標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 15878-2015 半導(dǎo)體集成電路 小外形封裝引線框架規(guī)范》與之前的《GB/T 15878-1995 小外形封裝引線框架規(guī)范》相比,主要在以下幾個方面進(jìn)行了更新和調(diào)整:
-
適用范圍擴(kuò)展:2015版標(biāo)準(zhǔn)不僅適用于傳統(tǒng)的半導(dǎo)體集成電路小外形封裝引線框架,還納入了更多新型封裝技術(shù)和材料的要求,以適應(yīng)半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)的快速發(fā)展。
-
技術(shù)參數(shù)更新:針對引線框架的尺寸、形狀、材料性能等方面,新標(biāo)準(zhǔn)提供了更詳細(xì)和嚴(yán)格的技術(shù)指標(biāo)。例如,對引線框架的尺寸公差、平面度、厚度均勻性等參數(shù)提出了更高要求,以保證封裝產(chǎn)品的可靠性和兼容性。
-
材料與表面處理規(guī)范:2015版標(biāo)準(zhǔn)加入了對環(huán)保材料使用的規(guī)定,鼓勵采用無鉛、無鹵等環(huán)保材料,并對引線框架的鍍層種類、厚度及均勻性給出了新的要求,旨在提高產(chǎn)品環(huán)保性能和長期可靠性。
-
測試方法與檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn):新標(biāo)準(zhǔn)引入了更為先進(jìn)的測試方法和檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn),對引線框架的機(jī)械強(qiáng)度、電性能、耐腐蝕性等方面的檢測提供了詳細(xì)的指導(dǎo),確保產(chǎn)品質(zhì)量控制的準(zhǔn)確性和一致性。
-
質(zhì)量管理體系要求:強(qiáng)調(diào)了在整個生產(chǎn)過程中質(zhì)量控制的重要性,要求企業(yè)建立更加完善的質(zhì)量管理體系,包括原材料采購、生產(chǎn)加工、成品檢驗(yàn)及追溯機(jī)制等,以符合國際標(biāo)準(zhǔn)化組織ISO的相關(guān)質(zhì)量管理標(biāo)準(zhǔn)。
-
文檔與標(biāo)識:對產(chǎn)品標(biāo)識、包裝、運(yùn)輸及存儲條件等也做出了更具體的規(guī)定,確保信息的準(zhǔn)確傳遞和產(chǎn)品的妥善處理,減少在供應(yīng)鏈中的損壞風(fēng)險。
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....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2015-05-15 頒布
- 2016-01-01 實(shí)施
文檔簡介
ICS31200
L56.
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T15878—2015
代替
GB/T15878—1995
半導(dǎo)體集成電路
小外形封裝引線框架規(guī)范
Semiconductorintegratedcircuits—
Specificationofleadframesforsmalloutlinepackage
2015-05-15發(fā)布2016-01-01實(shí)施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
GB/T15878—2015
目次
前言
…………………………Ⅰ
范圍
1………………………1
規(guī)范性引用文件
2…………………………1
術(shù)語和定義
3………………1
技術(shù)要求
4…………………1
引線框架尺寸
4.1………………………1
引線框架形狀和位置公差
4.2…………1
引線框架外觀
4.3………………………2
引線框架鍍層
4.4………………………3
引線框架外引線強(qiáng)度
4.5………………3
銅剝離試驗(yàn)
4.6…………………………3
銀剝離試驗(yàn)
4.7…………………………3
檢驗(yàn)規(guī)則
5…………………3
檢驗(yàn)批的構(gòu)成
5.1………………………3
鑒定批準(zhǔn)程序
5.2………………………4
質(zhì)量一致性檢驗(yàn)
5.3……………………4
訂貨資料
6…………………6
標(biāo)志包裝運(yùn)輸貯存
7、、、……………………6
標(biāo)志包裝
7.1、……………6
運(yùn)輸貯存
7.2、……………7
附錄規(guī)范性附錄引線框架機(jī)械測量
A()………………8
GB/T15878—2015
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)代替小外形封裝引線框架規(guī)范
GB/T15878—1995《》。
本標(biāo)準(zhǔn)與相比主要變化如下
GB/T15878—1995:
按照標(biāo)準(zhǔn)的使用范圍將原標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)名稱修改為半導(dǎo)體集成電路小外形封裝引線框架
———,“
規(guī)范
”;
關(guān)于規(guī)范性引用文件增加引導(dǎo)語抽樣標(biāo)準(zhǔn)由代替增
———:;GB/T2828.1—2012SJ/Z9007—87;
加引用文件
GB/T2423.60—2008、SJ20129;
標(biāo)準(zhǔn)中的由設(shè)計改為引線框架尺寸將原標(biāo)準(zhǔn)中精壓深度和金屬間隙的有關(guān)內(nèi)容調(diào)
———4.1“”“”,
整到并將原標(biāo)準(zhǔn)中精壓區(qū)的有關(guān)內(nèi)容并入到精壓深度條款中
4.2,“”“”;
對標(biāo)準(zhǔn)的引線框架形狀和位置公差中相應(yīng)條款順序進(jìn)行了調(diào)整并增加了芯片粘接區(qū)
———“4.2”,
下陷和引線框架內(nèi)部位置公差的有關(guān)要求
;
修改了標(biāo)準(zhǔn)中對側(cè)彎的要求見原標(biāo)準(zhǔn)中僅規(guī)定了在的長度方向上不超
———“”(4.2.1):150mm,
過本標(biāo)準(zhǔn)在整個標(biāo)稱長度上進(jìn)行規(guī)定
0.5mm,;
修改了標(biāo)準(zhǔn)中對卷曲的要求見原標(biāo)準(zhǔn)中僅規(guī)定了卷曲變形小于本標(biāo)準(zhǔn)根
———“”(4.2.2):0.5mm,
據(jù)材料的厚度分別進(jìn)行了規(guī)定
;
修改了標(biāo)準(zhǔn)中對條帶扭曲的要求見原標(biāo)準(zhǔn)中僅規(guī)定了每條框架上扭曲不超過
———“”(4.2.4):
本標(biāo)準(zhǔn)將框架扭曲修改為條帶扭曲并根據(jù)材料的厚度分別進(jìn)行了規(guī)定
0.51mm,,;
修改了標(biāo)準(zhǔn)中對引線扭曲的要求見原標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定了引線扭曲的角度及引線寬度上
———“”(4.2.5):
的最大偏移量本標(biāo)準(zhǔn)刪除了引線寬度上最大偏移量的規(guī)定
,;
原標(biāo)準(zhǔn)未考慮精壓深度對精壓寬度的影響簡單地規(guī)定了精壓深度的尺寸范圍本標(biāo)準(zhǔn)修改
———,。
為在保證精壓寬度不小于引線寬度的條件下精壓深度不大于材料厚度的其參考
:90%,30%,
值為見
0.015mm~0.06mm(4.2.6);
將金屬間隙修改為絕緣間隙并修改了標(biāo)準(zhǔn)中對絕緣間隙的要求見原標(biāo)準(zhǔn)規(guī)
———“”“”,“”(4.2.7):
定引線框架各內(nèi)引線之間內(nèi)引線與芯片粘接區(qū)之間的距離不小于本標(biāo)準(zhǔn)修改
“,0.152mm”,
為相鄰兩精壓區(qū)端點(diǎn)間的間隔及精壓區(qū)端點(diǎn)與芯片粘接區(qū)間的間隔大于
“0.076mm”;
修改了標(biāo)準(zhǔn)中對芯片粘接區(qū)斜度的要求見原標(biāo)準(zhǔn)中分別規(guī)定了在打凹和未打凹條
———“”(4.2.9):
件下的最大斜度本標(biāo)準(zhǔn)統(tǒng)一規(guī)定為在長或?qū)捗砍叽缱畲髢A斜
,2.54mm0.05mm;
將原標(biāo)準(zhǔn)中的芯片粘接區(qū)平面度與芯片粘接區(qū)平整度統(tǒng)一規(guī)定為芯片粘接區(qū)平面度
———“”“”“”
見
(4.2.11);
修改了標(biāo)準(zhǔn)中對毛刺的要求見取消了原標(biāo)準(zhǔn)中連筋內(nèi)外不同區(qū)域垂直毛刺的不同
———“”(4.3.1):
要求本標(biāo)準(zhǔn)統(tǒng)一規(guī)定為
,0.025mm;
修改了標(biāo)準(zhǔn)中對凹坑壓痕和劃痕的要求見在原標(biāo)準(zhǔn)的基礎(chǔ)上增加劃痕的有關(guān)
———“、”(4.3.2):
要求
;
修改了標(biāo)準(zhǔn)中對局部鍍銀層厚度的要求見原標(biāo)準(zhǔn)僅規(guī)定了局部鍍銀層的厚度本
———“”(4.4.1):,
標(biāo)準(zhǔn)對局部鍍銀層厚度及任意點(diǎn)分別進(jìn)行了規(guī)定
;
增加了銅剝離試驗(yàn)的有關(guān)要求見
———“”(4.6);
增加了銀剝離試驗(yàn)的有關(guān)要求見
———“”(4.7);
對標(biāo)準(zhǔn)檢驗(yàn)規(guī)則中相應(yīng)條款進(jìn)行修改參照檢驗(yàn)規(guī)則并增加了鑒
———“5”,GB/T14112—2015,
Ⅰ
GB/T15878—2015
定批準(zhǔn)程序和質(zhì)量一致性檢驗(yàn)的有關(guān)內(nèi)容
;
修改了標(biāo)準(zhǔn)中對貯存的有關(guān)要求原標(biāo)準(zhǔn)有鍍層的保存期為個月本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定為個月
———“”:3,6
見
(7.2);
增加了規(guī)范性附錄引線框架機(jī)械測量
———A“”。
請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識別這些專利的責(zé)任
。。
本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國工業(yè)和信息化部提出
。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體器件標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口
(SAC/TC78)。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位廈門永紅科技有限公司
:。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人林桂賢王鋒濤申瑞琴
:、、。
本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為
:
———GB/T15878—1995。
Ⅱ
GB/T15878—2015
半導(dǎo)體集成電路
小外形封裝引線框架規(guī)范
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了半導(dǎo)體集成電路小外形封裝引線框架以下簡稱引線框架的技術(shù)要求及檢驗(yàn)
(SOP)()
規(guī)則
。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于半導(dǎo)體集成電路小外形封裝沖制型引線框架
。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn)第部分試驗(yàn)方法試驗(yàn)引出端及整體安
GB/T2423.60—20082:U:
裝件強(qiáng)度
計數(shù)抽樣檢驗(yàn)程序第部分
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