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文檔簡介
1、光刻機生產(chǎn)設(shè)備單機試運轉(zhuǎn)及驗收范例試運轉(zhuǎn)前應(yīng)檢查以下工程,并應(yīng)在符合要求后進(jìn)行單機試運轉(zhuǎn);1環(huán)境溫度應(yīng)為22c1,相對濕度應(yīng)為40%60%,潔凈度等級應(yīng)為5級, 室內(nèi)光線應(yīng)為黃色。2三相交流電源電壓應(yīng)為220V10%,頻率應(yīng)為50lHz。3機殼應(yīng)有良好的接地。4壓縮空氣壓力應(yīng)為0.50.7MPa。5真空壓力應(yīng)為一0.055-0.08MPa。6安裝間內(nèi)不得有腐蝕性氣體、電磁輻射,振動頻率大于等于10Hz時,安 裝機器周圍的振動幅度應(yīng)小于31am,振動頻率小于10Hz時,安裝機器周圍的振 動幅度應(yīng)小于1.5m0。7開機前按鈕均應(yīng)處在關(guān)閉狀態(tài)。驗收工程應(yīng)符合以下要求:1設(shè)備驗收應(yīng)符合表E. 1. 2
2、的規(guī)定。序號工程規(guī)范驗收條件測試數(shù)據(jù)1分辨率0.4 |im L&S鏡頭5個點位測試2公共焦深0.6um鏡頭5個點位的0.4um分 辨率的測試條測試3總體焦點偏差W0.40|bim鏡頭5個點位的0.4um分 辨率的測試條測試4像面傾斜Within0.35|im鏡頭5個點位測試5彎曲Within0.2(jm鏡頭5個點位測試7鏡頭畸變Within 50nm標(biāo)準(zhǔn)測試方式8焦點測量重復(fù)性3o WIOOnm20次測量9長期焦點穩(wěn)定性測試Within 0.3|Lim一周測試10鏡頭控制精度1)倍率控制精度2)焦點控制精度Within 20nmWithin 0.15um鏡頭加熱lOOmin,冷卻 180min
3、測試11最大曝光區(qū)域22.0mm(hor.) x22.0mm(ver.)顯微鏡下觀察12光罩擋板精度+0.4mm +0.8mm (on reticle)顯微鏡下觀察13曝光能量工 620mW/cm2使用照度計測量14光強均勻性Within 1.5%5次測試15積分曝光控制精度50 mJ/cm2 or1)moreWithin 1.0%使用照度計測量2) 100 mJ/cm2Within 0.5%16光罩旋轉(zhuǎn)測試精度M +3o 20nm測試值比照目標(biāo)值17套刻精度1) FIA-EGAM +3。 75nm鏡頭5點測試2) LSA-EGA *M +3a 75nm18正交性測試Within O.lsec
4、.3個晶圓的平均值19步進(jìn)精度3o 45nm鏡頭22點測試,2個晶圓20預(yù)對位精度3o 15|im統(tǒng)日日圓60次測里,包括x、 v、 So21傳送測試1)晶圓傳輸系統(tǒng)成功率:工99%500個一組測試2)十字傳輸系統(tǒng)成功率:100%10個一組測試2設(shè)備自動化要求設(shè)備需具備SMIF INTERFACE功能,設(shè)備需要支持SECS協(xié)議通訊,通訊方式 需支持RS232或HSMS(TCP/IP),且硬件和軟件功能都必須完好可用,提供對應(yīng) SECS Manual,提供對設(shè)備工作流的說明,提供機臺對應(yīng)VID LIST, SVID LIST, ECID LIST, CEID LIST說明,提供解析Recipe Body的對應(yīng)說明。3設(shè)備平安測試測試根據(jù)國際半導(dǎo)體設(shè)備暨材料SEMI-S93a準(zhǔn)那么。對該設(shè)備的EMO按鈕和安 全聯(lián)鎖進(jìn)行逐一測試:激活時設(shè)備能夠進(jìn)行下一步運行功能,如果一旦失效,設(shè) 備不能進(jìn)行下
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