LOW-E鍍膜玻璃的色差分析及解決辦法

14頁LOW-E鍍膜玻璃的色差分析及解決方法鍍膜玻璃的色差有存在于一片玻璃上的，也有存在于玻璃片與片之間的。在生產(chǎn)中造成鍍膜玻璃色差的緣由很多，本文主要從以下兩方面就色差產(chǎn)生的緣由和解決方法進展分析。一：玻璃原片方面假設(shè)玻璃原片本身存在色差，確定會導致鍍膜玻璃產(chǎn)生色差。尤其是本底著色的浮法玻璃，不同批次生產(chǎn)的浮法玻璃由于原料和工藝條件的變化很簡潔導致顏色不全都產(chǎn)生色差。玻璃原片由于存放時間過長,外表發(fā)霉或與包裝材料之間發(fā)生反響，產(chǎn)生紙紋等缺陷以及浮法玻璃在退火過程中外表沾上油或水等形成油跡、水跡等去除不掉玻璃原片在鋼化處理時產(chǎn)生斑點、斑紋，這些缺陷鍍膜后也會產(chǎn)生色差。玻璃原片的透射比較高，其外表上的斑紋、水跡等質(zhì)量缺陷大多數(shù)情況下用肉眼看不出來，但玻璃鍍上膜以后就很明顯地表露出來。有的浮法玻璃在生產(chǎn)過程中形成寬度一樣的直線型線道，俗稱暗道，鍍膜前不易看出，鍍膜后卻很明顯。再有玻璃厚度不均，可見光透射比相差較大也會導致產(chǎn)生色差。在日常生產(chǎn)中由于玻璃原片質(zhì)量問題導致鍍膜玻璃產(chǎn)生色差的狀況較多，因此，確定要做好玻璃原片的選購和質(zhì)量檢驗工作。二：薄膜方面鍍膜玻璃的膜層是其價值所在,也是其質(zhì)量好壞的關(guān)鍵。在玻璃原片質(zhì)量符合標準的前提下，膜層不均勻是鍍膜玻璃色差產(chǎn)生的根本原因，其中包括膜層厚度不均和膜層材質(zhì)成份不均兩個方面。單質(zhì)金屬膜鍍膜玻璃的膜層是由一層或幾層單質(zhì)金屬膜組成的，膜層厚度的均勻性打算了鍍膜玻璃的可見光透射比和顏色的均勻性，保證各個膜層厚度均勻就能保證沒有色差。復合膜玻璃的膜層是由幾層功能不同的薄膜組成的，各層薄膜厚度及材質(zhì)成份的變化都會或多或少地影響鍍膜玻璃的目的。因此，在生產(chǎn)過程中嚴格把握工藝參數(shù)保證每層薄膜厚度及材質(zhì)成分均勻格外重要。影響膜層均勻性的主要因素有：1陰極的磁場分布離線鍍膜玻璃的生產(chǎn)是利用真空磁控濺射的工作原理，利用磁場束縛電子的運動，使轟擊靶材外表的高能離子數(shù)量增多，從而到達快速鍍膜的特點。因此磁場分布是否均勻格外重要。磁鐵在受熱或受沖擊的狀況下會消滅退磁，造成磁場分布不均，如不準時充磁保證磁場均勻分布就會導致膜層不均的質(zhì)量問題。再者隨著靶刻蝕深度的不斷加大,靶材外表離磁鐵的距離越來越近，磁場強度越來越大，靶材的濺射率不斷提高從而使沉積速度增大，膜層厚度較從前狀況有所增加。因此，要依據(jù)靶材刻蝕深度和刻蝕區(qū)面積的變化準時調(diào)整工藝參數(shù) ，保證膜層均勻。.。2:氣體分布真空磁控濺射鍍膜是在確定壓強的工作氣體一般為氬氣環(huán)境中完成的，假設(shè)上作氣體分布不均勻，就會產(chǎn)生不均勻的等離子體放電從而34頁影響靶材的濺射沉積速度，導致膜厚不均。同時，在鍍制化合物薄膜時,反響氣體分布不均以及成膜過程中氣體分布變化都影響化合物薄膜的成分。因此，設(shè)計使用合理的布氣系統(tǒng)，定期清理布氣裝置防止堵塞，保證氣體分布均勻，是避開色差的有效方法之一。3:靶材外表溫度靶材的溫度影響靶材的濺射率。由于陰極冷卻水套結(jié)垢或堵塞等緣由造成靶材冷卻效果不好，其外表溫度不均，影響靶材的濺射率，從而導致膜層不均。4:靶材材質(zhì)不同材料的靶材、不同工藝生產(chǎn)的靶材、靶材密度及成份差異都將影響其濺射率。由于冶金方面的問題造成靶材中存在大量雜質(zhì)且集中分布,使靶材的純度和密度不全都從而影響靶材的濺射率，造成膜層不均。5:玻璃外表溫度為削減玻璃外表吸附的剩余氣體增加膜層附著力，玻璃在鍍膜前一般要加熱。玻璃外表的溫度影響膜層的生長及特性，加熱不均勻造成玻璃外表溫度相差較大，就會使膜層不均。在鍍制化合物薄膜時玻璃溫度還影響薄膜粒子與反響氣體的化學反響轉(zhuǎn)變膜層的結(jié)晶構(gòu)造 ，影響薄膜光學性能。因此在加熱玻璃原片時要保證一片玻璃溫度均勻 ,還要保證各片玻璃鍍膜時溫度全都。6:磁控濺射放電的穩(wěn)定性44頁磁控濺射放電的穩(wěn)定性與陰極靶及其附件外表的清潔程度有關(guān)。在玻璃鍍膜過程中，有時會消滅由于陰極或其附件外表不清潔，造成穩(wěn)定的特別輝光放電突然變?yōu)槟程幍幕」夥烹娀蚨虝旱摹罢阱兡さ牟Ａ硬痪?/p>

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