場效應(yīng)管的工作原理_第1頁
場效應(yīng)管的工作原理_第2頁
場效應(yīng)管的工作原理_第3頁
場效應(yīng)管的工作原理_第4頁
場效應(yīng)管的工作原理_第5頁
已閱讀5頁,還剩1頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)

文檔簡介

1、場效應(yīng)管的工作原理1. 場效應(yīng)管的工作原理Fffect Transistor的縮寫,即為場效應(yīng)晶體管。一般的晶體管是由兩種極性的載流子,即多數(shù)載流子和反極性的少數(shù)載流子參與導(dǎo)電,因此稱為雙極型晶體管,而FET僅是由多數(shù)載流子參與導(dǎo)電,它與雙極型相反,也稱為單極型晶體管。FET應(yīng)用范圍很廣,但不能說現(xiàn)在普及的雙極型晶體管都可以用FET替代。然而,由于FET的特性與雙極型晶體管的特性完全不同,能構(gòu)成技術(shù)性能非常好的電路。2. 場效應(yīng)管的特征(a) JFET的概念圖(b) JFET的符號圖1(b)門極的箭頭指向為p指向 n方向,分別表示內(nèi)向為n溝道JFET,外向為p溝道JFET。圖1(a)表示n溝道

2、JFET的特性例。以此圖為基礎(chǔ)看看JFET的電氣特性的特點。首先,門極-源極間電壓以0V時考慮(VGS =0)。在此狀態(tài)下漏極-源極間電壓VDS 從0V增加,漏電流ID幾乎與VDS 成比例增加,將此區(qū)域稱為非飽和區(qū)。VDS 達到某值以上漏電流ID 的變化變小,幾乎達到一定值。此時的ID 稱為飽和漏電流(有時也稱漏電流用IDSS 表示。與此IDSS 對應(yīng)的VDS 稱為夾斷電壓VP ,此區(qū)域稱為飽和區(qū)。其次在漏極-源極間加一定的電壓VDS (例如0.8V),VGS 值從0開始向負方向增加,ID 的值從IDSS 開始慢慢地減少,對某VGS 值ID =0。將此時的VGS 稱為門極-源極間遮斷電壓或者截

3、止電壓,用VGS (off)示。n溝道JFET的情況則VGS (off) 值帶有負的符號,測量實際的JFET對應(yīng)ID =0的VGS 因為很困難,在放大器使用的小信號JFET時,將達到ID =0.1-10A 的VGS 定義為VGS (off) 的情況多些。關(guān)于JFET為什么表示這樣的特性,用圖作以下簡單的說明。JFET的工作原理用一句話說,就是"漏極-源極間流經(jīng)溝道的ID ,用以門極與溝道間的pn結(jié)形成的反偏的門極電壓控制ID "。更正確地說,ID 流經(jīng)通路的寬度,即溝道截面積,它是由pn結(jié)反偏的變化,產(chǎn)生耗盡層擴展變化控制的緣故。在VGS =0的非飽和區(qū)域,圖10.4.1(

4、a)表示的過渡層的擴展因為不很大,根據(jù)漏極-源極間所加VDS的電場,源極區(qū)域的某些電子被漏極拉去,即從漏極向源極有電流ID 流動。達到飽和區(qū)域如圖10.4.2(a)所示,從門極向漏極擴展的過度層將溝道的一部分構(gòu)成堵塞型,ID飽和。將這種狀態(tài)稱為夾斷。這意味著過渡層將溝道的一部分阻擋,并不是電流被切斷。在過渡層由于沒有電子、空穴的自由移動,在理想狀態(tài)下幾乎具有絕緣特性,通常電流也難流動。但是此時漏極-源極間的電場,實際上是兩個過渡層接觸漏極與門極下部附近,由于漂移電場拉去的高速電子通過過渡層。如圖10.4.1(b)所示的那樣,即便再增加VDS ,因漂移電場的強度幾乎不變產(chǎn)生ID 的飽和現(xiàn)象。其次

5、,如圖10.4.2(c)所示,VGS 向負的方向變化,讓VGS =VGS (off) ,此時過渡層大致成為覆蓋全區(qū)域的狀態(tài)。而且VDS 的電場大部分加到過渡層上,將電子拉向漂移方向的電場,只有靠近源極的很短部分,這更使電流不能流通。3.場效應(yīng)管的分類和結(jié)構(gòu):FET根據(jù)門極結(jié)構(gòu)分為如下兩大類。其結(jié)構(gòu)如圖3所示:圖3. FET的結(jié)構(gòu)各種結(jié)構(gòu)的FET均有門極、源極、漏極3個端子,將這些與雙極性晶體管的各端子對應(yīng)如表1所示。FET 雙極性晶體管漏極集電極門極基極源極發(fā)射極JFET是由漏極與源極間形成電流通道(channel)的p型或n型半導(dǎo)體,與門極形成pn結(jié)的結(jié)構(gòu)。另外,門極絕緣型FET是通道部分(

6、Semicoductor)上形成薄的氧化膜(Oxide),并且在其上形成門極用金屬薄膜(Metal)的結(jié)構(gòu)。從制造門極結(jié)構(gòu)材質(zhì)按其字頭順序稱為MOS FET。根據(jù)JFET、MOS FET的通道部分的半導(dǎo)體是p型或是n型分別有p溝道元件,n溝道元件兩種類型。圖3均為n溝道型結(jié)構(gòu)圖。4.場效應(yīng)管的傳輸特性和輸出特性圖4 JFET的特性例(n溝道)從圖4所示的n溝道JFET的特性例來看,讓VGS 有很小的變化就可控制ID 很大變化的情況是可以理解的。采用JFET設(shè)計放大器電路中,VGS 與ID 的關(guān)系即傳輸特性是最重要的,其次將就傳輸特性以怎樣方式表示加以說明。圖5 傳輸特性這個傳輸特性包括JFET

7、本身的結(jié)構(gòu)參數(shù),例如溝道部分的雜質(zhì)濃度和載體移動性,以致形狀、尺寸等,作為很麻煩的解析結(jié)果可導(dǎo)出如下公式(公式的推導(dǎo)略去)若說式(10.4.2)是作為JFET的解析結(jié)果推導(dǎo)出來的,不如說與實際的JFET的特性或者式(10.4.1)很一致的作為實驗公式來考慮好些。圖5表示式(10.4.1)、式(10.4.2)及實際的JFET的正規(guī)化傳輸特性,即以ID /IDSS為縱坐標,VGS /VGS (off) 為橫坐標的傳輸特性。n溝道的JFET在VGS < 0的范圍使用時,因VGS(off) < 0,VGS /VGS(off) >0,但在圖5上考慮與實際的傳輸特性比較方便起見,將原點向左方向作為正方向。但在設(shè)計半導(dǎo)體電路時,需要使用方便且盡可能簡單的近似式或?qū)嶒炇?。傳輸特性相?dāng)

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論