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第五章X射線(xiàn)衍射分析原理衍射的本質(zhì)是晶體中各原子相干散射波疊加(合成)的結(jié)果。衍射波的兩個(gè)基本特征——衍射線(xiàn)(束)在空間分布的方位(衍射方向)和強(qiáng)度,與晶體內(nèi)原子分布規(guī)律(晶體結(jié)構(gòu))密切相關(guān)。

波的干涉與衍射

波的干涉與衍射在自然界上常見(jiàn)的。如水波和光波。因此。它們是波的一種特性。水波的干涉現(xiàn)象

波產(chǎn)生干涉的條件:相長(zhǎng)干涉:當(dāng)波程差△=nλ時(shí)(n為整數(shù)),兩個(gè)波相加。相消干涉:當(dāng)波程差△=(n+1/2)λ時(shí),二者剛好相互抵消。第一節(jié)衍射方向

1912年勞埃(M.Van.Laue)用X射線(xiàn)照射五水硫酸銅(CuSO4·5H2O)獲得世界上第一張X射線(xiàn)衍射照片,并由光的干涉條件出發(fā)導(dǎo)出描述衍射線(xiàn)空間方位與晶體結(jié)構(gòu)關(guān)系的公式(稱(chēng)勞埃方程)。隨后,布拉格父子(W.H.Bragg與W.L.Bragg)類(lèi)比可見(jiàn)光鏡面反射安排實(shí)驗(yàn),用X射線(xiàn)照射巖鹽(NaCl),并依據(jù)實(shí)驗(yàn)結(jié)果導(dǎo)出布拉格方程。

X射線(xiàn)也是一種電磁波,當(dāng)它照射晶體時(shí),晶體中的質(zhì)點(diǎn)對(duì)入射X射線(xiàn)產(chǎn)生相干散射。這些散射波滿(mǎn)足波產(chǎn)生干涉的條件。X射線(xiàn)在晶體中的衍射實(shí)質(zhì)上是晶體中各原子散射波之間的干涉結(jié)果。

幾個(gè)近似假設(shè):

1、X射線(xiàn)是單一波長(zhǎng)的平行光。

2、電子皆集中在原子的中心。

3、原子不作熱振動(dòng),因此原子間距不變。

X射線(xiàn)

原子或離子中的電子——受迫振動(dòng)。振動(dòng)著的電子成為次生X射線(xiàn)的波源,向外輻射與入射X射線(xiàn)同頻率的電磁波,稱(chēng)為散射波。▲同一晶面上各個(gè)格點(diǎn)之間的干涉—點(diǎn)間干涉?!煌嬷g的干涉—面間干涉。分兩步討論:(1)布喇格方程的導(dǎo)出i入射角q掠射角鏡面反射方向平面法線(xiàn)入射X射線(xiàn)任一平面上的點(diǎn)陣▲同一晶面上各個(gè)格點(diǎn)之間的干涉—點(diǎn)間干涉任一平面上的點(diǎn)陣入射X射線(xiàn)平面法線(xiàn)鏡面反射方向ZXY用圖示法作簡(jiǎn)易證明AABBCCCDq光程相等即光程差為零干涉得最大光強(qiáng)=CC’-AD=AC’cosθ-

AC’cosθ=0CC’=ADAA’=BB’面1面2面3…作截面分析▲不同晶面之間的干涉—面間干涉ADa’b’CB相長(zhǎng)干涉得亮點(diǎn)的條件層間兩反射光的光程差d12hd3掠射角(a)可見(jiàn)光在任意入射角方向均能產(chǎn)生反射,它只是物體表面上的光學(xué)現(xiàn)象;而X射線(xiàn)則只能在有限的布喇格角方向才產(chǎn)生反射,它是一定厚度內(nèi)許多間距相同晶面共同作用的結(jié)果。就平面點(diǎn)陣(h*k*l*)來(lái)說(shuō),只有入射角θ滿(mǎn)足此方程時(shí),才能在相應(yīng)的反射角方向上產(chǎn)生衍射。(b)在本質(zhì)上是晶體中各原子散射波干涉的結(jié)果。因此,X射線(xiàn)的衍射線(xiàn)強(qiáng)度較其入射線(xiàn)的強(qiáng)度要弱得多。而可見(jiàn)光的鏡面反射中的入射光與反射光的強(qiáng)度幾乎相同(c)在布拉格方程中掠射角是入射線(xiàn)與晶面的夾角,而可見(jiàn)光的反射定律中是入射線(xiàn)與法線(xiàn)的夾角。(A)

X射線(xiàn)衍射與可見(jiàn)光反射的差異(2)關(guān)于Bragg方程的討論這規(guī)定了X衍射的極限條件:▲能夠產(chǎn)生晶體衍射的X射線(xiàn)的波長(zhǎng)必須小于參與反射的晶面中最大晶面間距的2倍。粗略地講,就是X射線(xiàn)的波長(zhǎng)應(yīng)與晶體的晶面間距相當(dāng)。一般晶體的晶面間距在0.1-1nm之間,因此常用X射線(xiàn)的波長(zhǎng)在0.05-0.25nm之間。(B)入射線(xiàn)波長(zhǎng)與面間距關(guān)系

所以要產(chǎn)生衍射,必須有:

<2dd>

/2▲只有晶面間距大于入射X射線(xiàn)波長(zhǎng)的一半的晶面才能產(chǎn)生衍射。(C)布喇格方程是X射線(xiàn)在晶體產(chǎn)生衍射的必要條件而非充分條件。有些情況下晶體雖然滿(mǎn)足布拉格方程,但不一定出現(xiàn)衍射線(xiàn),即所謂系統(tǒng)消光。(D)干涉指數(shù)表達(dá)的布拉格方程

(5-2)

(5-3)

反射級(jí)數(shù)與干涉指數(shù)

實(shí)際中反射級(jí)數(shù)是不易測(cè)定的,且我們關(guān)心的主要是衍射線(xiàn)的方向。將布拉格方程作如下的轉(zhuǎn)換:

2dsinθ=nλ

2(d/n)sinθ=λ

2dsinθ=2λ

2(d/2)sinθ=λ

也就是說(shuō),間距為d的晶面對(duì)X射線(xiàn)的n級(jí)反射可以看作是間距為d/n的晶面的一級(jí)反射。在X射線(xiàn)分析中,并不嚴(yán)格區(qū)分干涉指數(shù)和晶面指數(shù)。

▲B(niǎo)ragg角——入射線(xiàn)與晶面間的交角θ。稱(chēng)為

Bragg角,或衍射半角;▲衍射角——入射線(xiàn)和衍射線(xiàn)之間的夾角2θ

,稱(chēng)為衍射角。

實(shí)際工作中所測(cè)的角度不是θ角,而是2θ

。(E)Bragg角和衍射角1.已知θ,可測(cè)d——X射線(xiàn)晶體結(jié)構(gòu)分析研究晶體結(jié)構(gòu)、材料性質(zhì)。研究原子結(jié)構(gòu)。3.布喇格方程應(yīng)用2.已知θ,

d

可測(cè)——X射線(xiàn)光譜分析例已知求NaCl晶體

主晶面間距為2.82×10-10

m對(duì)某單色X射線(xiàn)的布喇格第一級(jí)強(qiáng)反射的掠射角為15°入射X射線(xiàn)波長(zhǎng)第二級(jí)強(qiáng)反射的掠射角解法提要sin2dqlk(),...21k,根據(jù)布喇格公式l2dsinq1k1,q115°2×2.82×10-10×15°sin1.46×10-10(m)2sin2dql2k,22q()arcsinl22darcsin0.517731.18

°二、衍射矢量方程

由“反射定律+布拉格方程”表達(dá)的衍射必要條件,可用一個(gè)統(tǒng)一的矢量方程式即衍射矢量方程表達(dá)。設(shè)s0與s分別為入射線(xiàn)與反射線(xiàn)方向單位矢量,s-s0稱(chēng)為衍射矢量,則反射定律可表達(dá)為:s0及s分居反射面(HKL)法線(xiàn)(N)兩側(cè),且s0、s與N共面,s0及s與(HKL)面夾角相等(均為)。據(jù)此可推知s-s0//N(此可稱(chēng)為反射定律的數(shù)學(xué)表達(dá)式),如圖所示。由圖亦可知s-s0=2sin,故布拉格方程可寫(xiě)為s-s0=/d。綜上所述,“反射定律+布拉格方程”可用衍射矢量(s-s0)表示為s-s0//N由倒易矢量性質(zhì)可知,(HKL)晶面對(duì)應(yīng)的倒易矢量r*HKL//N且r*HKL=1/dHKL,引入r*HKL,則上式可寫(xiě)為(s-s0)/=r*HKL(r*HKL=1/dHKL)此式即稱(chēng)為衍射矢量方程。若設(shè)R*HKL=r*HKL(為入射線(xiàn)波長(zhǎng),可視為比例系數(shù)),則上式可寫(xiě)為s-s0=R*HKL(R*HKL=/dHKL)此式亦為衍射矢量方程。三、厄瓦爾德圖解

討論衍射矢量方程的幾何圖解形式。衍射矢量三角形——衍射矢量方程的幾何圖解入射線(xiàn)單位矢量s0與反射晶面(HKL)倒易矢量R*HKL及該晶面反射線(xiàn)單位矢量s構(gòu)成矢量三角形(稱(chēng)衍射矢量三角形)。該三角形為等腰三角形(s0=s);s0終點(diǎn)是倒易(點(diǎn)陣)原點(diǎn)(O*),而s終點(diǎn)是R*HKL的終點(diǎn),即(HKL)晶面對(duì)應(yīng)的倒易點(diǎn)。s與s0之夾角為2,稱(chēng)為衍射角,2表達(dá)了入射線(xiàn)與反射線(xiàn)的方向。晶體中有各種不同方位、不同晶面間距的(HKL)晶面。當(dāng)一束波長(zhǎng)為的X射線(xiàn)以一定方向照射晶體時(shí),哪些晶面可能產(chǎn)生反射?反射方向如何?解決此問(wèn)題的幾何圖解即為厄瓦爾德(Ewald)圖解。

按衍射矢量方程,晶體中每一個(gè)可能產(chǎn)生反射的(HKL)晶面均有各自的衍射矢量三角形。各衍射矢量三角形的關(guān)系如圖所示。同一晶體各晶面衍射矢量三角形關(guān)系腳標(biāo)1、2、3分別代表晶面指數(shù)H1K1L1、H2K2L2和H3K3L3

由上述分析可知,可能產(chǎn)生反射的晶面,其倒易點(diǎn)必落在反射球上。據(jù)此,厄瓦爾德做出了表達(dá)晶體各晶面衍射產(chǎn)生必要條件的幾何圖解,如圖所示。厄瓦爾德圖解厄瓦爾德圖解步驟為:1.作OO*=s0;2.作反射球(以O(shè)為圓心、OO*為半徑作球);3.以O(shè)*為倒易原點(diǎn),作晶體的倒易點(diǎn)陣;4.若倒易點(diǎn)陣與反射球(面)相交,即倒易點(diǎn)落在反射球(面)上(例如圖中之P點(diǎn)),則該倒易點(diǎn)相應(yīng)之(HKL)面滿(mǎn)足衍射矢量方程;反射球心O與倒易點(diǎn)的連接矢量(如OP)即為該(HKL)面之反射線(xiàn)單位矢量s,而s與s0之夾角(2)表達(dá)了該(HKL)面可能產(chǎn)生的反射線(xiàn)方位。

四、勞埃方程

由于晶體中原子呈周期性排列,勞埃設(shè)想晶體為光柵(點(diǎn)陣常數(shù)為光柵常數(shù)),晶體中原子受X射線(xiàn)照射產(chǎn)生球面散射波并在一定方向上相互干涉,形成衍射光束。

1.一維勞埃方程一維勞埃方程的導(dǎo)出

設(shè)s0及s分別為入射線(xiàn)及任意方向上原子散射線(xiàn)單位矢量,a為點(diǎn)陣基矢,0及分別為s0與a及s與a之夾角,則原子列中任意兩相鄰原子(A與B)散射線(xiàn)間光程差()為:=AM-BN=acos-acos0

散射線(xiàn)干涉一致加強(qiáng)的條件為=H,即a(cos-cos0)=H

式中:H——任意整數(shù)。此式表達(dá)了單一原子列衍射線(xiàn)方向()與入射線(xiàn)波長(zhǎng)()及方向(0)和點(diǎn)陣常數(shù)的相互關(guān)系,稱(chēng)為一維勞埃方程。亦可寫(xiě)為a·(s-s0)=H

2.二維勞埃方程

a(cos-cos0)=Hb(cos-cos0)=K

a·(s-s0)=H

b·(s-s0)=K

3.三維勞埃方程a(cos-cos0)=Hb(cos-cos0)=Kc(cos-cos0)=L

a·(s-s0)=H

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