,25mm和100mm的間隔(可目旨還有更多方法)橫波模式,尺50mm和R100mm圓弧

垂直線性 直徑為3mm的橫孔回波號

保持固定的兩個信號的比率

屏高線性

15

庫七七標(biāo)準(zhǔn)下載

脈沖寬度

在縱波或者橫波模式下,從聲程為100mm的回波射頻信號中,測量峰值10%以上波高電平的對應(yīng)時間

中心頻率測量已知1uS時間間隔的循環(huán)次數(shù)(使用測量脈沖寬度的同一回波測量)

信噪比(SNR)

設(shè)置1.6mm橫孔回波幅度為滿屏高度的10%,移走探頭并將探頭面的耦合劑擦拭干凈;提高增益至噪聲達到滿屏高度10%時的增益值

GB/T41114—2021/ISO19675=2017

表B.4PAUT標(biāo)準(zhǔn)試塊的可能應(yīng)用示例(增加的功能)

功能

推薦應(yīng)用

楔塊延時

任何橫孔甚至是半圓弧均用于確認已知反射體的固定距離或深度

線掃描靈敏度

一致性

任何橫孔都可用于測定楔塊路徑變化引起的衰減效應(yīng),以便系統(tǒng)在可能的情況下進行補償

扇掃描靈敏度

一致性(ACG)

為保證回波透射率和楔塊路徑增加引起的扇掃波幅損失得到適當(dāng)?shù)男拚箐撝新暢毯愣?。由于橫孔增加的聲程導(dǎo)致修正的楔塊及角度損失發(fā)生變化,因此只可使用半圓弧

收集B掃描評估柵瓣振幅

#

庫七七標(biāo)準(zhǔn)下載

可接受的柵瓣波幅的幅度宜低于主瓣回波波幅的幅度(例如,一20dB)

在電脈沖的激勵下有效陣元響應(yīng)。每個陣元設(shè)置為步進為1的線掃描,可分辨出哪個陣元在B掃或未修正扇掃描中未響應(yīng)。對于0°探頭,在25mm厚度方向進行B掃描。

有效陣元評價

標(biāo)引序號說明:

1——楔塊界面信號。

GB/T41114—2021/ISO19675=2017

表B.4PAUT標(biāo)準(zhǔn)試塊的可能應(yīng)用示例(增加的功能)(續(xù))

功能 推薦應(yīng)用

對于帶有楔塊的線性陣列探頭,可使用與有效陣元評估相同的設(shè)置,每個陣元到達時間宜呈單調(diào)遞增趨勢。對于沒有楔塊的0°線性陣列探頭,探頭可置于具有傾角的斜面上,實現(xiàn)與使用楔塊類似的響應(yīng)

陣元配置(根據(jù)

ISO18563-3)

對排成一線的3mm橫孔采用扇掃描顯示,通過扇掃可對定位成像精度及延遲法則進行核查。軟件提供的坐標(biāo)系中X方向顯示以某個探頭參考點為基準(zhǔn)的參考值。為確定成像合適,依據(jù)峰值信號確定的橫孔位置宜與實際位置誤差在1mm之內(nèi)。

成像檢查

17

庫七七標(biāo)準(zhǔn)下載

標(biāo)引序號說明:

d參考基準(zhǔn)位置;

v——垂直位置(包含孔半徑),定位誤差在1mm范圍內(nèi);

h——水平位置(包含孔半徑),定位誤差在1mm范圍內(nèi)。

要求特別關(guān)注對扇掃聚焦法則使用TCG均衡靈敏度。對于重復(fù)手動?xùn)鸥駫卟樾拚^程的線掃,TCG簡單修正了在更大聲程處相同反射體因聲程增加引起的幅度損失,可使用任何統(tǒng)一的反射體。

對于扇掃,TCG過程不僅修正因聲程變化引起的幅度損失

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