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第3章場(chǎng)效應(yīng)管及其基本放大電路3.1結(jié)形場(chǎng)效應(yīng)管3.2砷化鎵金屬-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管3.3-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管3.4場(chǎng)效應(yīng)管放大電路3.5各種放大器件電路性能比較
3.1場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET)分類和結(jié)構(gòu):結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管JFET絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)晶體管IGFETNPPN結(jié)耗盡層PN溝道G門極D漏極S源極P襯底NN源極門極漏極SGDJFET結(jié)構(gòu)IGFET結(jié)構(gòu)N溝道3.1結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管JFET1)P溝道和N溝道結(jié)構(gòu)及電路符號(hào)N溝道G門極D漏極S源極gdsN溝道結(jié)構(gòu)及電路符號(hào)P溝道G門極D漏極S源極gdsP溝道結(jié)構(gòu)及電路符號(hào)2)恒流工作(電壓控制電流源)GID+RDVDDDSPN結(jié)加反向電壓(Ugs)使溝道微閉合時(shí)電流ID與UDS無關(guān),稱恒流區(qū)。ID=IDSS(1-)2ugsvPPNNGIDIS=IDPN結(jié)PN結(jié)++-耗盡層閉合時(shí)UGS=VPRDVDDUGS電路圖等效圖3)截止工作PNNGID=0IS=IDPN結(jié)PN結(jié)++-RDVDDUGS耗盡層完全閉合,溝道夾斷,電子過不去柵極電壓UGS大于等夾斷電壓UP時(shí),ID=0相當(dāng)一個(gè)很大的電阻3)、JFET的主要參數(shù)1)夾斷電壓VP:手冊(cè)給出是ID為一微小值時(shí)的VGS2)飽和漏極電流IDSS;VGS=0,時(shí)的IDudsidvgs=常數(shù)vgsidUds=常數(shù)?uGS?id5)極限參數(shù):V(BR)DS、漏極的附近發(fā)生雪崩擊穿。V(BR)GS、柵源間的最高反向擊穿。
PDM最大漏極允許功耗,與三極管類似。3)、電壓控制電流系數(shù)gm=4)交流輸出電阻rds=Sect3.3MOSFET增強(qiáng)型MOSFET耗盡型MOSFETN溝道增強(qiáng)型MOS場(chǎng)效應(yīng)管結(jié)構(gòu)3.3.1增強(qiáng)型MOS場(chǎng)效應(yīng)管漏極D→集電極C源極S→發(fā)射極E柵極G→基極B襯底B電極—金屬絕緣層—氧化物基體—半導(dǎo)體因此稱之為MOS管Sect當(dāng)UGS較小時(shí),雖然在P型襯底表面形成一層耗盡層,但負(fù)離子不能導(dǎo)電。當(dāng)UGS=UT時(shí),在P型襯底表面形成一層電子層,形成N型導(dǎo)電溝道,在UDS的作用下形成ID。UDSID++--++--++++----UGS反型層當(dāng)UGS=0V時(shí),漏源之間相當(dāng)兩個(gè)背靠背的PN結(jié),無論UDS之間加上電壓不會(huì)在D、S間形成電流ID,即ID≈0.當(dāng)UGS>UT時(shí),溝道加厚,溝道電阻減少,在相同UDS的作用下,ID將進(jìn)一步增加開始無導(dǎo)電溝道,當(dāng)在UGSUT時(shí)才形成溝道,這種類型的管子稱為增強(qiáng)型MOS管SectN溝道增強(qiáng)型MOS場(chǎng)效應(yīng)管特性曲線UGS一定時(shí),ID與UDS的變化曲線,是一族曲線
ID=f(UDS)UGS=C輸出特性曲線1.可變電阻區(qū):
ID與UDS的關(guān)系近線性
ID≈2K(UGS-UT)UDSUGS=6VUGS=4VUGS=5VUGS=3VUGS=UT=3VUGS(V)ID(mA)當(dāng)UGS變化時(shí),RON將隨之變化因此稱之為可變電阻區(qū)當(dāng)UGS一定時(shí),RON近似為一常數(shù)因此又稱之為恒阻區(qū)SectN溝道增強(qiáng)型MOS場(chǎng)效應(yīng)管特性曲線輸出特性曲線2.恒流區(qū):該區(qū)內(nèi),UGS一定,ID基本不隨UDS變化而變3.擊穿區(qū):
UDS
增加到某一值時(shí),ID開始劇增而出現(xiàn)擊穿。當(dāng)UDS
增加到某一臨界值時(shí),ID開始劇增時(shí)UDS稱為漏源擊穿電壓。UGS=6VUGS=4VUGS=5VUGS=3VUGS=UT=3VUGS(V)ID(mA)Sect
漏源電壓UDS對(duì)漏極電流ID的控制作用UDS=UDG+UGS
=-UGD+UGS
UGD=UGS-UDS當(dāng)UDS為0或較小時(shí),相當(dāng)UGD>UT,此時(shí)UDS
基本均勻降落在溝道中,溝道呈斜線分布。在UDS作用下形成IDSect
MOS管襯底的處理
保證兩個(gè)PN結(jié)反偏,源極—溝道—漏極之間處于絕緣態(tài)NMOS管—UBS加一負(fù)壓PMOS管—UBS加一正壓處理原則:處理方法:SectN溝道耗盡型MOS場(chǎng)效應(yīng)管結(jié)構(gòu)3.3.2耗盡型MOS場(chǎng)效應(yīng)管+++++++耗盡型MOS管存在原始導(dǎo)電溝道SectN溝道耗盡型MOS場(chǎng)效應(yīng)管工作原理當(dāng)UGS=0時(shí),UDS加正向電壓,產(chǎn)生漏極電流ID,此時(shí)的漏極電流稱為漏極飽和電流,用IDSS表示當(dāng)UGS>0時(shí),將使ID進(jìn)一步增加。當(dāng)UGS<0時(shí),隨著UGS的減小漏極電流逐漸減小。直至ID=0。對(duì)應(yīng)ID=0的UGS稱為夾斷電壓,用符號(hào)UP表示。UGS(V)ID(mA)N溝道耗盡型MOS場(chǎng)效應(yīng)管特性曲線轉(zhuǎn)移特性曲線在恒流區(qū),ID與UGS的關(guān)系為ID≈K(UGS-UP)2溝道較短時(shí),ID≈K(UGS-UT)2(1+UDS)UPID≈IDSS(1-UGS/UP)2常用關(guān)系式:Sect3.3.3各類絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)三極管的特性曲線絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管N溝道增強(qiáng)型P溝道增強(qiáng)型Sect絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管
N溝道耗盡型P溝道耗盡型Sect場(chǎng)效應(yīng)管的主要參數(shù)直流參數(shù)交流參數(shù)極限參數(shù)Sect4.直流輸入電阻RGS柵源間所加的恒定電壓UGS與流過柵極電流IGS之比結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)三極管,反偏時(shí)RGS約大于107Ω,絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)三極管RGS約是109~1015Ω。5.漏源擊穿電壓BUDS使ID開始劇增時(shí)的UDS。6.柵源擊穿電壓BUGSJFET:反向飽和電流劇增時(shí)的柵源電壓MOS:使SiO2絕緣層擊穿的電壓Sect
1.低頻跨導(dǎo)gm
低頻跨導(dǎo)反映了柵壓對(duì)漏極電流的控制作用gm的求法:①圖解法—gm實(shí)際就是轉(zhuǎn)移特性曲線的斜率②解析法:如增強(qiáng)型MOS管存在ID=K(UGS-UT)2Sect
2.襯底跨導(dǎo)gmb反映了襯底偏置電壓對(duì)漏極電流ID的控制作用——跨導(dǎo)比Sect5.極間電容Cgs—柵極與源極間電容Cgd—柵極與漏極間電容Cgb—柵極與襯底間電容
Csd—源極與漏極間電容Csb—源極與襯底間電容Cdb—漏極與襯底間電容主要的極間電容有:Sect3.3、絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)晶體管IGFET(MOS)分增強(qiáng)型和耗盡型兩類:各類有分NMOS和PMOS兩種:1)NMOS(MetalOxidizedSemiconductor)
NMOS(D)P襯底NN源極門極漏極SGD增強(qiáng)型N溝道示意B基底NMOS(E)P襯底NN源極門極漏極SGD耗盡型N溝道示意B基底Sio2Sio2N溝道GDSGGGBB++2)P溝道MOS(MetalOxidizedSemiconductor)
N襯底PP源極門極漏極SGD增強(qiáng)型P溝道示意B基底PMOS(E)N襯底PP源極門極漏極SGD耗盡型P溝道示意B基底Sio2Sio2P溝道GDSGGGBB--PMOS(D)(1)工作狀態(tài)示意圖P襯底NNSGDUGSUDSBID耗盡區(qū)++++----GDSBIDUDSUGS(2)IGFET工作原理(NMOS)耗盡型場(chǎng)效應(yīng)管的工作原理類似結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管。增強(qiáng)型IGFET象雙結(jié)型三極管一樣有一個(gè)開啟電壓VT,(相當(dāng)于三極管死區(qū)電壓)。當(dāng)UGS低于VT時(shí),漏源之間夾斷。ID=0當(dāng)UGS高于VT時(shí),漏源之間加電壓后。
ID=ID0(-1)2;IDO為2VT時(shí)的ID
當(dāng)UDS小于等于UGS-VT時(shí),進(jìn)入可變電阻區(qū)
UGSVT?uGS?iDgm=2ID0(UGS-1)VT=VT2IDID0VT(3)IGFET(E)特性曲線UDS可變電阻區(qū)截止區(qū)IB≤0UDS=UGS-VTNMOS的輸出特性曲線2.0V4.0V6.0VUGS=8.0VμA
ID放大區(qū)0擊穿區(qū)UDS=5VUGSVID
μA024682001501005020015010050NMOS的轉(zhuǎn)移特性曲線(4)主要參數(shù):1)開啟電壓VT:手冊(cè)給出是ID為一微小值時(shí)的VGS2)飽和漏極電流IDO;VGS=2VT時(shí)的ID3)、電壓控制電流系數(shù)gm=
也稱跨導(dǎo)(互導(dǎo))4)交流輸出電阻rds=5)極限參數(shù):V(BR)DS漏極的附近發(fā)生雪崩擊穿。
V(BR)GS柵源間的最高反向擊穿
PDM最大漏極允許功耗,與三極管類似。vgsidUds=常數(shù)udsidvgs=常數(shù)?uds?id2IDID0VT=3)FET的三種工作組態(tài)以NMOS(E)為例:IDGRDSBUDSUGS輸入輸出共源組態(tài):輸入:GS輸出:DSGRDDBUDSUGS輸入輸出共漏組態(tài):輸入:GS輸出:DSGRDSBUDS輸入輸出共柵組態(tài):輸入:GS輸出:DS一.結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管
1.結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管的結(jié)構(gòu)(以N溝為例):兩個(gè)PN結(jié)夾著一個(gè)N型溝道。三個(gè)電極:
G:柵極
D:漏極
S:源極符號(hào):3.4場(chǎng)效應(yīng)管放大電路2.結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管的工作原理
(1)柵源電壓對(duì)溝道的控制作用
在柵源間加負(fù)電壓VGS
,令VDS=0
①當(dāng)VGS=0時(shí),為平衡PN結(jié),導(dǎo)電溝道最寬。②當(dāng)│VGS│↑時(shí),PN結(jié)反偏,形成耗盡層,導(dǎo)電溝道變窄,溝道電阻增大。③當(dāng)│VGS│到一定值時(shí),溝道會(huì)完全合攏。定義:夾斷電壓Up——使導(dǎo)電溝道完全合攏(消失)所需要的柵源電壓VGS。(2)漏源電壓對(duì)溝道的控制作用
在漏源間加電壓VDS
,令VGS=0
由于VGS=0,所以導(dǎo)電溝道最寬。
①當(dāng)VDS=0時(shí),ID=0。②VDS↑→ID↑
→靠近漏極處的耗盡層加寬,溝道變窄,呈楔形分布。③當(dāng)VDS↑,使VGD=VGS-
VDS=VP時(shí),在靠漏極處夾斷——預(yù)夾斷。預(yù)夾斷前,VDS↑→ID↑。預(yù)夾斷后,VDS↑→ID幾乎不變。④VDS再↑,預(yù)夾斷點(diǎn)下移。(3)柵源電壓VGS和漏源電壓VDS共同作用可用輸兩組特性曲線來描繪。
ID=f(VGS、VDS)(1)輸出特性曲線:ID=f(VDS)│VGS=常數(shù)
3結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)三極管的特性曲線四個(gè)區(qū):①可變電阻區(qū):預(yù)夾斷前。②電流飽和區(qū)(恒流區(qū)):預(yù)夾斷后。
特點(diǎn):△ID
/△VGS≈常數(shù)=gm
即:△ID
=gm△VGS(放大原理)③擊穿區(qū)。④夾斷區(qū)(截止區(qū))。
(a)漏極輸出特性曲線(b)轉(zhuǎn)移特性曲演示:動(dòng)畫(2-6)
動(dòng)畫(2-7)(2)轉(zhuǎn)移特性曲線:ID=f(VGS)│VDS=常數(shù)4.場(chǎng)效應(yīng)管的主要參數(shù)(1)
開啟電壓VT
VT
是MOS增強(qiáng)型管的參數(shù),柵源電壓小于開啟電壓的絕對(duì)值,場(chǎng)效應(yīng)管不能導(dǎo)通。
(2)夾斷電壓VP
VP
是MOS耗盡型和結(jié)型FET的參數(shù),當(dāng)VGS=VP時(shí),漏極電流為零。
(3)飽和漏極電流IDSS
MOS耗盡型和結(jié)型FET,當(dāng)VGS=0時(shí)所對(duì)應(yīng)的漏極電流。
(4)輸入電阻RGS
結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管,RGS大于107Ω,MOS場(chǎng)效應(yīng)管,RGS可達(dá)109~1015Ω。(5)
低頻跨導(dǎo)gm
gm反映了柵壓對(duì)漏極電流的控制作用,單位是mS(毫西門子)。(6)最大漏極功耗PDM
PDM=VDSID,與雙極型三極管的PCM相當(dāng)。1.直流偏置電路:保證管子工作在飽和區(qū),輸出信號(hào)不失真
二.場(chǎng)效應(yīng)管放大電路
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