去離子水設(shè)備簡(jiǎn)介課件

去離子水設(shè)備簡(jiǎn)介1、去離子水設(shè)備介紹去離子水機(jī)采用技術(shù)成熟，先進(jìn)的反滲透設(shè)備主要是通過(guò)膜兩側(cè)的壓差為動(dòng)力，只允許水通過(guò)而截留除了氫離子和氧離子的其他離子，對(duì)各種離子除去率也不一樣，這個(gè)也是由于其結(jié)構(gòu)和原理所決定的，據(jù)統(tǒng)計(jì)反滲透對(duì)3+離子的去除率大概在95%-99%,對(duì)2+離子的去除率在92%-99%%，對(duì)1+離子去除率在70%-95%左右。對(duì)2-陰離子去除率80%-90%，1-陰離子去除率在75%-95%左右，除硝酸根離子去除率50%-75%。2、去離子水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：1、制取電子工業(yè)生產(chǎn)水處理設(shè)備如單晶硅純水設(shè)備、半導(dǎo)體純水處理、集成電路塊用水設(shè)備、IC芯片封裝用水工程、顯像管用水處理、玻殼超純水處理、LCD清洗用水、光學(xué)水處理、光電用水處理、熱電廠用水處理、冶金工業(yè)用水、化工純水設(shè)備、輕工工程用水、汽車制造清洗用水、制藥純化水、醫(yī)療衛(wèi)生等制造工業(yè)用純水。

2、單晶硅超純水處理、半導(dǎo)體純水設(shè)備、集成電路塊用水、IC芯片封裝行業(yè)純水設(shè)備、太陽(yáng)能硅片清洗水設(shè)備

3、醫(yī)藥行業(yè)用水，制藥無(wú)菌注射用水、制劑工藝用水，醫(yī)療血液透析用水、生化分析純水處理、輸液醫(yī)藥用水等。8、石油化工如化工反應(yīng)冷卻用水、化學(xué)藥劑工業(yè)用水，工藝用水、化肥及精細(xì)化工、化妝品制造過(guò)程用工藝純水。

9、去離子水、CEDI水、超純水、軟化水、電子工業(yè)用超純水、單/多晶硅超純水、半導(dǎo)體晶片切割制造用水工藝、半導(dǎo)體芯片清洗用水、半導(dǎo)體封裝用水設(shè)備、引線框架、集成電路、LCD液晶顯示器用純水、導(dǎo)電玻璃超純水設(shè)備、顯像管、線路板、光駝信、電腦元件、電容元器件等生產(chǎn)工業(yè)用純水。10、太陽(yáng)能硅片純水處理，PCB超純水，半導(dǎo)體LED超純水處理設(shè)備，電視機(jī)純水處理、錄音機(jī)水處理、音響純水設(shè)備、洗衣機(jī)純水工藝、電飯鍋純水處理、微波爐純水處理、電話純水處理太陽(yáng)能汽車水處理/晶體管水處理設(shè)備/半導(dǎo)體三極管純水處理助聽器水處理設(shè)備單晶硅圓片水處理設(shè)備，非晶半導(dǎo)體材料水處理設(shè)備，微晶半導(dǎo)體材料水處理設(shè)備高密度印制電路板水處理設(shè)備光伏材料水處理非靜態(tài)半導(dǎo)體水處理，電路元件水處理，陶瓷半導(dǎo)體材料水處理設(shè)備，硅料純水處理，硅錠純水處理，硅塊純水處理，硅片純水處理設(shè)備，封裝玻璃純水處理設(shè)備封裝薄膜純水處理CEDI超純水、員工直飲水、光觸媒工程、工業(yè)生產(chǎn)用水、離子交換超純水、混床高純水、電鍍水，保健行業(yè)用純水、食品用純水、EDI超純水。去離子方法對(duì)比傳統(tǒng)的去離子設(shè)備方法是：蒸餾，離子交換，電滲析等。去離子水設(shè)備是結(jié)合電滲析，離子交換手段，全新的去離子方法。與傳統(tǒng)的去離子方法相比，耗電量少，設(shè)備占地小，投資省，使用方便，安裝簡(jiǎn)單，不需專人安裝。只需接個(gè)進(jìn)出水口及排水口。設(shè)備的配置齊全，基本不需要另購(gòu)配