GB/T 15076.6-2020鉭鈮化學(xué)分析方法第6部分:硅量的測定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法

ICS7712099

H14..

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T150766—2020

代替.

GB/T15076.6—1994

鉭鈮化學(xué)分析方法

第6部分硅量的測定

:

電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法

Methodsforchemicalanalysisoftantalumandniobium—

Part6Determinationofsiliconcontent—

:

Inductivelycoupledplasmaatomicemissionspectrometry

2020-03-06發(fā)布2021-02-01實(shí)施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T150766—2020

.

前言

鉭鈮化學(xué)分析方法分為個(gè)部分

GB/T15076《》16:

第部分鈮中鉭量的測定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法

———1:;

第部分鉭中鈮量的測定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法和色層分離重量法

———2:;

第部分銅量的測定火焰原子吸收光譜法

———3:;

第部分鐵量的測定二氮雜菲分光光度法

———4:1,10-;

第部分鉬量和鎢量的測定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法

———5:;

第部分硅量的測定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法

———6:;

第部分鈮中磷量的測定甲基戊酮萃取分離磷鉬藍(lán)分光光度法和電感耦合等離子

———7:4---[2]

體原子發(fā)射光譜法

;

第部分碳量和硫量的測定高頻燃燒紅外吸收法

———8:;

第部分鉭中鐵鉻鎳錳鈦鋁銅錫鉛和鋯量的測定直流電弧原子發(fā)射光譜法

———9:、、、、、、、、;

第部分鈮中鐵鎳鉻鈦鋯鋁和錳量的測定直流電弧原子發(fā)射光譜法

———10:、、、、、;

第部分鈮中砷銻鉛錫和鉍量的測定直流電弧原子發(fā)射光譜法

———11:、、、;

第部分鉭中磷量的測定乙酸乙酯萃取分離磷鉬藍(lán)分光光度法

———12:;

第部分氮量的測定惰氣熔融熱導(dǎo)法

———13:;

第部分氧量的測定惰氣熔融紅外吸收法

———14:;

第部分氫量的測定惰氣熔融熱導(dǎo)法

———15:;

第部分鈉量和鉀含量的測定火焰原子吸收光譜法

———16:。

本部分為的第部分

GB/T150766。

本部分按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本部分代替鉭鈮化學(xué)分析方法鉭中硅量的測定本部分與

GB/T15076.6—1994《》。GB/T15076.6—

相比除編輯性修改外主要技術(shù)變化如下

1994,:

改變了測定方法由分光光度法修改為電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法

———,“”“”;

擴(kuò)大了測定范圍測定范圍由修改為見第章

———,“0.0005%~0.070%”“0.0005%~0.50%”(1,

年版的第章和第章

199419);

刪除了引用標(biāo)準(zhǔn)見年版的第章

———(19942);

增加了樣品條款見第章

———(5);

增加了精密度條款見第章

———(8);

增加了試驗(yàn)報(bào)告條款見第章

———(9)。

本部分由中國有色金屬工業(yè)協(xié)會(huì)提出

。

本部分由全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC243)。

本部分起草單位寧夏東方鉭業(yè)股份有限公司廣東廣晟稀有金屬光電新材料有限公司西北稀有

:、、

金屬材料研究院寧夏有限公司九江有色金屬冶煉有限公司西安漢唐分析檢測有限公司

、、。

本部分主要起草人張俊峰黃雙許寧輝張眾王巧謝璐賈夢(mèng)琳劉剛張金菊

:、、、、、、、、。

本部分所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為

:

———GB/T15076.6—1994。

Ⅰ

GB/T150766—2020

.

鉭鈮化學(xué)分析方法

第6部分硅量的測定

:

電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法

1范圍

的本部分規(guī)定了電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法測定鉭鈮中硅含量

GB/T15076、。

本部分適用于鉭鈮及其氫氧化物氧化物碳化物和氟鉭酸鉀中硅含量的測定測定范圍

、、、。:

0.0005%~0.50%。

2原理

試料用硝酸和氫氟酸溶解在稀酸介質(zhì)中以氬等離子體為離子化源直接進(jìn)行電感耦合等離子體

,,,

原子發(fā)射光譜測定

。

3試劑或材料

除非另有說明在分析中僅使用確認(rèn)為級(jí)試劑和實(shí)驗(yàn)室二級(jí)水

,MOS。

31硝酸ρ

.(=1.42g/mL)。

32氫氟酸ρ

.(=1.14g/mL)。

33金屬鉭ww

.(Ta≥99.99%,Si≤0.0001%)。

34金屬鈮ww

.(Nb≥99.99%,Si≤0.0001%)。

35硅標(biāo)準(zhǔn)貯存溶液稱取二氧化硅w于鉑坩堝中加入碳酸鈉碳酸鉀

.:2.1394g(SiO2≥99.99%),10g-

混合熔劑混勻在噴燈上熔融至清亮再灼燒冷卻后用熱水浸取加熱到溶液澄清冷卻后移

,,,10min。,,

入容量瓶中用水稀釋到刻度混勻此溶液含硅貯存于聚乙烯瓶中

1000mL,,。1mL1mg。。

36硅標(biāo)準(zhǔn)溶液移取硅標(biāo)準(zhǔn)貯存溶液于容量瓶中以水稀釋至刻度混勻

.:10.00mL(3.5)100mL,,。

此溶液含硅貯存于聚乙烯瓶中

1mL100μg。。

37氬氣體積分?jǐn)?shù)不小于

.(99.99%)。

4儀器設(shè)備