東南大學(xué)電子學(xué)院《現(xiàn)代光學(xué)基礎(chǔ)》補(bǔ)充內(nèi)容4-矢量光束

矢量光場

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用1一、光場的偏振態(tài)調(diào)控二、

矢量光場的生成方法三、

矢量光場的傳播及焦場特性四、

矢量光場的應(yīng)用

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用主要內(nèi)容2

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用一、光場的偏振態(tài)調(diào)控3

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用標(biāo)量光場口線偏振光口圓偏振光口橢圓偏振光矢量光場?4

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用在同一時刻同一波面上偏振態(tài)分布非均勻的光場空變偏振光場非均勻偏振光場矢量光場Adv.Opt.Photon.1,1(2009).口

復(fù)雜偏振口徑向偏振口

旋向偏振5偏振態(tài)冒常規(guī)調(diào)控的手段主要涉及標(biāo)量光場的振幅和位相等調(diào)控光傳播行為有效途徑之一：采用以光子晶體為代表的人

工微結(jié)構(gòu)材料所關(guān)注的光場絕大多數(shù)為缺少空間結(jié)構(gòu)的標(biāo)量光場

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用時

脈

沖域

寬度/線型振

幅光

場空

域研究矢量光場?頻

率波

長頻域位

相6

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用OE

7,77

(2000)PRL

106,123901

(2011)

PRL

105,030407

(2010)

APL

85,6239

(2004)PRL

102,183902

(2009)25um2.01.51.00.5Hyperentanglement

ScureeRemote

stave

preparalaLC1

holo

?φ左Sp!

rbit

HWP.BSA

PBSBob

AliceRemotely,fippermirrorScanning'miror十HWIaWSMFlensmoPBSSpin-arbit

state出APDLC2Transversepolarizationtomography矢量光場的應(yīng)用量子光學(xué)與量子信息表面等離激元光學(xué)微加工近場探測焦場工程矢量光場enhancedelectric

fieldcoverslipmetallizedcantilevertipenhanced

RamanpreparedphotonfocusedbeamsYXmoleculestomographypinhole乙7

—2E?一

線偏振

β=0右旋圓偏振

β=1左旋圓偏振

β=-1

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用口偏振橢圓

Ey

橢圓度

β=

E?y/E?長軸方位角

φ光場偏振態(tài)表述E(t)=E?cos(ot-kz+δ)辦Ey8光場偏振態(tài)表述□

Stokes參量

實驗可測量!

偏振度P=(S2+S2+S2)12/S。完全偏振光

P=1部分偏振光

O<P<1非偏振光

P=0

矢量光場：概念、生成、傳播和應(yīng)用S?=E?E-E,E,S?=EE+E,ES?=E?E+E,E

何

：

小

節(jié)

線

軸

振

元左

旋

圓

偏

振

光E4

5°線偏

振

光9

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用S?=S?cos

2a

cos

2φS?=S?cos2asin2φ

S?=S,sin

2aS?=E,E+E,ES?=E?E-E,E

S?=E,E+E,E光場偏振態(tài)表述口

Poincaré球

光場偏振態(tài)的幾何表述10>評價：Jones矢量表達(dá)簡潔，但不能描述自然光和部分偏振光。Stokes參量用解析式描述光

的偏振態(tài)，但缺乏直觀性；Poincaré球從幾何角度描述光的偏振態(tài)，具有直觀性，彌補(bǔ)了以上兩者之不足。

矢量光場：概念、生成、傳播和應(yīng)用□

Jones矢量電場

例如：水平線作45°線偏振光

左旋圓偏振光右旋圓偏振光光場偏振態(tài)表述11

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用a3(b)徑向和旋向偏振光Appl.Phys.Lett.20,266(1972

)

12旋轉(zhuǎn)偏振器偏振態(tài)

分布圓柱波導(dǎo)模式徑向偏振旋向偏振(a)

TEoTM

o4

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用單模矢量光場(旋向拓?fù)鋽?shù)m=1,

不同的初相位φ)Opt.Lett.

32,

3549

(2007)Po

=0

Po

=π/4

Po

=π/2Oo

=3π/4No

AnalyzerPolarization13

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用高階柱對稱旋向變化矢量光場m=2

m=3

m=514

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用雙模旋向變化矢量光場內(nèi)模m=1

和φo=0Po=π/4Po=π/2

Po=3π/4Po

=πNoAnalyzerPolarization15

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用內(nèi)模m=1

和φo=0m=2m=4m=716m=0.5Polarization

NoAnalyzerAnalyzerm

=1.5

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用非整數(shù)階矢量光場NoAnalyzerRP

APm=3

m

=1.5同一波陣面上四

種不同矢量光場非整數(shù)階矢量光場17局域線偏振、橢圓偏振、圓偏振

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用雜化偏振矢量光場局域線偏振Opt.Express

18,10786

(2010)

18(a)

(b)

δ(φ)

δ(p)δ=mφ+P?

δ=2nπplA+a?

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用徑向變化矢量光場19

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用徑向變化矢量光場arXiv:0912.5260

(2009)20δ=2nπplAdhaen=1.0n

=1.5n=0.5n=2.0bgC

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用旋向和徑向同時變化矢量光場Opt.Lett.36,3179

(2011)21

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用旋向或/和徑向同時變化矢量光場Opt.Express

20,21715(2012)22(a)

(c)

(e)(d)(b)(D)

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用δw=

π/4

3π/4

πNoAnalyzer復(fù)雜圖案的矢量光場光—光光Tδy:π/2AnalyzerAnalyzer(a)|3(e)(f)

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用復(fù)雜圖案的矢量光場三元漢字“明”二元太極圖案(c)(d)(a)(b)24(b)

(d)

(f)

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用復(fù)雜圖案的矢量光場(a)

(c)(g)(h)灰度圖lena頭像(e)25☆

光場偏振態(tài)表述

口

偏振橢圓□

Stokes參量

口

Poincaré球□

Jones矢量☆各種矢量光場(徑向和旋向偏振光、高階柱對稱、雙模旋向變化、非整數(shù)階、雜化偏振、徑向和/或旋向變化、復(fù)雜圖案的矢量光場)

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用第一節(jié)光場的偏振態(tài)調(diào)控☆矢量光場的概念☆研究矢量光場的意義26

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用二、

矢量光束的生成技術(shù)27

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用矢量光場的生成技術(shù)口主動生成√

通過設(shè)計激光器的諧振腔，直接輸出矢量光場激光，生成過程有激光增益介質(zhì)參與√

優(yōu)點：可以獲得很高效率的矢量光場√

缺點：欠缺靈活性口被動生成√

在激光諧振腔外，采用特殊設(shè)計的光學(xué)元件或者特殊的光學(xué)方法，將常規(guī)激光轉(zhuǎn)化為矢量光場√

優(yōu)點：很強(qiáng)的靈活性√

缺點：轉(zhuǎn)換效率不高28紅寶石激光器生成旋向偏振

光諧振腔設(shè)計裝置Appl.Phys.Lett.

20,

266(1972)Adv.Opt.Photon.1,1(2009)Telescope

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用主動生成Opt.Lett.31,2151

(2006)簡化了諧振腔結(jié)構(gòu)主動生成的核心是矢量光場模式選擇!Rear

mirror

Aperture

Output

coupler口

雙折射選?！?extraordinary

ray---:ordinary

ray+Stop29口

光的二向色性選模>錐形Brewster棱鏡Proceedings

of

the

IEEE

60,1107(1972)Opt.Lett.

30,

3063

(2005)

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用主動生成outputcoupleractive

mediumYb:YAG(thin

disk)polarizing

grating口

多層膜偏振光柵Opt.Lett.

32,3272-3274

(2007)30頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用主動生成口光子晶體反射鏡輸出耦合器

Opt.Express16,10762

(2008)(2008)External

linearpolarizerCCDOC口

光纖激光器

Appl.Phys.Lett.93,191104Er

doped

fiber()PumpHR

mirror

SVRTFPπCombinedDPEπBirefringentBeamDisplacerx

polarization

-y

polarization

=Gain

Medium主動生成口

腔內(nèi)模式合成

Appl.Phys.Lett.77,3322(2000)

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用二ApertureBack

Mirror

Alignment

Plate兩個正交偏振的HG??

模和HG??

模可以相干疊加成為徑向和旋向偏振光一

>一(a)個→(b)十十Output

Coupler個32→一

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用被動生成偏振轉(zhuǎn)換器(ARCoptix,Switzerland)Opt.Lett.21,1948(1996).口徑向偏振轉(zhuǎn)換器RadiallyPolarizedLight33E=E?eê。雙折射晶體光學(xué)二向色性材料Adv.Opt.Photon.1,1

(2009)Appl.Phys.Lett.

89,

251114

(2006)

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用。-236

.0

26x-axis

mm1/4波片

Opt.Lett.33,95

(2008)(a)

Negativealuminumelectrode口空變位相延遲器半波片Opt.Express

16,7295(2008)A(CCW+asviewed)(deg)@A=570nm25F口

空變偏振器E=E(ê+jê,)(b)LGO1

generation

EO-RPR

N2

LensDPSS532

nm被動生成EO-RPRwithradialE-fieldappliedSPP

Cireularpolartzery-axs

mm345mm

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用工作波長10.6μmAppl.Phys.Lett.79,1587(2001)Opt.Lett.27,1141

(2002)Opt.Lett.29,238

(2004)TM??徑向偏振光TE??

旋向偏振光Appl.Phys.Lett.93,231106

(2008)口亞波長光柵m=

m=2

m=3被動生成]

光纖m=410μm35

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用m=1

(m=-二Q被動生成New

J.Phys.9,78

(2007)Pol.0°SLM□

干涉Pol.0°45°HP36

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用□

Mach-Zehnder干涉

Opt.Commun.213,241

(2002)被動生成CollimatedHe-Ne

laserbeamBeam

splitter

λ/4

plate37

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用基于Sagnac

干涉儀的矢量光場激光諧振腔388被動生成Active

mediaOutput

mirrorAppl.Opt.45,8393

(2006)口Sagnac干涉BS-WirePolarizermirrorWireRear

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用(a)基于梯形Sagnac

干涉儀的任意空間

變化偏振光束口

梯形Sagnac

干

涉

Opt.Express

20,21715

(2012).被動生成39

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用(正交線偏振或左右旋圓偏振)口合成兩部分進(jìn)行重構(gòu)

(利用光柵)口普通路徑干涉

基

于

4f系

統(tǒng)

任

意

矢

量

光

場

的

生

成將常規(guī)光場分成兩部分?jǐn)y帶空變位相通過兩個不同路徑實現(xiàn)正交的偏振態(tài)(利用波片)VectorFieldGratingSLM

Lensλ/2

or

a/4

Wave

Plate

利用空間光調(diào)制器SpaceLensFilterLaserBeam口口口40極坐標(biāo)

討論：

δ=φ徑向偏振δ=p+π/2

旋向偏振

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用;生成原理41IVI

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用第二節(jié)矢量光束的生成技術(shù)雙折射選模光學(xué)二向色性選模主動生成

多層膜偏振光柵光子晶體反射鏡光纖激光器腔內(nèi)模式合成空變偏振器空變位相延遲器被動生成

亞波長光柵光纖干涉矢量光場生成方法42

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用三、

矢量光束的傳播及焦場特性43

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)

用矢量光場的旁軸聚焦>均勻照明情況下任意柱狀矢量光場的弱聚焦場焦場處

m=0

m=1

m=2

m=3旋向偏振變化的聚焦矢量光場屬于一類局域線偏振矢量光場，其場的偏振B.Gu

et

al.,Opt.Express20,149(2012).44分布在任何位置均保持不變。m=1,z=f-2z?~f+2z?過焦場Polarizer

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用矢量光場的旁軸聚焦cf)n(-f)adn(c-f)a>具有旋向偏振變化的本征拉格爾-高斯光束的弱聚焦場會x/λ會x/λB.GuandY.PCui,Opt.Express20,17684(2012).H

=5m

=1m=3會xλ￥45xn矢量光場的非旁軸聚焦>具有旋向偏振變化的本征拉格爾-高斯光束的非旁軸聚焦RadialcomponentAzimuthalcomponentLongitudinal

component

Global

intensity

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用lf口1.0口背

y

n

(

a

a

.

)1F/

(a·m)xhl,t0

(a".)(x,y,)

(m,m)B.Gu

and

Y.P

Cui,Opt.Express

20,17684(2012).會：xh會!xkJf會x/ax/λx/ax/λ46xada緊聚焦(a)線偏振和

(b)徑向偏振矢量光場對于徑向偏振矢量光場，緊聚焦情況下可產(chǎn)生強(qiáng)的縱向非傳播電場。磁場為零，波印廷矢量為零!

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用E(b)矢量光場的緊聚焦特性Et(a)>對縱向場的直觀解釋47

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用(b)NA

N,A焦斑束腰半徑與數(shù)值孔徑之間的關(guān)系Opt.Lett.36,352

(2011)48>通過對一半線偏振光加p位相板，聚焦光束的橫向和縱向場緊聚焦線偏振光束(a)具有和(b)沒有π-位相板π-phase

plate

(a)可以互換!xexp[jk(zcosθ+rsinOcos(φ-φ))]sinOdRichards-Wolf矢量衍射理論Opt.Express

7,77

(2000)Adv.Opt.Photon.1,1

(2009)頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用矢量光場的緊聚焦特性

聚焦場計算49

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用縱向場E(r,φ,z)=kf?°doE?VcosθsinOpt.Express7,77(2000)徑向偏振光場X

ZX

Z縱向項橫向項θl(θ)50Z0.0

0.2

0.4

0.6

0.8

1.0

1.2

1.4α(radians)電場通過界面ZAn=1n=1.52

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用Opt.Express10,324(2002)總光強(qiáng)縱向和橫向場之比

Phys.Rev.Lett.86,5251(2001)51均勻照明徑向偏振光場縱向項縱向場徑向項E2N2lxam/IxamZ

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用>單分子熒光成像Phys.Rev.Lett.86,

5251

(2001)一般的高斯光52縱向場探測e=60°E徑向偏振光o=9o|DB

Cθ=0°O=30°PCNCFPI

CL4AS=MOPD4beambefore

PC

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用>刀口“近場”探測

Phys.Rev.Lett.91,233901

(2003)lateral

position(μm)

lateral

position

(μm)縱向場探測axial

position(μm)axial

position(μm)

53徑向和旋向偏振光的焦場1.301.171.040.91

0.78

0.65

0.52

0.39

0.26

0.13lateral

position

(um)Clateralposition(μm)beamafter

PClateralpositonrm)HeNe-laserlateral

position

(um)projecton

(arb.units)proloction

(arb.units)intersity

(arb.urits)Xyz-

stageinten

sity

(arb,units)d口HWPTL2/ODTL1MDPHFLdbM大aa

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用>掃描近場光學(xué)顯微

(NSOM)Opt.Express13,6821

(2005)縱向場探測Normalized

intensity

(a.u.)Distance(μm)54

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用Opt.ExpressrCwavelemgth

invacuum)光刻膠直接記錄光場圖樣NA:0.8縱向場探測mask

plate

withphotoresist

Top-view

of

mask

plate

and15,3550

(2007)Microscope

objectivelensexposure

sitesMicroactuatorlmlensN

(au.55T

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用(0.))za

z/aNA:0.95

0.15x2

約4λ的焦場深度光針(OpticalNeedle)緊聚焦窄環(huán)狀的徑向偏振光束獲得縱向光針Opt.Express

20,14891

(2012).用二元光學(xué)獲得獲得縱向光針Nature

Photon.2,501

(2008).Focusing

lens(0,2)z/A豎z/λr/λr/λ56

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用r(wav

ngth)

z(wave2le

gth)Applications

in

laser

material

processing

and

laser

printing

57,nTele平頂焦場(Flat-topfocusing)調(diào)節(jié)初位相φ?=240Opt.Express10,324(2002).φo=0徑向偏

r振光φ?=90°旋向偏

振光lntensity

(a.u.)r(wavelengh)z(wevel7gth)Z

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用10只口

二維中空焦場旋向偏振光

NA=1.32NA=0.2x10?V二維中空聚焦場Opt.Express

7,77

(2000)高階柱對稱矢量光場m

=2NA=0.9m

=3y=0S?g。yFZINX10°0xx40085%-400-800

0

80059r/A

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用>內(nèi)外環(huán)反位相的徑向偏振光與旋

向偏振光相干疊加提高圍欄質(zhì)量Opt.Commun.

279,

229

(2007)>不同環(huán)帶偏振光在焦點處相干相消生成光學(xué)圍欄Opt.Lett.

31

,820(2006)三維光學(xué)圍欄(Opticalbubble)beam(3),

coherent

sumof(1)and

(2)beam

(1)beam

(2)(b)1/2z/λ

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用z(λ))v(r光學(xué)圍欄Opt.Commun.282,

3421(2009)NA=0.9

t=0.707φ?=0.089π

φ?=0.711π三維光學(xué)圍欄(Opticalbubble)>單階雙模矢量光場實現(xiàn)均勻三維r(a)r(a)z

(λ)

(a)z(a)(b)60DOE兩同心區(qū)域的Gouy相移的差異而形成三維光鏈。應(yīng)用：實現(xiàn)三維光學(xué)誘捕，沿光軸方向加速和輸運粒子

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用三維光鏈(Opticalchain)Opt.Lett.30,848

(2005)zM

波印廷矢量Sz

61z

n

光強(qiáng)分布esp(jp?)0exp(jq?徑向偏振光場衍射光學(xué)元件IⅡ

II公

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用第三章矢量光束的傳播及焦場特性☆矢量光場的旁軸和旁軸聚焦☆矢量光場的緊聚焦特性☆

縱向場☆

縱向場探測☆

光針☆

平頂焦場☆二維中空聚焦光場☆三維光學(xué)圍欄☆

三維光鏈62

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用四、

矢量光束的應(yīng)用63

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用徑向和旋向矢量光場飛秒脈沖縱向電場激光燒蝕熔融石英!(2011).

64光學(xué)微加工L1

CR

L2P

O矢量光束生成及微加工裝置Phys.Rev.Lett.106,123901TM0

國

28TENA=0.9SZx,μmx,μm3心多

3納米裂紋垂直于局域線偏振場的方向!用飛秒脈沖矢量光場在單晶硅片上感應(yīng)二維微結(jié)構(gòu)Opt.Express20,120

(2010).

65

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用光學(xué)捕獲(Opticaltrapping)>

通過高度聚焦激光束產(chǎn)生力(量級通常為皮牛頓級)移動微小透明物體LEDDFcondensor

annular

stop(b)Opt.Lett.37,1694

(2012).

66介電質(zhì)顆粒會吸引到光束聚焦點中心單光束梯度力光阱laser

light

in|intensityprofileAzimuthally

polarizedbeamlaser

light

inintensitsprofileRadiallypolarized

beam(a)光學(xué)微操縱>

光學(xué)微操縱是利用光學(xué)的方法對微小粒子進(jìn)行精細(xì)操作和特性研究的技術(shù)息Lampuluminator

TrappedParticles波長為532

nm

20

mW顯微物鏡入瞳半徑2.5mmMirror3.2

μm聚苯乙烯小球CCDCameraSystemPhys.Rev.Lett.105,253602

(2010).67

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用GENERATING

UNIT

OF

VECTOR

FIELD徑向變化雜化偏振矢量光場Objective

顯微物鏡60倍數(shù)值孔徑0.7SLMLensλ/2or

λ/4

Wave

Plate'Lens

Gratingspace

FilterBeamn=-10Normalized

Value

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用光的偏振同樣可以影響光學(xué)各向同性的材料偏振旋度所致的光學(xué)軌道角動量t=1.6s

t=3.2

s

t=4.8

st=6.0sn

=10O?=0Radius

(a)t=8.4st=7.2

sn

=1068lateral

position

(μm)Phys.Rev.Lett.91,233901

(2003)

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用線偏振

圓偏振徑向偏振縱向場分量0.26x20.22A20.17x2

0.14

x超衍射極限聚焦利用縱向場實現(xiàn)超衍射極限聚焦NAmin/NAmax內(nèi)環(huán)NA-NAmin外環(huán)NA-NAmaxOpt.Expressintensity

(arb.units)16,4567(2008)Spot

sizeA2.口69Azimuthal3200Linear

x7.4×10zJ(e)7.8×109.5x104.0×101.6×10maxC2C5C6XAzimuthale)150Radial1.4x10?

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用>

光學(xué)二次諧波(Second-Harmonic

Generation,SHG)是指由于光與非線性晶

體相互作用，使頻率為的基頻光轉(zhuǎn)變?yōu)?的倍頻光的現(xiàn)象。二次諧波顯示(SHG

Imaging)Nano

Lett.

12,3207

(2012).70ExperimentsSimulationsC1C4(a)(f)

Zy(f)(g)(h)(i)I

inearyixperimentsAzimuthal250Azimuthal1.4x10°Radial(d)4×101.9×104.0

xRadiala)3.6

xLinearRadialC3C72

5010>表面等離激元(

SPPs)是在金屬表面區(qū)域的一種自由電子和光子相互作用的形成的電磁模。表面電荷振蕩與光波電磁場之間的相互作用使得表面等離激元具有很多獨特的有意義的性質(zhì)。

頭量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用雜化偏振矢量光場激發(fā)金納米膜的SPPs光強(qiáng)Opt.Express20,24728

(2012).表面等離激元(Surface

plasmon)Phys.Re

v.Lett.102,183902(2009).

71銀納米薄膜聚焦徑向偏振光場F*>

量子信息是關(guān)于量子系統(tǒng)“狀態(tài)”所帶有的物理信息。通過量子系統(tǒng)的各

種相干特性(如量子并行、量子糾纏和量子不可克隆等),進(jìn)行計算、編碼和

信息傳輸?shù)娜滦畔⒎绞健?a)

*=|H-(V)=H}+iVH)-IV)

C--IM0

75

150

Q

100

300(b)ldeal

Cni

ine

5

in

5ss0t5nun02002a1r0n10nr50

矢量光場：概念、

生成、傳播和應(yīng)用Remotelypreparedphotonflipper

mirrorScanningpinholemirrorX

×LC2HWP4aWPSMFlens,PBSSpin-orbitstate0.00.28Transversepolarizationtomography量子信息(Quantum

Information)(d)Honzontalpostion

(mm)Phys.Rev.Lett.