GB/T 38783-2020貴金屬?gòu)?fù)合材料覆層厚度的掃描電鏡測(cè)定方法

ICS7712099

H15..

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T38783—2020

貴金屬?gòu)?fù)合材料覆層厚度的掃描電鏡

測(cè)定方法

Methodofcoatingthicknessdeterminationforpreciousmetal

compositesbyscanningelectronmicroscope

2020-06-02發(fā)布2021-04-01實(shí)施

國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T38783—2020

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)有色金屬工業(yè)協(xié)會(huì)提出

。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC243)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位貴研鉑業(yè)股份有限公司貴研檢測(cè)科技云南有限公司國(guó)合通用測(cè)試評(píng)價(jià)認(rèn)證

:、()、

股份有限公司廣東省工業(yè)分析檢測(cè)中心北京有色金屬與稀土應(yīng)用研究所南京市產(chǎn)品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)

、、、

院郴州市場(chǎng)商品質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)所國(guó)標(biāo)北京檢驗(yàn)認(rèn)證有限公司

、、()。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人毛端甘建壯陳雯陳國(guó)華左玉婷伍超群王峰高瑞峰張靖張卓佳劉坤鵬

:、、、、、、、、、、、

王一晴賴(lài)麗君畢勤嵩金婭秋馬媛夏雯張麗民齊岳峰張吉明

、、、、、、、、。

Ⅰ

GB/T38783—2020

貴金屬?gòu)?fù)合材料覆層厚度的掃描電鏡

測(cè)定方法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了各類(lèi)貴金屬?gòu)?fù)合材料覆層厚度的掃描電鏡測(cè)量方法

。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于的覆層厚度測(cè)量

10nm~200μm。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

金屬顯微組織檢驗(yàn)方法

GB/T13298—2015

微米級(jí)長(zhǎng)度的掃描電鏡測(cè)量方法通則

GB/T16594

微束分析能譜法定量分析

GB/T17359

金覆蓋層厚度的掃描電鏡測(cè)量方法

GB/T17722—1999

納米級(jí)長(zhǎng)度的掃描電鏡測(cè)量方法通則

GB/T20307

3術(shù)語(yǔ)和定義

下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件

。

31

.

聚焦離子束focusedionbeamFIB

;

將液態(tài)金屬離子源產(chǎn)生的金屬離子離子通過(guò)離子槍加速聚焦后形成離子束流

(Ga),、。

32

.

雙束電子顯微鏡dualbeamelectronmicroscope

在掃描電子顯微鏡聚焦電子束中還安裝了聚焦離子束系統(tǒng)的顯微鏡

()(FIB)。

33

.

氣體注入系統(tǒng)gasinjectionsystemGIS

;

在雙束電子顯微鏡中集成的用于儲(chǔ)存和釋放各種類(lèi)型金屬或非金屬氣體化合物的硬件系統(tǒng)

。

注可以通過(guò)電子束或離子束對(duì)注入氣體進(jìn)行誘導(dǎo)氣相沉積在樣品表面形成特定金屬或非金屬的保護(hù)層或圖案

:,,

也可以使用電子束或離子束對(duì)其進(jìn)行誘導(dǎo)刻蝕以達(dá)到增強(qiáng)刻蝕的目的

。

34

.

共焦點(diǎn)beamscoincidence

在雙束電子顯微鏡中電子束和離子束焦平面的交點(diǎn)在該高度位置上可同時(shí)實(shí)現(xiàn)離子束的精確加

,

工與電子束的清晰成像

。

4方法提要

根據(jù)樣品的覆層厚度選擇相應(yīng)的覆層截面制備方法厚度處于