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第二章本征載流子濃度第1頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月22.6.1熱平衡狀態(tài):熱平衡狀態(tài):在一定的溫度下,電子從低能量的量子態(tài)躍遷到高能量的量子態(tài)及電子從高能量的量子態(tài)躍遷到低能量的量子態(tài)這兩個相反過程之間建立起動態(tài)平衡,稱為熱平衡狀態(tài)。第2頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月熱平衡狀態(tài)是在恒溫下的穩(wěn)定狀態(tài),且并無任何外來干擾,如光照、壓力或電場。在恒溫下,連續(xù)的熱能使電子從價帶激發(fā)到導(dǎo)帶,同時又有電子從導(dǎo)帶躍遷到價帶。即產(chǎn)生率=復(fù)合率。熱平衡狀態(tài)下的載流子濃度不變。半導(dǎo)體中的導(dǎo)電電子濃度和空穴濃度都保持一個穩(wěn)定值第3頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月4熱平衡載流子:處于熱平衡狀態(tài)下的電子和空穴;當(dāng)溫度改變時,破壞了原來的平衡狀態(tài),又重新建立起新的平衡狀態(tài),熱平衡載流子濃度也將隨之發(fā)生變化,達(dá)到另一穩(wěn)定數(shù)值。熱平衡狀態(tài)時載流子濃度決定于:第4頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月52.6.2本征載流子濃度與費米能級概念:本征半導(dǎo)體:當(dāng)半導(dǎo)體中的雜質(zhì)濃度遠(yuǎn)小于由熱激發(fā)產(chǎn)生的電子空穴濃度時,此半導(dǎo)體稱為本征半導(dǎo)體。本征激發(fā):當(dāng)半導(dǎo)體的溫度T>0k時,本征半導(dǎo)體就有電子從價帶激發(fā)到導(dǎo)帶去,同時價帶中產(chǎn)生了空穴的過程。第5頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月本征載流子濃度:在本征半導(dǎo)體中,導(dǎo)帶中每單位體積的電子數(shù)與價帶中每單位體積的空穴數(shù)相同,電子與空穴濃度相同。即n=p=ni,ni稱為本征載流子濃度。導(dǎo)帶中的電子濃度可將N(E)F(E)由導(dǎo)帶底端(為簡單起見,將EC起始視為0)積分到頂端Etop:其中n的單位是cm-3,N(E)是單位體積下可允許的能態(tài)密度,F(xiàn)(E)為電子占據(jù)此能量范圍的幾率即費米分布函數(shù),n(E)是在能量dE范圍內(nèi)的電子濃度。第6頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月7費米能級EF把半導(dǎo)體中大量電子的集體看成一個熱力學(xué)系統(tǒng),則費米能級是系統(tǒng)的化學(xué)勢,即:其中,μ:系統(tǒng)的化學(xué)勢;
F:系統(tǒng)的自由能;
N:電子總數(shù),決定費米能級的條件是:上式的意義是:當(dāng)系統(tǒng)處于熱平衡狀態(tài),也不對外界作功的情況下,系統(tǒng)中增加一個電子所引起系統(tǒng)自由能的變化,等于系統(tǒng)的化學(xué)勢,也就是等于系統(tǒng)的費米能級。半導(dǎo)體能帶內(nèi)所有量子態(tài)中被電子占據(jù)的量子態(tài)數(shù)等于電子總數(shù)第7頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月8處于熱平衡狀態(tài)的系統(tǒng)有統(tǒng)一的化學(xué)勢,所以處于熱平衡狀態(tài)的電子系統(tǒng)有統(tǒng)一的費米能級;費米能級與溫度、半導(dǎo)體材料的導(dǎo)電類型、雜質(zhì)的含量以及能量零點的選取有關(guān);只要知道了費米能級的數(shù)值,在一定溫度下,電子在各量子態(tài)上的統(tǒng)計分布就完全確定。每個費米子都占據(jù)能量最低的可供占據(jù)的量子態(tài)。最后一個費米子占據(jù)著的量子態(tài)可粗略認(rèn)為費米能級。在半導(dǎo)體物理和電子學(xué)領(lǐng)域中,費米能級常被當(dāng)做電子或空穴化學(xué)勢的代名詞。對于金屬,絕對零度下,電子占據(jù)的最高能級就是費米能級。費米能級的物理意義:該能級上的一個狀態(tài)被電子占據(jù)的幾率是1/2。第8頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月2.6.3玻爾茲曼統(tǒng)計和費米-狄拉克統(tǒng)計1)玻爾茲曼統(tǒng)計是描述獨立定域粒子體系分布狀況的統(tǒng)計規(guī)律。所謂獨立定域粒子體系是指:粒子間相互沒有任何作用,互不影響,并且各個不同的粒子之間都是可以互相區(qū)別的。在量子力學(xué)背景下只有定域分布粒子體系中的粒子是可以相互區(qū)分的,因此這種體系被稱為獨立定域粒子體系。第9頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月而在經(jīng)典力學(xué)背景下,任何一個粒子的運動都是嚴(yán)格符合力學(xué)規(guī)律的,有著可確定的運動軌跡可以相互區(qū)分,因此所有經(jīng)典粒子體系都是定域粒子體系,在近獨立假設(shè)下,定域粒子體系都符合玻爾茲曼統(tǒng)計。第10頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月因而符合玻爾茲曼統(tǒng)計分布的粒子,當(dāng)他們處于某一分布(“某一分布”指這樣一種狀態(tài):即在能量為{Ej}的能級上同時有nj個粒子存在著)時,當(dāng)從宏觀觀察體系能量一定的時候,從微觀角度觀察體系可能有很多種不同的分布狀態(tài),而且在這些不同的分布狀態(tài)中,總有一些狀態(tài)出現(xiàn)的幾率特別的大,而其中出現(xiàn)幾率最大的分布狀態(tài)被稱為最可幾分布。第11頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月2)費米-狄拉克統(tǒng)計:
是費米子依從的統(tǒng)計規(guī)律。它們符合泡利不相容原理。
費米子:自旋為半整數(shù)的粒子,如電子、質(zhì)子、中子及其反粒子.費米-狄拉克統(tǒng)計表示在溫度T時,能級E的一量子態(tài)上平均分布的電子數(shù)。
(玻色子:自旋為整數(shù)的粒子,不受泡利原理限制,如光子、含有偶數(shù)個費米子的分子、原子等,遵從玻色-愛因斯坦統(tǒng)計.)
第12頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月在熱平衡時,電子按能量大小具有一定的統(tǒng)計分布規(guī)律性。對半導(dǎo)體材料中的電子體系,可把體系看做一個近獨立體系,即認(rèn)為電子之間的相互作用很弱,它們除了交換能量達(dá)到平衡外,其他影響可不必考慮。
所以費米-狄拉克統(tǒng)計的物理含義是:熱平衡時,每個能量為E的單量子態(tài)被電子占據(jù)的幾率。第13頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月根據(jù)量子力學(xué),費米子為自旋為半整數(shù)的粒子,其本征波函數(shù)反對稱,在費米子的某一個能級上,最多只能容納一個粒子。又稱費米-狄拉克分布,簡稱費米分布函數(shù),可表示為:
其中k是玻爾茲曼常數(shù),T是絕對溫度,EF是費米能級。費米能級是電子占有率為1/2時的能量。第14頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月152.6.4狀態(tài)密度一、概念第15頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月16首先算出單位k空間中的量子態(tài)數(shù),即k空間中的狀態(tài)密度;然后算出k空間中與能量E~(E+dE)間所對應(yīng)的k空間體積,并和k空間中的狀態(tài)密度相乘,從而求得在該能量間隔的量子態(tài)數(shù)dZ;最后,根據(jù)式(1)求得狀態(tài)密度g(E).二、狀態(tài)密度的計算方法第16頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月17三、k空間中量子態(tài)的分布k空間中電子的波矢k只能取分立值,而不能取任意值,其允許值為:其中,L是半導(dǎo)體晶體的線度,V=L3是晶體體積。任一k值,沿一個坐標(biāo)軸方向均為1/L的整數(shù)倍,在k空間均勻分布k空間就是以波矢k的三個互相正交的分量kx、ky、kz為坐標(biāo)軸的直角坐標(biāo)系所描寫的空間。第17頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月18每個允許的能量狀態(tài)在k空間中與由整數(shù)組(nx,ny,nz)決定的一個代表點(kx,ky,kz)相對應(yīng);每一個代表點占據(jù)K空間的體積為1/V=L3,K空間中代表點的密度為V。第18頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月19k空間中電子的允許量子態(tài)密度第19頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月20四、球形等能面情況下的狀態(tài)密度為簡單起見,先考慮能帶極值在k=0、球形等能面的情況。在k空間中,以|k|、|k+dk|為半徑作兩個球面,分別為能量E(k)和(E+dE)的等能面。兩個球殼間的體積是4πk2dk。則在能量E~(E+dE)之間的量子態(tài)數(shù)為:1.導(dǎo)帶底狀態(tài)密度第20頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月21代入上式可得:由式(2)可得:第21頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月22上式表明,導(dǎo)帶底附近單位能量間隔內(nèi)的量子態(tài)數(shù)目,隨著電子的能量增加按拋物線關(guān)系增大。即電子能量越高,狀態(tài)密度越大。如右圖所示狀態(tài)密度與能量的關(guān)系。第22頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月23對于價帶頂情況,其附近E(k)與k的關(guān)系為:2.價帶頂狀態(tài)密度第23頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月24五、旋轉(zhuǎn)橢球等能面情況下的狀態(tài)密度對于實際的Si、Ge半導(dǎo)體,在其導(dǎo)帶底附近,等能面是旋轉(zhuǎn)橢球面;導(dǎo)帶底有s個(Si:6,Ge:4)狀態(tài);極值Ec不在k=0處。則E(k)與k的關(guān)系為:利用前述方法可得:電子態(tài)密度有效質(zhì)量1.導(dǎo)帶底狀態(tài)密度第24頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月25在實際Si、Ge中,價帶中起作用的能帶是與極值相重合的兩個能帶,與這兩個能帶相對應(yīng)的有輕空穴有效質(zhì)量(mp)l和重空穴有效質(zhì)量(mp)h,因此價帶頂附近狀態(tài)密度應(yīng)為這兩個能帶的狀態(tài)密度之和,稱為價帶頂空穴的狀態(tài)密度有效質(zhì)量(空穴態(tài)密度有效質(zhì)量)。價帶頂狀態(tài)密度式子與球形等能面情況下的價帶狀態(tài)密度式(5)有相同的形式,空穴態(tài)密度有效質(zhì)量2.價帶頂狀態(tài)密度第25頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月26第26頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月271、費米分布函數(shù)費米分布函數(shù)描述的是熱平衡狀態(tài)下,電子在允許的量子態(tài)上如何分布的一個統(tǒng)計分布函數(shù)。服從泡利不相容原理2.6.5費米分布與玻爾慈曼分布函數(shù)第27頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月28當(dāng)E-EF
>>k0T時,量子態(tài)被電子占據(jù)的概率很小,費米分布變?yōu)椴6澛植?。電子的玻耳茲曼分布函?shù)在上述能量范圍,量子態(tài)被電子占據(jù)的概率很小,正是玻耳茲曼分布函數(shù)適用的范圍。費米分布函數(shù)遵循泡利不相容原理,而玻耳茲曼分布函數(shù)不遵循。第28頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月292、空穴的費米分布函數(shù)
f(E)表示能量為E的量子態(tài)被電子占據(jù)的概率,因而1-f(E)就是能量為E的量子態(tài)不被電子占據(jù)的概率,這也就是量子態(tài)被空穴占據(jù)的概率。即空穴的費米分布函數(shù)為:當(dāng)EF
-E>>k0T時,得到空穴的玻耳茲曼分布函數(shù)為:表明當(dāng)E遠(yuǎn)低于EF時,空穴占據(jù)能量為E的量子態(tài)的概率很小,即該量子態(tài)幾乎都被電子所占據(jù)第29頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月30E增大時,空穴占有幾率增加;EF增大時,空穴占有幾率減小,即電子的填充水平增高;服從玻耳茲曼分布的電子系統(tǒng)稱為非簡并系統(tǒng),相應(yīng)的半導(dǎo)體稱為非簡并半導(dǎo)體;服從費米分布的電子系統(tǒng)稱為簡并系統(tǒng),相應(yīng)的半導(dǎo)體稱為簡并半導(dǎo)體。第30頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月313、
費米分布函數(shù)的溫度特性由式可知:T=0K時:E<EF時,f(E)=1;E>EF時,f(E)=0;即:熱力學(xué)溫度為0K時,能量小于EF的量子態(tài)被電子占據(jù)的概率為100%,故這些量子態(tài)上都是有電子的;反之,則被電子占據(jù)的概率為0,故這些量子態(tài)上都沒有電子,是空的;熱力學(xué)溫度為0K時,費米能級可看成量子態(tài)是否被電子占據(jù)的一個界限。如下圖所示。第31頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月32費米分布函數(shù)與溫度關(guān)系曲線E=0f(E)=0E>0第32頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月33T>0K時:E<EF時,f(E)>1/2;E=EF時,f(E)=1/2;E>EF時,f(E)<1/2;即:系統(tǒng)熱力學(xué)溫度大于0K時,能量小于EF的量子態(tài)被電子占據(jù)的概率大于50%;能量等于EF的量子態(tài)被電子占據(jù)的概率等于50%;能量大于EF的量子態(tài)被電子占據(jù)的概率小于50%;熱力學(xué)溫度大于0K時,費米能級是量子態(tài)基本上被電子占據(jù)或基本上是空的的一個標(biāo)志。如上圖所示;隨著溫度的升高,電子占據(jù)能量小于費米能級的量子態(tài)的概率下降,而占據(jù)能量大于費米能級的量子態(tài)的概率增大.第33頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月34在溫度不很高時,能量大于費米能級的量子態(tài)基本上沒有被電子占據(jù);能量小于費米能級的量子態(tài)基本上為電子所占據(jù);電子占據(jù)費米能級的概率在各種溫度下總是1/2;所以費米能級的位置比較直觀地標(biāo)志了電子占據(jù)量子態(tài)的情況,通常就說費米能級標(biāo)志了電子填充能級的水平;費米能級位置較高,說明有較多的能量較高的量子態(tài)上有電子。第34頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月費米能級是電子占有率為1/2時的能量。F(E)在費米能量EF附近呈對稱分布,當(dāng)E-EF>>3k0T時,能量為E的能態(tài)被電子占據(jù)的概率可簡化為:對于能量為E的能態(tài)被空穴占據(jù)的概率:圖2.20
不同溫度下費米分布函數(shù)F(E)對(E-EF)圖由于價帶中較高能級的電子更容易激發(fā)出來,因此較高能級上出現(xiàn)的空穴具有較低的空穴能量,即空穴能級的高低關(guān)系與電子能級的高低關(guān)系正好相反,可用負(fù)的電子能量來表示空穴的能量。第35頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月P35圖2.21由左到右所描繪的是能帶圖、態(tài)密度N(E)、費米分布函數(shù)及本征半導(dǎo)體的載流子濃度。利用:
可由圖求得載流子濃度,即由圖(b)中的N(E)與圖(c)中的F(E)的乘積可得到圖(d)中的n(E)對E的曲線(上半部的曲線)。圖(d)中陰影區(qū)域面積為載流子濃度(上半部陰影區(qū)域面積相當(dāng)于電子濃度,下半部陰影區(qū)域面積則為空穴濃度)。圖2.21本征半導(dǎo)體
第36頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月
雖然在導(dǎo)帶在存在大量可允許的能態(tài),然而對本征半導(dǎo)體而言,導(dǎo)帶中卻不會有太多的電子,即電子占據(jù)這些能態(tài)的幾率很小。同樣,在價帶也有大量的可允許能態(tài),但大部分被電子占據(jù),其幾率幾乎為1,只有少數(shù)空穴。因此費米能級的位置接近禁帶的中間(即EF低于EC好幾個kT)。可得:第37頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月令:則:所以:其中:假如將導(dǎo)帶底部定為EC而不是零,則導(dǎo)帶的電子濃度為:在室溫下(300K),對硅而言NC是2.86×1019cm-3;對砷化鎵則為4.7×1017cm-3。第38頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月同理,價帶中的空穴濃度p為:其中,NV是價帶中的有效態(tài)密度,且:在室溫下,對硅而言NV是2.66×1019cm-3;對砷化鎵則為7.0×1018cm-3。第39頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月404、本征載流子濃度:每單位體積的電子、空穴數(shù)相同。
式中,Eg=Ec-Ev
本征費米能級Ei費米分布函數(shù)可表示為:其中k是玻爾茲曼常數(shù),T是絕對溫度,EF是費米能級。在室溫下,第二項比禁帶寬度小得多。因此,本征半導(dǎo)體的本征費米能級Ei相當(dāng)靠近禁帶的中央。第40頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月由于:所以:該式對非本征半導(dǎo)體同樣成立,稱為質(zhì)量作用定律。即:最終:其中,Eg=EC-EV。室溫(300K)時,硅的ni為1010cm-3量級,砷化鎵的ni為106cm-3量級。上圖給出了硅及砷化鎵的ni對于溫度的變化情形。禁帶寬度越大,本征載流子濃度越?。粶囟仍礁?,本征載流子濃度越大。n0=p0=ni,n0p0=ni2圖2.2以溫度倒數(shù)為函數(shù)的硅及砷化鎵中本征載流子濃度第41頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月425、影響n0、p0的因素導(dǎo)帶中電子濃度n0和價帶中空穴濃度p0隨溫度T和費米能級EF的不同而變化;溫度的影響:一方面來源于有效態(tài)密度Nc和Nv;
另一方面,也是更主要的來源,即玻耳茲曼分布函數(shù)中的指數(shù)隨溫度迅速變化;另外,費米能級也與溫度及半導(dǎo)體中所含雜質(zhì)情況密切相關(guān)。因此,在一定溫度下,由于半導(dǎo)體中所含雜質(zhì)的類型和數(shù)量的不同,電子濃度及空穴濃度也將隨之而變化。第42頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月載流子濃度乘積n0p0該乘積和費米能級無關(guān);半導(dǎo)體材料一定,該乘積只決定于T,與所含雜質(zhì)無關(guān);溫度一定,該乘積只決定于半導(dǎo)體材料的Eg;半導(dǎo)體材料和溫度一定,該乘積就一定。第43頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月44總結(jié)熱平衡載流子濃度的普遍表示式。只要確定了EF,在一定溫度T時,導(dǎo)帶中電子濃度和價帶中空穴濃度就能計算出來:熱平衡狀態(tài)下非簡并半導(dǎo)體的普遍關(guān)系式(本征半導(dǎo)體和雜質(zhì)半導(dǎo)體)如下:特點:對一定的半導(dǎo)體材料,乘積n0p0是一定的。即當(dāng)半導(dǎo)體處于熱平衡狀態(tài)時,載流子濃度的乘積保持恒定,如果電子濃度增加,空穴濃度就要減少,反之亦然。第44頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月456、兩種分布函數(shù)及適用范圍費米分布函數(shù),遵守泡利不相容公式:
玻耳茲曼分布函數(shù)公式:k0是玻耳茲曼常數(shù),T是絕對溫度,EF費米能級或費米能量。f(E)=11+expE-EF(k0T)適用:在E-EF>>k0T處,量子態(tài)為電子占據(jù)的幾率很小時。fB(E)=AeEk0T-A=eEFk0T其中第45頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月46非簡并性系統(tǒng):服從玻耳茲曼統(tǒng)計的。簡并性系統(tǒng):服從費米統(tǒng)計的。費米能級是量子態(tài)基本上被電子占據(jù)或基本上是空的一個標(biāo)志。費米統(tǒng)計與玻耳茲曼統(tǒng)計的主要區(qū)別在于:前者受到泡利不相容原理的限制。在E-EF>>K0T的條件下,泡利不相容原理失去作用,因而兩種統(tǒng)計的結(jié)果變成一樣了。第46頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月47表3、300K下鍺、硅、砷化鎵的本征載流子濃度各項參數(shù)Eg(ev)mn*(mdn)mp*(mdp)Nc(cm-3)Nv(cm-3)ni(cm-3)計算值ni(cm-3)測量值Ge0.670.56m00.37m01.05x10195.7x10182.0x10132.4x1013Si1.121.08m00.59m02.86x10192.66x10197.8x1099.65x109GaAs1.420.068m00.47m04.7x10177x10182.3x106
2.25x106第47頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月48§2.7施主與受主2.7.1施主與受主的雜質(zhì)和能級2.7.2雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度2.7.3非簡并半導(dǎo)體與簡并半導(dǎo)體第48頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月492.7.1施主與受主的雜質(zhì)和能級1.替位式雜質(zhì)與間隙式雜質(zhì)2.施主雜質(zhì)與施主能級3.受主雜質(zhì)與受主能級第49頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月501.間隙式雜質(zhì):雜質(zhì)原子位于晶格原子間的間隙位置;一般原子比較小。替位式雜質(zhì):雜質(zhì)原子取代晶格原子位于晶格處。要求替位式雜質(zhì)的大小與被取代的晶格原子的大小相近。且價電子殼層結(jié)構(gòu)相近。第50頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月施主:圖(a)顯示一個硅原子被一個帶有5個價電子的砷原子所取代(或替補)。此砷原子與4個鄰近硅原子形成共價鍵,而其第5個電子有相當(dāng)小的束縛能,能在適當(dāng)溫度下被電離成傳導(dǎo)電子。通常說此電子被施給了導(dǎo)帶。砷原子因此被稱為施主。由于帶負(fù)電載流子增加,硅變成n型半導(dǎo)體。圖2.23(a)帶有施主(砷)的n型硅當(dāng)本征半導(dǎo)體被摻入雜質(zhì)時,半導(dǎo)體變成非本征的,而且引入雜質(zhì)能級--非本征半導(dǎo)體。2.施主雜質(zhì)與施主能級第51頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月52施主雜質(zhì)(donor)V族:P,AsV族元素取代Si原子后,形成一個正電中心和一個多余的價電子。該價電子的運動狀態(tài):比成鍵電子自由受到As+的庫侖作用。As+:不能移動的正電中心施主雜質(zhì)(n型雜質(zhì)):能夠向晶體提供電子同時自身成為帶正電的離子的雜質(zhì)。第52頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月53雜質(zhì)電離(ImpurityIonization)雜質(zhì)電離:電子脫離雜質(zhì)原子的束縛,成為導(dǎo)電電子的過程.雜質(zhì)電離能:使這個多余的價電子掙脫束縛成為導(dǎo)電電子所需要的能量。ED<<Eg,
(P在Si中的電離能:44meV)施主電離:施主雜質(zhì)施放電子的過程。施主雜質(zhì)未電離時是中性的,稱為束縛態(tài);電離后成為正電中心,稱為離化態(tài)。第53頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月54施主能級施主能級:被雜質(zhì)束縛的電子的能量狀態(tài)。ED施主能級ED位于離導(dǎo)帶很近的禁帶中。用短線表示。分立能級,未形成帶。T=0K,束縛態(tài)T
0K,從能帶看:電子從ED
躍遷到EC,成為導(dǎo)帶電子。從空間看:電子脫離P+
離子的庫侖束縛,運動到無窮遠(yuǎn)離化態(tài)電離的原因:熱激發(fā),遠(yuǎn)紅外光的照射等ED=EC-ED
第54頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月55N型半導(dǎo)體:在純凈半導(dǎo)體中摻入施主雜質(zhì),雜質(zhì)電離后,導(dǎo)帶中的導(dǎo)電電子增多。依靠導(dǎo)帶電子導(dǎo)電的半導(dǎo)體稱為n型半導(dǎo)體,對應(yīng)施主摻雜。第55頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月56受主雜質(zhì)(acceptor)III族元素:BB取代Si后,從別的硅原子中奪取一個價電子,產(chǎn)生一個負(fù)電中心(B-)和一個空穴。受主雜質(zhì)(p型雜質(zhì)):能夠接受電子并使自身帶負(fù)電的雜質(zhì)。此即為p型半導(dǎo)體,而硼原子則被稱為受主。(a)B的三個價電子只能和四個近鄰硅原子形成三個共價鍵,在另一個鍵上出現(xiàn)一個電子空位;相當(dāng)于在價帶中出現(xiàn)一個空穴;(b)空穴從鄰近的原子的共價鍵中獲得一個電子。B形成負(fù)電中心。在空穴能量較低時,該負(fù)電中心將空穴束縛在自己周圍,形成空穴的束縛態(tài)。導(dǎo)電空穴是主要載流子3.受主雜質(zhì)與受主能級第56頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月可利用氫原子模型來計算施主的電離能(ionizationenergy)ED,并以電子有效質(zhì)量mn取代m0及考慮半導(dǎo)體介電常數(shù)εs得到下式即由:圖2.23(b)帶有受主(硼)的p型硅第57頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月58受主電離過程:電子的運動。價帶中的電子得到能量EA后,躍遷到受主能級上—受主電離,電子和束縛在受主能級上的空穴復(fù)合,并在價帶中產(chǎn)生了一個空穴,該空穴可以認(rèn)為是從雜質(zhì)能級轉(zhuǎn)移到價帶的,是可以自由運動的導(dǎo)電空穴,同時也就形成了一個不可移動的受主離子。
(也可看成是空穴得到能量后,躍遷到價帶)EA空穴能量受主能級:被受主雜質(zhì)所束縛的空穴的能量狀態(tài);位于離價帶頂很近的禁帶中。EA,EA=EA-EV第58頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月簡單的氫原子模型雖然無法精確地解釋電離能,尤其對半導(dǎo)體中深層雜質(zhì)能級(即電離能≥kT),但可用它來粗略推算淺層雜質(zhì)能級的電離能大小。如圖是對含不同雜質(zhì)的硅及砷化鎵所推算得的電離能大小??梢姡瑔我辉又杏锌赡苄纬稍S多能級。一般情況,深能級雜質(zhì)會產(chǎn)生多重能級。其補償作用。圖2.24
不同雜質(zhì)在硅及砷化鎵中的電離能第59頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月4深能級雜質(zhì)重金屬元素?fù)饺氚雽?dǎo)體中會引入深能級?!?”或“-”號分別表示該能級是施主或受主能級一個深能級雜質(zhì)能產(chǎn)生多個雜質(zhì)能級。如I族的銅、銀、金能產(chǎn)生三個受主能級;II族元素鋅、鎘、汞在硅、鍺中各產(chǎn)生兩個受主能級。其原因是什么呢?第60頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月金在鍺中的多能級金(Au
)是1價元素,中性的金有一個價電子。在鍺中,金的價電子若電離躍入導(dǎo)帶,則成為施主。然而,此價電子被多個共價鍵束縛,電離能很大,故為“深施主”。另一方面,金比鍺少三個電子。鍺的整體結(jié)構(gòu)要求每個原子為四價,因此,金有可能接受三個電子,形成EA1、EA2、EA3三個受主能級。當(dāng)金接受了一個電子后,成為Au-,再接受一個電子將受到負(fù)電中心的排斥作用,難度更大。因而受主能級EA2將更大。EA3最大,能級最深,非??拷鼉r帶。金含量很少,作用是捕獲電子,即電子陷阱。由于它能夠消除積累的空間電荷,減少電容,故可提高器件速度。看P38圖2.24第61頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月622.7.2
雜質(zhì)半導(dǎo)體的載流子濃度雜質(zhì)能級與能帶中的能級是有區(qū)別的,在能帶中的能級可以容納自旋方向相反的兩個電子;而對于雜質(zhì)能級只能是如下兩種情況的一種:被一個有任一自旋方向的電子所占據(jù);不接受電子。施主能級不允許同時被自旋方向相反的兩個電子所占據(jù),故不能用費米分布函數(shù)來表示電子占據(jù)雜質(zhì)能級的概率,雜質(zhì)半導(dǎo)體電子的統(tǒng)計分布比本征半導(dǎo)體復(fù)雜的多:第62頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月63一、雜質(zhì)能級上的電子和空穴前面的費米分布適用于電子相互獨立的狀態(tài),但雜質(zhì)上的電子并非如此,對類氫施主,電子可按兩種自旋狀態(tài)占據(jù),因為占據(jù)施主態(tài)的電子是未配對的,一旦某一電子占據(jù)該能級,不可能有第二個電子占據(jù)另一自旋狀態(tài)(若占據(jù)需要很高能量),故電子占據(jù)施主雜質(zhì)能級的概率為:1.施主能級情況施主雜質(zhì)能級上的電子濃度nD(沒有電離的施主濃度),ND施主雜質(zhì)濃度:第63頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月64電離施主濃度nD+:施主能級與費米能級的相對位置反映了電子占據(jù)施主能級的情況:當(dāng)ED-EF>>k0T時,nD≈0;nD+≈ND。即當(dāng)費米能級遠(yuǎn)在ED之下時,施主雜質(zhì)幾乎全部電離;反之,當(dāng)ED-EF<<k0T時,nD≈ND;nD+≈0。即EF遠(yuǎn)在ED之上時,施主雜質(zhì)基本上沒有電離,
當(dāng)EF=ED重合時,nD≈2ND/3,nD+≈ND/3
。即施主雜質(zhì)有1/3電離,還有2/3沒有電離。第64頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月65空穴占據(jù)受主雜質(zhì)能級的概率為:2.受主能級情況受主能級上的空穴濃度pA(未電離的受主濃度):NA受主雜質(zhì)濃度第65頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月66電離受主濃度pA+
:受主能級與費米能級的相對位置反映了空穴占據(jù)受主能級的情況:當(dāng)EF-EA>>k0T時,pA≈0;pA+≈NA。即當(dāng)費米能級遠(yuǎn)在EA之上時,受主雜質(zhì)幾乎全部電離;反之,EF遠(yuǎn)在EA之下時,受主雜質(zhì)基本上沒有電離,即:pA≈NA;pA+≈0。當(dāng)EF=EA重合時,pA≈2NA/3,pA+≈NA/3
。即受主雜質(zhì)有1/3電離,還有2/3沒有電離。第66頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月67二、n型半導(dǎo)體的載流子濃度溫度一定則可決定EF第67頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月68當(dāng)溫度由低到高變化時,對不同溫度還可將上式進(jìn)一步簡化,分以下幾種情況:第68頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月69(一)雜質(zhì)離化區(qū)第69頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月701.處在低溫弱電離區(qū)時,當(dāng)溫度很低時,大部分施主雜質(zhì)能級仍為電子所占據(jù),只有很少量施主雜質(zhì)發(fā)生電離,這少量的電子進(jìn)入了導(dǎo)帶,這種情況稱為雜質(zhì)弱電離。該情況下導(dǎo)帶中的電子全部由電離施主雜質(zhì)所提供。施主雜質(zhì)能級上的電子濃度nD(沒有電離的施主濃度),ND施主雜質(zhì)濃度,空穴濃度遠(yuǎn)低于電子濃度.則電中性條件變?yōu)椋簄=ND-nD,<<ND,電離施主濃度nD+=n=ND-nD,nD=NDfD,根據(jù)電中性條件和近似,可以求出費米能級EF和電子濃度n,第70頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月71(1)費米能級弱電離下,EF
在ED之上,所以第71頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月72
即費米能級位于導(dǎo)帶底和施主能級間的中線處。費米能級與溫度的變化關(guān)系
第72頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月73溫度升高到一定程度,則有dEF/dT=0,由上式可得:表明費米能級達(dá)到了極值。雜質(zhì)含量越高,費米能級達(dá)到極值的溫度也越高。溫度繼續(xù)升高時,低溫弱電離區(qū)EF與T的關(guān)系第73頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月74(2)載流子濃度(低溫弱電離)將前面得到的費米能級公式代入下式:得:在低溫下,由施主雜質(zhì)提供的載流子-電子濃度,遠(yuǎn)超于本征激發(fā)載流子濃度,所以,空穴濃度P0趨于0.第74頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月75溫度很低時,隨著溫度升高,n0呈指數(shù)上升:n0~T關(guān)系:關(guān)系圖為一直線,其斜率為,故可通實驗測定n0~T關(guān)系,確定出雜質(zhì)電離能,從而得到雜質(zhì)能級的位置。第75頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月762.中間電離區(qū)溫度繼續(xù)升高,當(dāng)2Nc>ND后,式:中的第二項為負(fù)值,EF下降到(Ec+ED)/2以下;當(dāng)溫度升高到使EF=ED時,由式:可得,施主雜質(zhì)有1/3電離。=1/3ND第76頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月773.強電離區(qū)當(dāng)溫度升高到大部分雜質(zhì)都電離時稱為強電離。(1)費米能級
一般摻雜濃度下,Nc>ND,故上式第二項為負(fù);費米能級處于禁帶中。費米能級由溫度和施主雜質(zhì)濃度決定;
一定溫度T時,ND越大,EF越向?qū)Х较蚩拷伙柡蛥^(qū):施主雜質(zhì)全部電離時,n0(與溫度無關(guān))保持等于雜質(zhì)濃度的溫度范圍。第77頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月78一定ND時,溫度T越高,EF越向本征費米能級Ei方向靠近。硅的費米能級與溫度及雜質(zhì)濃度的關(guān)系第78頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月79(2)載流子濃度(強電離)既適用于本征半導(dǎo)體,也適用于非簡并的雜質(zhì)半導(dǎo)體第79頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月80(3)強電離與弱電離的區(qū)別第80頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月81(4)決定雜質(zhì)全電離的因素第81頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月82(二)過渡區(qū)當(dāng)半導(dǎo)體處于飽和區(qū)和完全本征激發(fā)之間時稱為過渡區(qū)。這時導(dǎo)帶中的電子一部分來源于全部電離的雜質(zhì),另一部分則由本征激發(fā)提供,價帶中產(chǎn)生了一定量的空穴。1.費米能級第82頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月83同理可得:第83頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月84將這兩個載流子濃度公式代入電中性條件:n0=ND+p0式得:一定溫度時,已知ni和ND,即可求得(EF-Ei);ND/(2ni)很小時,即EF接近Ei,半導(dǎo)體接近于本征激發(fā)情況.ND/(2ni)增大時,即EF-Ei也增大,向飽和區(qū)方面接近。EF=Ei+k0T/2*ln(ND/ni)第84頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月852.載流子濃度(過渡區(qū))第85頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月86討論:當(dāng)ND>>ni時,時第86頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月87第87頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月88(三)高溫本征激發(fā)區(qū)溫度升高到一定程度,本征激發(fā)產(chǎn)生的本征載流子數(shù)遠(yuǎn)多于雜質(zhì)電離產(chǎn)生的載流子數(shù),即n0>>ND,p0>>NA。這種情況與未摻雜的本征半導(dǎo)體情形一樣,因此稱為雜質(zhì)半導(dǎo)體進(jìn)入本征激發(fā)區(qū)。這時,費米能級接近禁帶中線,載流子濃度隨溫度而迅速增加;顯然,雜質(zhì)濃度越高,達(dá)到本征激發(fā)起主要作用的溫度也越高。第88頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月89(四)舉例:n型Si中電子濃度與溫度關(guān)系低溫時,電子濃度隨溫度升高而增加;溫度在100~500K時,雜質(zhì)全部電離,載流子濃度近似等于雜質(zhì)濃度;溫度高于500K后,本征激發(fā)開始起主要作用。第89頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月90例題1:已知在室溫下(300K)三塊半導(dǎo)體硅材料的空穴濃度分別為:(1)分別計算這三種硅材料的電子濃度;(2)判斷這三種材料的導(dǎo)電類型;(3)分別計算這三種材料的費米能級的位置。第90頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月91解:(1)根據(jù)載流子濃度乘積公式,可求出:即:第91頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月92(2)因為,即,故該材料為p型半導(dǎo)體。
因為,即,故該材料為本征半導(dǎo)體。
因為,即,故該材料為n型半導(dǎo)體。
第92頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月93(3)(i)對p型材料有:
即p型半導(dǎo)體的費米能級在禁帶中線下0.37eV處。
(ii)同(i),因為
所以,即費米能級位于禁帶中線位置。第93頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月94(iii)對n型材料有:即對n型材料,費米能級在禁帶中線上0.35eV處。第94頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月95三、p型半導(dǎo)體的載流子濃度對于只含一種受主雜質(zhì)的p型半導(dǎo)體,可進(jìn)行類似的討論:(一)低溫弱電離區(qū)第95頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月96(二)強電離(飽和區(qū))第96頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月97(三)過渡區(qū)第97頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月98(四)總結(jié)摻有某種雜質(zhì)的半導(dǎo)體的載流子濃度和費米能級由溫度和雜質(zhì)濃度所決定:對于雜質(zhì)濃度一定的半導(dǎo)體,隨著溫度的升高,載流子從以雜質(zhì)電離為主要來源過渡到以本征激發(fā)為主要來源的過程;費米能級從位于雜質(zhì)能級附近逐漸移近禁帶中線處;當(dāng)溫度一定時,費米能級的位置由雜質(zhì)濃度所決定:對于n型半導(dǎo)體,隨施主濃度的增加,費米能級從禁帶中線逐漸移向?qū)У赘浇?;對于p型半導(dǎo)體,隨受主濃度的增加,費米能級從禁帶中線逐漸移向價帶頂附近;說明在雜質(zhì)半導(dǎo)體中,費米能級的位置不但反映了半導(dǎo)體的
導(dǎo)電類型,而且還反映了半導(dǎo)體的摻雜水平:對于n型半導(dǎo)體,費米能級位于禁帶中線以上,ND越大,費米能級位置第98頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月99越高;對于p型半導(dǎo)體,費米能級位于中線以下,NA越大,費米能級位置越低。不同摻雜情況下的費米能級:強p型中,NA大,導(dǎo)帶中電子最少,價帶中電子也最少。即強p型半導(dǎo)體中,電子填充能帶的水平最低,EF也最低;弱p型中,導(dǎo)帶及價帶中電子稍多,能帶被電子填充的水平也稍高,EF也升高了;本征半導(dǎo)體,無摻雜,導(dǎo)帶和價帶中載流子數(shù)一樣多;弱n型中,導(dǎo)帶及價帶中電子更多,能帶被電子填充的水平也更高,EF升到禁帶中線以上;強n型中,導(dǎo)帶及價帶中電子最多,能帶被電子填充的水平最高,EF也最高。第99頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月100不同摻雜情況下的費米能級第100頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月101四、少數(shù)載流子濃度
n型半導(dǎo)體中的電子和p型半導(dǎo)體中的空穴稱為多數(shù)載流子(簡稱多子,和雜質(zhì)濃度及溫度之間的關(guān)系如上分析)。
n型半導(dǎo)體中的空穴和p型半導(dǎo)體中的電子稱為少數(shù)載流子(簡稱少子)。下面給出在強電離情況下的少子濃度。(一)n型半導(dǎo)體(強電離)第101頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月102(二)p型半導(dǎo)體(強電離)總之,少子濃度和本征載流子濃度的平方成正比,與多子濃度成反比。第102頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月103五、雜質(zhì)補償若半導(dǎo)體中同時含有施主和受主雜質(zhì),在低溫下,施主上的電子首先填充受主能級,二者之間有相互抵消的作用。這種情況即是雜質(zhì)補償。設(shè)ND
、NA為施主受主濃度,ND>NA,則補償?shù)慕Y(jié)果是:在較高溫度下施主最多只能向?qū)峁㎞D–NA個電子。由價帶和施主提供的總電子數(shù)為n=p+ND-nD,
(nD為施主雜質(zhì)上的電子濃度。)必須等于導(dǎo)帶和受主接受的電子數(shù)。
由電中性條件:n+NA-pA=,p+ND-nD,在低溫下,只要ND-NA>NA,則施主最多只是部分電離,費米能級EF在ED上下。第103頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月104其中,u函數(shù)是與晶格同周期的周期函數(shù)。第104頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月105第105頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月106雜質(zhì)高度補償?shù)牟牧现?,雜質(zhì)雖多,但不能向?qū)Ш蛢r帶提供電子和空穴。該材料容易被誤認(rèn)為高純半導(dǎo)體,實際上含雜質(zhì)很多,性能很差,一般不能用來制造半導(dǎo)體器件。第106頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月1072.7.3非簡并半導(dǎo)體與簡并半導(dǎo)體一、非簡并半導(dǎo)體-----服從玻耳茲曼分布的電子系統(tǒng)稱為非簡并系統(tǒng),相應(yīng)的半導(dǎo)體稱為非簡并半導(dǎo)體;電子或空穴的濃度遠(yuǎn)低于導(dǎo)帶或價帶中有效態(tài)密度。或者說費米能級EF比EV高3kT或比EC低3kT。對淺層施主:完全電離時,電子濃度n=ND(ND施主濃度),
費米能級,EC-EF=kTln(Nc/ND)對淺層受主:完全電離時,空穴濃度P=NA
費米能級,EF-EV=kTln(Nv/NA)如何求出以上公式?第107頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月非簡并半導(dǎo)體對于Si及GaAs的淺層施主,室溫下的熱能就能提供所有施主雜質(zhì)電力所需的ED,因此可在導(dǎo)帶中提供與施主雜質(zhì)等量的電子數(shù)。這種情形稱為完全電離,如右圖。完全電離時,電子濃度為圖2.25
(a)施主離子的非本征能帶表示圖第108頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月由:和同樣,對如圖所示的淺層受主能級,假使完全電離,則空穴濃度為p=NA。由:和p=NA可見,施主濃度越高,能量差(EC-EF)越小,即費米能級往導(dǎo)帶底部移近。同樣地,受主濃度越高,費米能級往價帶頂端移近。圖2.25(b)
受主離子的非本征半導(dǎo)體能帶圖第109頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月圖2.26顯示如何求得載流子濃度的步驟(注意np=ni2),其步驟與求本征半導(dǎo)體時類似。但在此例中費米能級較接近導(dǎo)帶底部,且電子濃度(即上半部陰影區(qū)域)比空穴濃度(下半部陰影區(qū)域)高出許多。圖2.26n型半導(dǎo)體第110頁,課件共121頁,創(chuàng)作于2023年2月以本征載流子濃度ni及本征費米能級Ei來表示電子及空穴濃度是很有用的,因為Ei常被用作討論非本征半導(dǎo)體時的參
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