圖形轉(zhuǎn)移原理課件

圖形轉(zhuǎn)移原理技術(shù)中心李雷圖形轉(zhuǎn)移PCB制造工藝（Technology）中，無(wú)論是單、雙面板及多層板（MLB），最基本、最關(guān)鍵的工序之一是圖形轉(zhuǎn)移，即將照相底版（Art-work）圖形轉(zhuǎn)移到敷銅箔基材上。圖形轉(zhuǎn)移是生產(chǎn)中的關(guān)鍵控制點(diǎn)，也是技術(shù)難點(diǎn)所在。其工藝方法有很多，如絲網(wǎng)印刷（ScreenPrinting）圖形轉(zhuǎn)移工藝、干膜（DryFilm）圖形轉(zhuǎn)移工藝、液態(tài)光致抗蝕劑（LiquidPhotoresist）圖形轉(zhuǎn)移工藝、電沉積光致抗蝕劑（ED膜）制作工藝以及激光直接成像技術(shù)（LaserDrectImage）。電子裝聯(lián)底片繪制方法圖形轉(zhuǎn)移主要光致抗蝕劑形式1：干膜（DryFilm）圖形轉(zhuǎn)移工藝：

構(gòu)造：聚酯膜（PETFILM)，聚乙烯膜（PEFILM）及干的感光樹脂膜組成的三明治結(jié)構(gòu)。2：液態(tài)光致抗蝕劑（LiquidPhotoresist）圖形轉(zhuǎn)移工藝：

液態(tài)光致抗蝕劑，有光分解型的正性膜和光聚合型的負(fù)性膜，以負(fù)性膜使用較廣泛。3：電沉積光致抗蝕劑（ED膜）制作工藝：

將感光性物質(zhì)做成膠體，再以電泳法析出在電路板上。膠體特性可以為正性或負(fù)性，有較好的均勻覆蓋性，對(duì)不平整或彎曲的表面有良好的覆蓋性，主要用于細(xì)線路制程和通孔封孔制程。圖形轉(zhuǎn)移流程基板壓膜/涂布後曝光顯影蝕銅去膜壓膜/涂布前處理方法機(jī)械方式處理：磨板：酸洗－－－磨板－－－烘干特點(diǎn)：用尼龍軟刷和著氧化鋁粉在板面磨刷形成粗化表面，會(huì)形成方向性紋路，刷磨表面不均勻，對(duì)細(xì)線路制作不利。板面易殘留磨料和銅粉，板面清潔度較差。表面粗糙度較好。噴砂：酸洗－－－噴砂－－－烘干特點(diǎn)：用高壓將磨料（氧化鋁或炭化硅）高速噴向板面，形成粗化表面，同磨板一樣存在板面殘留磨料和銅粉的問(wèn)題。表面粗度小而且密。但噴管更換頻繁，成本較高?；瘜W(xué)方式處理：除油－－－微蝕－－－酸洗－－－烘干特點(diǎn)：用化學(xué)微蝕的辦法獲得表面粗糙度，對(duì)不同板厚無(wú)需調(diào)整磨痕，不存在磨板的卷板問(wèn)題，處理后表面較干凈。但表面粗糙度較差。濕膜用該種方式進(jìn)行前處理。前處理異常處理注意事項(xiàng)項(xiàng)目12345檢查項(xiàng)目水膜試驗(yàn)氧化雜質(zhì)板邊屑板面磨料異常項(xiàng)目30秒以下烘干后仍有氧化現(xiàn)象烘干后板面有雜質(zhì)板邊切割不佳、板邊毛刺過(guò)多板面、烘干段，水洗槽有磨料檢查方法目視目視目視目視目視處理對(duì)策檢查各藥液濃度是否在范圍內(nèi)，板面是否有油污污染檢查滾輪清潔度及吸水滾輪是否異常。水洗是否打開等檢查水洗或烘干是否異常，壓輥有無(wú)掉渣。通知主任領(lǐng)班，嚴(yán)重的由下料返工處理通知主任領(lǐng)班，檢查磨料分離器是否正常，高壓水洗沖洗不足貼膜、滾涂異常處理項(xiàng)目濕膜涂布干膜貼膜檢查項(xiàng)目膜厚雜質(zhì)貼膜氣泡膜下臟物氧化異常項(xiàng)目膜厚是否在10±2um之間涂布品質(zhì)異?；蚯疤幚戆迕嬗须s質(zhì)貼膜后檢查板面有氣泡割膜碎膜或前處理板面有雜質(zhì)烘干后仍有氧化現(xiàn)象檢查方式膜厚計(jì)測(cè)量目視目視，首件目視目視處理對(duì)策重新調(diào)整滾輪間距或檢查油墨粘度檢查前處理，烘箱內(nèi)部衛(wèi)生更換膠輥或補(bǔ)硅膠檢查前處理傳送壓輥烘干段衛(wèi)生，割膜刀片等檢查滾輪清潔度及吸水滾輪是否異常。水洗是否打開等曝光干膜、濕膜UV光UV光底片曝光反應(yīng)原理曝光示意圖未聚合之干/濕膜曝光聚合之干/濕膜平行光與非平行光它是放于板邊與正常板一樣曝光，停置及顯影后，其21格上之干膜殘留有顏色漸淡，至完全露銅的變化，最重要視其已顯影及仍留存板面之交界是在第幾格。1.能量的設(shè)定

曝光機(jī)中有光能量之累積計(jì)算器，光能量子(以焦耳或毫焦耳為單位)是指

光強(qiáng)度（瓦特或毫瓦特）與時(shí)間的乘積，即

mili-Joule=miliWatt╳Sec.

焦耳＝瓦特╳秒

曝光機(jī)上有可以調(diào)動(dòng)的光能量數(shù)字鍵并有測(cè)強(qiáng)度之裝置，當(dāng)設(shè)定某一光