納米級(jí)CMOS技術(shù)下具有超低待機(jī)漏電電流的多電源ESD鉗位電路的設(shè)計(jì)_第1頁(yè)
納米級(jí)CMOS技術(shù)下具有超低待機(jī)漏電電流的多電源ESD鉗位電路的設(shè)計(jì)_第2頁(yè)
納米級(jí)CMOS技術(shù)下具有超低待機(jī)漏電電流的多電源ESD鉗位電路的設(shè)計(jì)_第3頁(yè)
納米級(jí)CMOS技術(shù)下具有超低待機(jī)漏電電流的多電源ESD鉗位電路的設(shè)計(jì)_第4頁(yè)
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1、.納米級(jí)CMOS技術(shù)下具有超低靜態(tài)漏電電流的多電源ESD鉗位電路的設(shè)計(jì) Chang-Tzu Wang,Student Menber,IEEE,and Ming-Dou Ker,Fellow,IEEE摘要:一個(gè)超低漏電電流多電源ESD鉗位電路是用柵極電流來減少靜態(tài)漏電電流,這個(gè)電路是由SCR和新型ESD檢測(cè)電路組成。通過控制在一定偏置條件下ESD檢測(cè)電路中的柵極電流,整個(gè)多電源ESD鉗位電路能達(dá)到超低水平的靜態(tài)漏電電流。新的電路已經(jīng)在1V、65nm的CMOS工藝下進(jìn)行實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證。假設(shè)在室溫下設(shè)置1V偏置條件下只有一個(gè)96nA的靜態(tài)漏電電流和只占據(jù)一個(gè)僅49m×21m的工作區(qū)域的條件下,新

2、的多電源ESD鉗位電路能達(dá)到7kV人體放電模式和325V機(jī)器放電模式ESD水平。索引條目靜電阻抗器(ESD),柵極漏電,多電源ESD鉗位電路,可控硅(SCR)。1、 介紹隨著低功率應(yīng)用電路電源補(bǔ)償電壓的降低,在納米級(jí)CMOS技術(shù)中柵極氧化層也按比例減小。然而,在發(fā)展的CMOS技術(shù)中僅僅2nm薄的柵極氧化層已被指出因柵極漏電電流而導(dǎo)致在芯片中產(chǎn)生相當(dāng)大的一部分漏電電流1。在45nm系列和后來的產(chǎn)品中,因而金屬柵極技術(shù)可以用來減少柵極漏電電流2。盡管如此,柵極漏電問題仍然存在于當(dāng)前沒有運(yùn)用金屬柵極結(jié)構(gòu)的90nm和65nm技術(shù)產(chǎn)品中。柵極電流被規(guī)范于BSIM4 MOSFET標(biāo)準(zhǔn),并且制造商也提供了納

3、米級(jí)CMOS工藝相應(yīng)的SPICE標(biāo)準(zhǔn)給電路設(shè)計(jì)者。近日,一些報(bào)告提出了在發(fā)展CMOS工藝中對(duì)于數(shù)字電路怎樣降低柵極漏電電流3,4。就商業(yè)IC產(chǎn)品來說,達(dá)到ESD的規(guī)格是產(chǎn)品質(zhì)量的保證。多電源ESD鉗位電路有效保護(hù)核心電路通常是用帶有大型ESD鉗位MOSFET的RC觸發(fā)的ESD保護(hù)結(jié)構(gòu)5。圖1(a)就是傳統(tǒng)的RC觸發(fā)的ESD鉗位電路。然而,大型MOSFET(MESD)造成了柵極漏電電流,并且在傳統(tǒng)多電源系統(tǒng)ESD鉗位電路中的MOS電容器(Mc)在納米級(jí)CMOS工藝中很難實(shí)現(xiàn)。例如,在65nm的工藝中,柵極電流流經(jīng)一個(gè)寬長(zhǎng)比為5m/5m且在1V偏置下的MOS電容器時(shí)大小為2A。表1是在65nm工藝

4、和90nm工藝中MOS電容器的漏電電流在1V偏置下的比較。MOS電容器中存在這樣的漏電電流,ESD鉗位MOSFET(MESD)在接通電源的條件下不能完全關(guān)斷,這是由于柵極漏電電流引起ESD檢測(cè)電路發(fā)生故障并且產(chǎn)生額外的漏電電流通過MESD。這樣有缺陷的保護(hù)電路僅僅用于低電壓要求的便攜式產(chǎn)品中。有薄氧化層器件的高電壓承受能力的多電源ESD鉗位電路已經(jīng)解決了柵極氧化層的可靠性問題6-8。然而,在先前的設(shè)計(jì)中沒有考慮柵極漏電電流的影響。為了解決在RC觸發(fā)的ESD檢測(cè)電路故障問題,修改后有復(fù)位計(jì)時(shí)器的ESD鉗位電路如圖1(b)中所示9。但是,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明在125°C的高溫下130nm工藝仍然

5、有很大的靜態(tài)漏電電流大約在幾微安左右9。在納米級(jí)CMOS工藝中,新的多電源ESD鉗位電路設(shè)計(jì)需要進(jìn)一步減小靜態(tài)漏電電流。 圖1 (a)傳統(tǒng)RC觸發(fā)的多電源ESD鉗位電路(b)修改后帶有計(jì)時(shí)復(fù)位器的多電源ESD鉗位電路 表1 不同CMOS技術(shù)中在1V偏置下MOS電容器的柵電流這個(gè)工作就是要設(shè)計(jì)具有超低靜態(tài)漏電電流的多電源ESD鉗位電路。新的ESD鉗位電路具有高效的ESD檢測(cè)電路來提高ESD鉗位電路的接通效率。通過使用具有極薄氧化層的新設(shè)計(jì)電路,在常規(guī)電路工作條件下靜態(tài)漏電電流能有效降低。在1V、65nm的CMOS工藝下此多電源ESD鉗位電路已被成功驗(yàn)證。2、 考慮了柵極漏電電流的多電源ESD鉗位

6、電路 A.納米級(jí)CMOS中的柵極漏電電流當(dāng)柵極氧化層降低至3nm以及更薄時(shí)就不能忽略柵極漏電電流。 在BSIM4標(biāo)準(zhǔn)中,柵極隧道效應(yīng)電流由柵極和基體之間的電流(Igb)、柵極和溝道之間的電流(Igc)、柵源電流(Igs)和柵漏電流(Igd)組成。把一個(gè)MOS電容器,源極、漏極和基體通道相連于一點(diǎn)。這樣一個(gè)寬長(zhǎng)比為5m/5m的MOS電容器的總的柵源電流(Igcs+Igs)、總的柵漏電流(Igcd+Igd)和柵體電流(Igb)能仿真生產(chǎn)商提供的SPICE參數(shù)。在65nm工藝且1V偏置條件下,對(duì)應(yīng)的電流分別為1.02A、1.02A和89pA。相比于柵源電流和柵漏電流,仿真中的MOS電容器的柵體電流相

7、當(dāng)小。 B.有柵極漏電電流的傳統(tǒng)RC觸發(fā)的ESD鉗位電路如圖1(a)所示就是傳統(tǒng)RC觸發(fā)的ESD鉗位電路。在BSIN4柵極電流標(biāo)準(zhǔn)下,正常工作條件下的大型柵極氧化層MOS電容器將會(huì)在節(jié)點(diǎn)a與VSS之間產(chǎn)生很大的柵極電流。這樣的柵極電流會(huì)在電阻R上產(chǎn)生壓降,因此ESD檢測(cè)電路中的器件Mp不能完全關(guān)斷。這個(gè)PMOS器件沒有關(guān)斷,則在正常的工作條件下,節(jié)點(diǎn)b點(diǎn)電壓大小會(huì)超過VSS,接著引起主要的ESD鉗位MOSFET(MESD)工作在亞閾區(qū)。大規(guī)模器件的ESD鉗位MOSFET(MESD)的漏極工作在亞閾區(qū)會(huì)進(jìn)一步產(chǎn)生很大的靜態(tài)漏電電流。圖2中是上升時(shí)間為1ms的65nm CMOS工藝在常規(guī)接通電源條

8、件下ESD檢測(cè)電路各節(jié)點(diǎn)的仿真電壓和MOS電容器Mc的柵極電流。R、Mc、Mp和Mn的尺寸分別為60k、5m/5m、80m/0.12m和5m/0.12m。當(dāng)VDD達(dá)到1V時(shí),Mc的柵極電流大小為1290nA,由于R上有壓降,以至節(jié)點(diǎn)a的電壓無法達(dá)到1V。Mp的柵源電壓大于0.1V不能完全關(guān)斷,而產(chǎn)生一條電流通路從VDD通過反相器(Mp和Mn)至VSS。在正常工作條件下(VDD為1V,65nm CMOS工藝),器件寬度為幾百毫米的ESD鉗位MOSFET工作在亞閾區(qū)會(huì)引起大小為幾毫安不可忽略的漏電電流。圖2上升時(shí)間為1ms的65nm CMOS工藝在常規(guī)接通電源條件下ESD檢測(cè)電路各節(jié)點(diǎn)的 仿真電壓

9、和MOS電容器Mc的柵極電流。 C.考慮了柵極電流修改后的ESD鉗位電路為了解決因?yàn)镋SD鉗位MOSFET(MESD)工作在亞域區(qū)產(chǎn)生的大量柵極電流而引起的故障,圖1(b)中是改進(jìn)的設(shè)計(jì),添加了一個(gè)計(jì)時(shí)復(fù)位器9。在通常接通電源的條件下,節(jié)點(diǎn)a電平因?yàn)镸1導(dǎo)通而升高。然而,存在有漏洞的MOS電容Mc1,節(jié)點(diǎn)a不能完全達(dá)到VDD的電平。然后,因?yàn)镸2節(jié)點(diǎn)b拉低至低電平,接著計(jì)時(shí)復(fù)位器開啟,把節(jié)點(diǎn)a的點(diǎn)平提高至與VDD相等。因此,ESD檢測(cè)電路的作用就是保證在正常電路工作條件下主要的ESD鉗位MOSFET(MESD)保持在關(guān)態(tài)。然而,在這個(gè)ESD檢測(cè)電路中的節(jié)點(diǎn)a保持在高電平,以致在納米級(jí)CMOS工

10、藝中MOS電容Mc1的柵極和基體電壓之間的不同仍然會(huì)造成明顯的漏電電流通路從VDD通過M1和Mc1到VSS。從基于BSIM4標(biāo)準(zhǔn)下的HSPICE仿真結(jié)果中,在常規(guī)工作條件下(VDD為1V),圖1(b)中ESD檢測(cè)電路的靜態(tài)漏電電流在25°C的65nm CMOS工藝中大約為1.5A,器件尺寸如表2所示。雖然計(jì)時(shí)復(fù)位器能解決ESD檢測(cè)電路的故障問題,但是改進(jìn)后的多電源ESD鉗位電路的靜態(tài)漏電電流對(duì)于低電壓要求的便攜器件來說仍然太大。為了解決在薄柵極氧化層的柵極漏電電流,一個(gè)方案是用厚柵極氧化層的器件去實(shí)現(xiàn)ESD檢測(cè)電路中的MOS電容器。這個(gè)工作中的目標(biāo)是設(shè)計(jì)只有薄柵極氧化層器件的多電源E

11、SD鉗位電路去實(shí)現(xiàn)超低靜態(tài)漏電電流。通過用新設(shè)計(jì)的只有薄柵極氧化層器件的電路,在正常電路工作條件下多電源ESD鉗位電路的靜態(tài)漏電電流能有效降低。 表2 HSPICE仿真中修改后帶有計(jì)時(shí)復(fù)位器的ESD檢測(cè)電路的各器件尺寸3、 新設(shè)計(jì)的具有超低漏電電流的多電源ESD鉗位電路。 圖3 超低漏電電流的多電源ESD鉗位電路圖3中就是超低漏電電流的多電源ESD鉗位電路。P型襯底觸發(fā)的SCR裝置與主要的ESD鉗位裝置的用法一樣。SCR裝置是由帶有正反饋的npn和pnp三極管交叉耦合組成,維持低電壓的SCR裝置能在CMOS工藝中的一塊小面積硅上維持高ESD水平。此外,沒有多晶硅柵極結(jié)構(gòu)的SCR裝置能很好的針對(duì)

12、柵極漏電問題。然而,像ESD鉗位裝置一樣使用SCR裝置會(huì)有一些缺點(diǎn),例如較慢的開啟速度和高觸發(fā)電壓。因此,ESD檢測(cè)電路被用來提高具有襯底觸發(fā)設(shè)計(jì)的SCR裝置的導(dǎo)通速度。新的ESD檢測(cè)電路設(shè)計(jì)考慮了工作中的柵極電流。利用柵極電流偏置ESD檢測(cè)電路和降低MOS電容器柵極兩端的電壓差,在正常工作條件下通過MOS電容器的柵極漏電電流能進(jìn)一步降低。ESD檢測(cè)電路中的MOS電容器產(chǎn)生的總漏電電流能被降低。因此,新的設(shè)計(jì)能很好的控制和降低通過ESD鉗位裝置和ESD檢測(cè)電路的漏電電流。在ESD檢測(cè)電路中,器件Mp1用作基層器件在ESD激勵(lì)測(cè)試中產(chǎn)生襯底觸發(fā)電流進(jìn)入SCR裝置觸發(fā)節(jié)點(diǎn),但是Mp1在電路正常工作

13、下保持關(guān)閉。器件Mn被用來維持觸發(fā)節(jié)點(diǎn)(圖3中的節(jié)點(diǎn)b)的電平與VSS一致,因此在電路正常工作條件下保證ESD鉗位裝置(SCR)關(guān)斷。R、Mc1、Mc2和Mn的寄生柵極電容的RC時(shí)間被設(shè)計(jì)成微秒級(jí)別來區(qū)分ESD激勵(lì)測(cè)試和常規(guī)導(dǎo)通電源測(cè)試。二極管連接Mp2和Mp3作為帶有從VDD流入ESD檢測(cè)電路的初始柵基電流的啟動(dòng)電路,接著引導(dǎo)一些Mc1的柵極電流至偏置節(jié)點(diǎn)c、d和e。于是,節(jié)點(diǎn)d的電平將偏置以至減少M(fèi)c1柵極電壓差和降低通過MOS電容器的柵極漏電電流。在正常工作條件下,Mn的柵電壓應(yīng)該設(shè)計(jì)比門檻電壓更高。意識(shí)到在VDD為1V的65nm CMOS工藝中,節(jié)點(diǎn)c的電平選擇為0.45V使Mn保持導(dǎo)

14、通狀態(tài)但不會(huì)在節(jié)點(diǎn)c至VSS之間產(chǎn)生太多的柵極漏電電流。當(dāng)設(shè)計(jì)ESD檢測(cè)電路里器件尺寸時(shí),節(jié)點(diǎn)a和節(jié)點(diǎn)b的電平在正常工作條件下假定分別保持為VDD和VSS??紤]恒定RC時(shí)間,Mc1和Mc2設(shè)計(jì)成一樣的尺寸,以至節(jié)點(diǎn)d的電平為0.7V。Mc1的柵電流會(huì)稍許大于Mc2,柵電流的不同部分由Mp2指揮。根據(jù)基爾霍夫電流定理,節(jié)點(diǎn)c、d和e的電流等式能表示為其中IgdMn代表Mn總的柵漏電流,包括Igcd和Igd(定義在10中)。Mc1的總柵電流等于通過Mn氧化層的柵極電流,則能表示為 Mc1和Mn的原樓電壓差為0,所以柵漏電流和柵源電流應(yīng)該一致。因而,(4)能被簡(jiǎn)化為只由Mc1和Mn的柵源電流組成,則

15、如下表示 (5) 中的Mc1的柵源電流(IsgMc1)能通過電壓VsgMc1為0.3V和器件基礎(chǔ)參數(shù)解出,粗略結(jié)算結(jié)果為考慮恒定RC時(shí)間,Mc1的寬長(zhǎng)比選定為5m/5m,它的柵源電流設(shè)為(6)中的值。因而,Mn的尺寸能被設(shè)為(5)中的值。同樣地,在ESD檢測(cè)電路中的每個(gè)器件尺寸能源于(1)-(3)中的值。微調(diào)節(jié)點(diǎn)c、d和e的電平使達(dá)到最小的靜態(tài)漏電電流,最后應(yīng)用在65nm CMOS工藝中國(guó)ESD檢測(cè)電路的每個(gè)器件的尺寸列在表3中,其中Mp1的尺寸能根據(jù)不同的觸發(fā)電流而調(diào)整使導(dǎo)通ESD鉗位裝置。使用大尺寸的Mp1,Mp1產(chǎn)生的襯底觸發(fā)電流能提高而使加快ESD測(cè)試中SCR裝置的開啟速度。設(shè)計(jì)靈活性

16、的討論將在第四部分描述。 表3 新提出的多電源ESD鉗位電路的ESD檢測(cè)電路的器件尺寸A. 工作在正常工作條件下圖4 ESD檢測(cè)電路各節(jié)點(diǎn)的仿真電壓波形和正常工作條件(上升時(shí)間為1ms、VDD為1V、 VSS接地)下通過MOS電容器Mc1的柵極電流工作在VDD為1V和VSS接地的正常工作條件下,Mp1的柵極電壓通過電阻R和新提出的ESD檢測(cè)電路中MOS電容器Mc1的小柵極電流偏置在1V左右,使Mp1能保持關(guān)斷并且沒有從ESD檢測(cè)電路至SCR裝置產(chǎn)生觸發(fā)電流。此外,圖3中的節(jié)點(diǎn)c偏置在一定電平(0.45V左右)使Mn開啟,從而Mn保持SCR裝置的觸發(fā)節(jié)點(diǎn)接地。圖4中是ESD檢測(cè)電路各節(jié)點(diǎn)的仿真電

17、壓波形和正常工作條件(上升時(shí)間為1ms、VDD為1V、VSS接地)下通過MOS電容器Mc1的柵極電流。Mc1的柵極電流僅23nA左右,節(jié)點(diǎn)a電平大約保持在1V(與圖4中的VDD重合),使Mp1保持在關(guān)態(tài)。B.工作在ESD瞬態(tài)事件 圖5 新提出的ESD檢測(cè)電路在ESD瞬態(tài)活動(dòng)下的仿真電壓和襯底觸發(fā)電流,其中給 予VDD上升時(shí)間為10ns的0-5V電壓脈沖以仿真人體模型(HBM)ESD活動(dòng)的瞬態(tài)電壓當(dāng)給VDD一個(gè)瞬時(shí)電壓并且VSS接地時(shí),ESD檢測(cè)電路中的RC延遲維持Mp1的柵極在相對(duì)于VDD快速上升電平較低的電平。通過ESD電源產(chǎn)生襯底觸發(fā)電流進(jìn)入SCR裝置的觸發(fā)節(jié)點(diǎn)(節(jié)點(diǎn)b),Mp1能快速導(dǎo)通

18、。最后,SCR裝置能完全導(dǎo)通進(jìn)入保持狀態(tài)使ESD電流從VDD流向VSS。圖5中是新提出的ESD檢測(cè)電路在ESD瞬態(tài)活動(dòng)下的仿真電壓和襯底觸發(fā)電流,其中給予VDD上升時(shí)間為10ns的0-5V電壓脈沖以仿真人體模型(HBM)ESD活動(dòng)的瞬態(tài)電壓。設(shè)置一個(gè)極限電壓為5V的電壓脈沖,仿真ESD檢測(cè)電路中各節(jié)點(diǎn)的電壓瞬態(tài)能檢測(cè)器件擊穿前的電路功能。新提出的ESD檢測(cè)電路中,SCR裝置應(yīng)該在器件擊穿前觸發(fā)。四、實(shí)驗(yàn)結(jié)果 圖6 (a)新提出的多電源ESD鉗位電路設(shè)計(jì)圖 (b)新提出的多電源ESD鉗位電路的測(cè)試樣品的芯片照片新提出的多電源ESD鉗位電路已經(jīng)在65nm CMOS工藝下制造。設(shè)計(jì)中所用到的全部器件

19、都是1V全硅化物器件,包括SCR器件。整個(gè)ESD鉗位電路的活動(dòng)區(qū)域(SCR寬為45m)僅49m×21m,圖6(a)中是設(shè)計(jì)圖。像ESD鉗位器件的SCR器件寬在測(cè)試芯片中有很多種,如30m、45m、60m和90m,這是為了證明通信ESD穩(wěn)定性。圖6(b)中是新提出的多電源ESD鉗位電路的測(cè)試樣品的芯片照片。A.導(dǎo)通驗(yàn)證圖7 ESD鉗位電路在VDD處的電壓波形,其中應(yīng)用的類似ESD的0-5V電壓加在開路測(cè)試初始脈沖波形SCR器件的導(dǎo)通特性對(duì)于ESD保護(hù)是一項(xiàng)重要指標(biāo),這已在文獻(xiàn)13-15給出。為驗(yàn)證超低漏電ESD鉗位電路的導(dǎo)通效率,使用一種上升時(shí)間大約為10ns和高電平為5V的方波仿真H

20、BM ESD脈沖的上升邊緣。當(dāng)給ESD鉗位電路的VDD正電壓脈沖且VSS接地時(shí),類似ESD電壓脈沖的上升邊緣將使ESD檢測(cè)電路產(chǎn)生襯底觸發(fā)電流以觸發(fā)SCR器件,并且在VDD和VSS之間提供一個(gè)低阻抗通路。圖7是ESD鉗位電路在VDD處的電壓波形,其中應(yīng)用的類似ESD的0-5V電壓加在開路測(cè)試初始脈沖波形。應(yīng)用的5V電壓脈沖通過有寬為45m 的SCR器件的ESD鉗位電路限制快速下降至一個(gè)穩(wěn)定低電平(2V左右)。從測(cè)試電壓波形中看出,新提出的ESD鉗位電路在壓力測(cè)試中證明了有優(yōu)異的導(dǎo)通效率。B.ESD穩(wěn)定性 圖8 不同寬度的SCR器件的ESD鉗位電路的TLP測(cè)試I-V圖圖9 SCR寬為45m的ES

21、D保護(hù)電路的TLP測(cè)試I-V圖在TLP上升時(shí)間為10ns、2ns和100ps的比較在壓力測(cè)試中研究ESD檢測(cè)電路中ESD鉗位器件的導(dǎo)通性能,使用脈沖寬度為100ns和上升時(shí)間大約為10ns的傳輸線脈沖(TLP)產(chǎn)生器測(cè)試ESD鉗位電路的第二次擊穿電流(It2)。圖8中是不同寬度的SCR器件的ESD鉗位電路的TLP測(cè)試I-V圖,其中襯底驅(qū)動(dòng)Mp1的器件尺寸保持在80m/0.12m。SCR的寬為45m、60m和90m的ESD鉗位電路的It2能分別達(dá)到4.54A、6.03A和9.24A。如果沒有任何的觸發(fā)電流,SCR器件的初始的觸發(fā)電壓高達(dá)11.5V,如圖8。然而,在新提出的ESD檢測(cè)電路中,上述的

22、觸發(fā)電壓可以降低到僅僅3至4V左右。因此,ESD鉗位電路的低觸發(fā)電壓和高It2值能確保有效的ESD保護(hù)能力。SCR器件的保持電壓大約為1.6V。在正常工作條件下,這種保持電壓高于VDD(1V)。盡管SCR器件會(huì)因?yàn)樵肼暩蓴_而錯(cuò)誤觸發(fā),但是它會(huì)在噪聲源恢復(fù)時(shí)自動(dòng)恢復(fù)。因此,新提出的多電源ESD鉗位電路在封閉條件下不會(huì)受影響。在更快的ESD瞬態(tài)活動(dòng)中評(píng)估ESD保護(hù)電路的效果,圖9是SCR寬為45m的ESD保護(hù)電路的TLP測(cè)試I-V圖在TLP上升時(shí)間為10ns、2ns和100ps的比較。在不同TLP上升時(shí)間下TLP測(cè)試I-V圖并沒有什么明顯的區(qū)別。新提出的ESD檢測(cè)電路有足夠快的速度導(dǎo)通SCR器件即

23、使是在僅僅200ps上升時(shí)間的瞬態(tài)脈沖條件下。表4中列出的是在VSS正輸入ESD壓力下不同SCR寬度的ESD鉗位電路的人體模型(HBM)ESD電平和機(jī)器模型(MM)16ESD電平。TLP測(cè)試的相應(yīng)二次擊穿電流(It2)也被列在表4中。故障標(biāo)準(zhǔn)定義為在每個(gè)ESD測(cè)試水平上連續(xù)修正三次后I-V圖曲線相比于初始曲線位移20%。在65nm CMOS工藝下,SCR的寬僅為45m的ESD鉗位電路的HBM和MM ESD電平分別能達(dá)到7kV和325V。圖10是不同SCR寬度的It2和MM ESD電平的曲線。圖10中可以看出It2在SCR的不同寬度下幾乎是一條直線,所以可以證明SCR的器件的導(dǎo)通一致性。然而,相

24、比于期望的直線,當(dāng)SCR寬度不斷增加至90m時(shí)MM ESD電平有所下降。在ESD檢測(cè)電路中基底驅(qū)動(dòng)(MP1)因?yàn)橄嗤叽缬邢薜尿?qū)動(dòng)能力,在更快的上升MM ESD激勵(lì)下大尺寸的SCR器件的導(dǎo)通效率沒有較小尺寸的器件有效。表4 在VSS正輸入ESD壓力下不同SCR寬度的ESD鉗位電路的人體模型(HBM)ESD電平和機(jī)器模型(MM)16ESD電平 圖10 不同SCR寬度的It2和MM ESD電平的曲線C.靜態(tài)漏電和設(shè)計(jì)適應(yīng)性 圖11 (a)和(b)中分別是不同尺寸Mp1和SCR器件的多電源ESD鉗位電路的靜態(tài)漏電電流和觸發(fā)電壓的測(cè)量結(jié)果 25時(shí),在1V偏置的45m寬的SCR的ESD鉗位電路靜態(tài)漏電電

25、流僅96nA。新提出的ESD鉗位電路的靜態(tài)漏電電流主要是由于ESD檢測(cè)電路中的Mp1,而從仿真結(jié)果來看MOS電容器的漏電電流僅僅23nA左右。增大Mp1的尺寸能提高SCR器件的導(dǎo)通速度,并且降低觸發(fā)電壓,但是在正常工作條件下它會(huì)產(chǎn)生較大的靜態(tài)漏電電流。圖11(a)和(b)中分別是不同尺寸Mp1和SCR器件的多電源ESD鉗位電路的靜態(tài)漏電電流和觸發(fā)電壓的測(cè)量結(jié)果。從圖11(a)中看出,45m和90m的SCR的多電源ESD鉗位電路的靜態(tài)漏電電流相近,因?yàn)镾CR器件中產(chǎn)生的漏電電流相當(dāng)小(25下小于1nA)。當(dāng)Mp1的尺寸從80m/0.12m增加到100m/0.12m,整個(gè)多電源ESD鉗位電路的靜態(tài)漏電電流在25且1V偏置下從96nA增加到115nA(125下從1.02A增加到1.28A),如圖11(a)中所示。然而,當(dāng)Mp1的尺寸增加時(shí),相應(yīng)的45m的SCR的觸發(fā)電壓能從3.7V減小到3.1V,如圖11(b)中所示。因此,整個(gè)ESD鉗

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