光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展綜述課件

薄膜光學(xué)——光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展綜述薄膜光學(xué)11、光學(xué)薄膜的歷史背景4、光學(xué)薄膜標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展建議3、光學(xué)薄膜標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展概況2、光學(xué)薄膜技術(shù)相關(guān)領(lǐng)域

目錄1、光學(xué)薄膜的歷史背景4、光學(xué)薄膜標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展建議3、光學(xué)薄膜標(biāo)2光學(xué)薄膜的使用始于20世紀(jì)30年代，至今已應(yīng)形成一門獨(dú)立的技術(shù)，廣泛應(yīng)用在天文、軍事、醫(yī)學(xué)、科學(xué)檢測(cè)、光顯示和光通訊等行業(yè)。光學(xué)薄膜能改善系統(tǒng)性能（如：分束、濾光等），是滿足目標(biāo)的必要手段，對(duì)光學(xué)儀器的質(zhì)量起著重要或決定性的作用。近三十年來(lái)，隨著我國(guó)光學(xué)與光電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，光學(xué)薄膜技術(shù)在鍍制設(shè)備、膜系設(shè)計(jì)、特性測(cè)試和應(yīng)用開發(fā)等方面取得了廣泛的成果，形成了相當(dāng)?shù)漠a(chǎn)業(yè)規(guī)模，產(chǎn)品正在走向國(guó)際化“隨著光學(xué)薄膜技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的擴(kuò)大，其生產(chǎn)的社會(huì)化程度逐漸提高，技術(shù)要求日趨復(fù)雜，因此對(duì)標(biāo)準(zhǔn)化的要求也越來(lái)越高”。光學(xué)薄膜的歷史背景光學(xué)薄膜的使用始于20世紀(jì)30年代，至今已應(yīng)形成一門獨(dú)立的技3什么是標(biāo)準(zhǔn)化？所謂標(biāo)準(zhǔn)化，是為了在一定范圍內(nèi)獲得最佳秩序，對(duì)現(xiàn)實(shí)問(wèn)題或潛在問(wèn)題制定共同使用和重復(fù)使用的條款的活動(dòng)?！皹?biāo)準(zhǔn)化活動(dòng)最終會(huì)形成標(biāo)準(zhǔn)，其定義為：為了在一定范圍內(nèi)獲得最佳秩序，經(jīng)協(xié)商一致制定并由公認(rèn)機(jī)構(gòu)批準(zhǔn)，共同使用的和重復(fù)使用的一種規(guī)范性文件。“完善的標(biāo)準(zhǔn)化體系對(duì)促進(jìn)產(chǎn)品在技術(shù)上的相互協(xié)調(diào)配合、優(yōu)化產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、增強(qiáng)產(chǎn)品的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力等方面具有不可估量的作用。是國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展的重要技術(shù)支撐”。什么是標(biāo)準(zhǔn)化？所謂標(biāo)準(zhǔn)化，是為了在一定范圍內(nèi)獲得最佳秩序，對(duì)4環(huán)境適應(yīng)性膜層功能產(chǎn)品應(yīng)用表面疵病面型偏差膜層功能光學(xué)薄膜可實(shí)現(xiàn)諸如反射、增透、濾光、分束等不同功能，以滿足多樣化的設(shè)計(jì)要求，不同膜層功能需要用不同的技術(shù)指標(biāo)去描述和評(píng)判"光學(xué)薄膜技術(shù)相關(guān)領(lǐng)域?qū)嶋H光學(xué)表面與理想光學(xué)表面必然存在一定的偏差，這稱為面形偏差，在光學(xué)薄膜領(lǐng)域，面形偏差一方面由基片加工水平?jīng)Q定，另一方面也會(huì)受到膜層應(yīng)力的影響而降低或加劇"鍍膜表面會(huì)存在一定的缺陷，如麻點(diǎn)、擦痕等，統(tǒng)稱為表面疵病“。表面疵病程度會(huì)影響光學(xué)系統(tǒng)的性能，進(jìn)而制約著光學(xué)薄膜的用途"光學(xué)薄膜必然工作于一定的環(huán)境條件，如：溫度、濕度等，而在該條件下薄膜能否長(zhǎng)久穩(wěn)定工作，體現(xiàn)了光學(xué)薄膜環(huán)境適應(yīng)性的強(qiáng)弱“環(huán)境適應(yīng)性是評(píng)判光學(xué)薄膜的一項(xiàng)重要因素，需要用一定的環(huán)境試驗(yàn)來(lái)檢驗(yàn)"光學(xué)薄膜最終會(huì)形成產(chǎn)品，光學(xué)元件，安裝在儀器中以滿足一定的使用要求，一種應(yīng)用類型的光學(xué)薄膜產(chǎn)品中可能涉及多個(gè)功能的膜層。環(huán)境適應(yīng)性膜層功能產(chǎn)品應(yīng)用表面疵病面型偏差膜層功能光學(xué)薄膜可5面形偏差類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展國(guó)內(nèi)面形偏差類標(biāo)準(zhǔn)只有GB/T2831,其最早是頒布于1982年，即GB2831-81《光學(xué)零部件的面型偏差檢驗(yàn)方法（光圈識(shí)別）》。該標(biāo)準(zhǔn)適用于以等厚光波干涉原理檢驗(yàn)球（包括平面）光學(xué)零部件的面形偏差，其提出的用“光圈”描述面形偏差的方法，在國(guó)內(nèi)獲得普遍應(yīng)用。2009年，該標(biāo)準(zhǔn)參照國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO10110-5:2007進(jìn)行修訂，即GB/T2831-29《光學(xué)零件的面形偏差》，國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的接軌。修訂后保留了“光圈”的描述方式，同時(shí)引進(jìn)了國(guó)際上描述面型偏差的術(shù)語(yǔ)，如“PV值”“rms值”等，初步實(shí)現(xiàn)了與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的接軌。面形偏差類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展國(guó)內(nèi)面形偏差類標(biāo)準(zhǔn)只有GB/T2831,6表面疵病類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展（1）GB1185-74《光學(xué)零件表面疵病》（2）GB1185-89《光學(xué)零件表面疵病》（3）GB1185-2006《光學(xué)零件表面疵病》“89版標(biāo)準(zhǔn)”在2006年再次進(jìn)行了修訂，此次修訂是根據(jù)ISO110-7:1996和ISO14997；2003這兩個(gè)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)重新起草的?！?6版標(biāo)準(zhǔn)”延續(xù)了“89版標(biāo)準(zhǔn)”的表面疵病表征方式，增加了表面疵病未注公差，可視度要求等技術(shù)內(nèi)容，標(biāo)準(zhǔn)顯得更加細(xì)膩。目前，“06版標(biāo)準(zhǔn)”修訂時(shí)參照的兩個(gè)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)已更新為ISO10110-7:2008和ISO14997:2011，“06版”也將面臨再次修改。表面疵病類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展（1）GB1185-74《光學(xué)零件表面疵7光學(xué)薄膜標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展概況（1）1977——1987年膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“起步階段”（2）1988——1995年膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“快速發(fā)展階段”（3）1996——2009年膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“發(fā)展停滯階段”（4）2010——現(xiàn)在膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“發(fā)展復(fù)蘇階段”光（1）1977——1987年膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“起8光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展綜述課件9光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展綜述課件10光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展綜述課件11光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展綜述課件12光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展建議經(jīng)過(guò)幾十年的發(fā)展，我國(guó)的標(biāo)準(zhǔn)化工作取得了相當(dāng)?shù)某尚В瑯?biāo)準(zhǔn)的數(shù)量和質(zhì)量都不斷提升，并開始逐步與國(guó)際接軌，這從上文對(duì)光學(xué)薄膜領(lǐng)域標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展情況的分析中可窺見一斑。今后，建議從以下幾個(gè)方面來(lái)完善光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)：（1）對(duì)落后標(biāo)準(zhǔn)的更新；（2）標(biāo)準(zhǔn)系列化發(fā)展；（3）標(biāo)準(zhǔn)引用統(tǒng)一；（4）為復(fù)雜標(biāo)準(zhǔn)提供必要的說(shuō)明文件；（5）根據(jù)行業(yè)需求發(fā)布新標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展建議經(jīng)過(guò)幾十年的發(fā)展，我國(guó)的標(biāo)準(zhǔn)化工作取13參考文獻(xiàn)：高鵬，陰曉俊，趙帥鋒.光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展綜述[J].光學(xué)儀器.2014,36(5).464-470.參考文獻(xiàn)：14Thankyou!!!!Thankyou!!!!15薄膜光學(xué)——光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展綜述薄膜光學(xué)161、光學(xué)薄膜的歷史背景4、光學(xué)薄膜標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展建議3、光學(xué)薄膜標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展概況2、光學(xué)薄膜技術(shù)相關(guān)領(lǐng)域

目錄1、光學(xué)薄膜的歷史背景4、光學(xué)薄膜標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展建議3、光學(xué)薄膜標(biāo)17光學(xué)薄膜的使用始于20世紀(jì)30年代，至今已應(yīng)形成一門獨(dú)立的技術(shù)，廣泛應(yīng)用在天文、軍事、醫(yī)學(xué)、科學(xué)檢測(cè)、光顯示和光通訊等行業(yè)。光學(xué)薄膜能改善系統(tǒng)性能（如：分束、濾光等），是滿足目標(biāo)的必要手段，對(duì)光學(xué)儀器的質(zhì)量起著重要或決定性的作用。近三十年來(lái)，隨著我國(guó)光學(xué)與光電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，光學(xué)薄膜技術(shù)在鍍制設(shè)備、膜系設(shè)計(jì)、特性測(cè)試和應(yīng)用開發(fā)等方面取得了廣泛的成果，形成了相當(dāng)?shù)漠a(chǎn)業(yè)規(guī)模，產(chǎn)品正在走向國(guó)際化“隨著光學(xué)薄膜技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的擴(kuò)大，其生產(chǎn)的社會(huì)化程度逐漸提高，技術(shù)要求日趨復(fù)雜，因此對(duì)標(biāo)準(zhǔn)化的要求也越來(lái)越高”。光學(xué)薄膜的歷史背景光學(xué)薄膜的使用始于20世紀(jì)30年代，至今已應(yīng)形成一門獨(dú)立的技18什么是標(biāo)準(zhǔn)化？所謂標(biāo)準(zhǔn)化，是為了在一定范圍內(nèi)獲得最佳秩序，對(duì)現(xiàn)實(shí)問(wèn)題或潛在問(wèn)題制定共同使用和重復(fù)使用的條款的活動(dòng)。“標(biāo)準(zhǔn)化活動(dòng)最終會(huì)形成標(biāo)準(zhǔn)，其定義為：為了在一定范圍內(nèi)獲得最佳秩序，經(jīng)協(xié)商一致制定并由公認(rèn)機(jī)構(gòu)批準(zhǔn)，共同使用的和重復(fù)使用的一種規(guī)范性文件?！巴晟频臉?biāo)準(zhǔn)化體系對(duì)促進(jìn)產(chǎn)品在技術(shù)上的相互協(xié)調(diào)配合、優(yōu)化產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、增強(qiáng)產(chǎn)品的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力等方面具有不可估量的作用。是國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展的重要技術(shù)支撐”。什么是標(biāo)準(zhǔn)化？所謂標(biāo)準(zhǔn)化，是為了在一定范圍內(nèi)獲得最佳秩序，對(duì)19環(huán)境適應(yīng)性膜層功能產(chǎn)品應(yīng)用表面疵病面型偏差膜層功能光學(xué)薄膜可實(shí)現(xiàn)諸如反射、增透、濾光、分束等不同功能，以滿足多樣化的設(shè)計(jì)要求，不同膜層功能需要用不同的技術(shù)指標(biāo)去描述和評(píng)判"光學(xué)薄膜技術(shù)相關(guān)領(lǐng)域?qū)嶋H光學(xué)表面與理想光學(xué)表面必然存在一定的偏差，這稱為面形偏差，在光學(xué)薄膜領(lǐng)域，面形偏差一方面由基片加工水平?jīng)Q定，另一方面也會(huì)受到膜層應(yīng)力的影響而降低或加劇"鍍膜表面會(huì)存在一定的缺陷，如麻點(diǎn)、擦痕等，統(tǒng)稱為表面疵病“。表面疵病程度會(huì)影響光學(xué)系統(tǒng)的性能，進(jìn)而制約著光學(xué)薄膜的用途"光學(xué)薄膜必然工作于一定的環(huán)境條件，如：溫度、濕度等，而在該條件下薄膜能否長(zhǎng)久穩(wěn)定工作，體現(xiàn)了光學(xué)薄膜環(huán)境適應(yīng)性的強(qiáng)弱“環(huán)境適應(yīng)性是評(píng)判光學(xué)薄膜的一項(xiàng)重要因素，需要用一定的環(huán)境試驗(yàn)來(lái)檢驗(yàn)"光學(xué)薄膜最終會(huì)形成產(chǎn)品，光學(xué)元件，安裝在儀器中以滿足一定的使用要求，一種應(yīng)用類型的光學(xué)薄膜產(chǎn)品中可能涉及多個(gè)功能的膜層。環(huán)境適應(yīng)性膜層功能產(chǎn)品應(yīng)用表面疵病面型偏差膜層功能光學(xué)薄膜可20面形偏差類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展國(guó)內(nèi)面形偏差類標(biāo)準(zhǔn)只有GB/T2831,其最早是頒布于1982年，即GB2831-81《光學(xué)零部件的面型偏差檢驗(yàn)方法（光圈識(shí)別）》。該標(biāo)準(zhǔn)適用于以等厚光波干涉原理檢驗(yàn)球（包括平面）光學(xué)零部件的面形偏差，其提出的用“光圈”描述面形偏差的方法，在國(guó)內(nèi)獲得普遍應(yīng)用。2009年，該標(biāo)準(zhǔn)參照國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO10110-5:2007進(jìn)行修訂，即GB/T2831-29《光學(xué)零件的面形偏差》，國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的接軌。修訂后保留了“光圈”的描述方式，同時(shí)引進(jìn)了國(guó)際上描述面型偏差的術(shù)語(yǔ)，如“PV值”“rms值”等，初步實(shí)現(xiàn)了與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的接軌。面形偏差類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展國(guó)內(nèi)面形偏差類標(biāo)準(zhǔn)只有GB/T2831,21表面疵病類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展（1）GB1185-74《光學(xué)零件表面疵病》（2）GB1185-89《光學(xué)零件表面疵病》（3）GB1185-2006《光學(xué)零件表面疵病》“89版標(biāo)準(zhǔn)”在2006年再次進(jìn)行了修訂，此次修訂是根據(jù)ISO110-7:1996和ISO14997；2003這兩個(gè)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)重新起草的。“06版標(biāo)準(zhǔn)”延續(xù)了“89版標(biāo)準(zhǔn)”的表面疵病表征方式，增加了表面疵病未注公差，可視度要求等技術(shù)內(nèi)容，標(biāo)準(zhǔn)顯得更加細(xì)膩。目前，“06版標(biāo)準(zhǔn)”修訂時(shí)參照的兩個(gè)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)已更新為ISO10110-7:2008和ISO14997:2011，“06版”也將面臨再次修改。表面疵病類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展（1）GB1185-74《光學(xué)零件表面疵22光學(xué)薄膜標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展概況（1）1977——1987年膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“起步階段”（2）1988——1995年膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“快速發(fā)展階段”（3）1996——2009年膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“發(fā)展停滯階段”（4）2010——現(xiàn)在膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“發(fā)展復(fù)蘇階段”光（1）1977——1987年膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“起23光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展綜述課件24光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展綜述課件25光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展綜述課件26光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展綜述課件27光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展建議經(jīng)過(guò)幾十年的發(fā)展，我國(guó)的標(biāo)準(zhǔn)化工作取得了相當(dāng)?shù)某尚?，?biāo)準(zhǔn)的數(shù)量和質(zhì)量都不斷提升，并開始逐步與國(guó)際接軌，這從上文對(duì)光學(xué)薄膜領(lǐng)域標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展情況的分析中可窺見一斑。今