LCD-清洗技術(shù)簡介

LCD

清洗技術(shù)簡介漢高股份有限公司電子產(chǎn)品的發(fā)展方向TFT-LCDLCD的結(jié)構(gòu)透明電極

玻璃基板

導(dǎo)向膜

液晶光源

集成電路反射片反射片ColorFilterBlackMatrixArrayBoardITO玻璃制造流程和玻璃清洗劑CeO

研磨研磨后清洗涂膜前清洗母板ITO涂膜切割后清洗切割P3silironAPP3silironHSP3silironLP3silironEP3silironTKP3silironTKAP3silironSP3silironSA最新產(chǎn)品：P3silironAP去除研磨劑P3silironSA去除顆粒，紙屑，玻璃屑，油污彩色濾光片的制造過程玻璃基板黑色矩陣彩色層保護層ITO導(dǎo)電膜光阻涂布BM基板清洗ITO制程去除邊緣顯影后段烘烤前段預(yù)烤紫外線曝光重復(fù)三次(R,G,B)P3poleveHPP3disperseH印框膠貼偏振片檢測下一道工序

去除殘留液晶注射液晶清洗面板組合Arrayboard

基板玻璃清洗去除研磨和切割殘留物清洗金屬鉻BM制程

刻蝕Arrayboard光刻制程

ColorFilter曝光去除邊緣曝光

檢測檢測ColorFilter

基板玻璃去除邊緣，顯影

去除光阻顯影光阻BM制程去除光阻

TFT-LCD制造流程LCD基板玻璃表面的污染物污染物分類污染物來源清洗方法有機污染物包裝紙中的有機物、指印、油脂等玻璃清洗劑清洗堿液清洗UV光照射(O3)清洗無機污染物灰塵、玻璃屑或研磨劑等微粒子(particle)超音波清洗噴淋加毛刷清洗配合溢流與過濾基板預(yù)清洗一.目的：對PI投入前之基板做清洗工作，確?；逯鍧崰顟B(tài)。二.原理：利用洗劑、毛刷、超音波、IR、UV等裝置，將基板上的微粒及油污清除。LCD基板清洗P3silironHS(2槽)1-5%,45-60℃,5-10min.

浸漬＋超聲波P3silironLS(2槽)

1-3%,45-60℃,5-10min.

噴淋＋刷洗去離子水

(4-5槽)

RT-60℃,5-10min.浸漬＋超聲波去離子水(4-5槽)RT-60℃,5-10min.

噴淋＋刷洗清洗漂洗PI前強堿清洗的特點 強堿與玻璃有一定的親合力，容易在玻璃表面形成堿性覆蓋膜，不易被漂洗除去。為解決堿液吸附殘留表面問題，需采取增加沖洗次數(shù)的方法改善，一般清洗設(shè)備會設(shè)計更多的清洗和漂洗槽，但這也增加了設(shè)備費用成本。

P3siliron系列玻璃清洗劑的特點表面活性劑和助洗劑的協(xié)同作用，顯示出卓越的清洗性能采用了漂洗助劑，殘留物極易漂洗干凈。助洗劑濃度: 2.0%表面活性劑濃度: 0.1%清洗溫度: 60°C處理時間(min)清洗能力(%)水表面活性劑助洗劑助洗劑+表面活性劑100013020406080510Lit.from:Oberfl?che-Surface1984,Rossmann:ReinigungstarrerOberfl?chen助洗劑/表面活性劑的協(xié)同作用水洗水123脫脂水洗

舉例:

m=10ml/m2表面

Co=25g/l

Cx=0.01g/l

稀釋比例=1:2500消耗量:1個水洗槽 25.00l/m2表面2個水洗槽 0.50l/m2表面3個水洗槽 0.14l/m2表面水洗水計算方程式(簡化式)L=nCoCx

L=水洗水的消耗(l/m2表面)

m=帶出量(l/m2表面)n=水洗區(qū)的水洗槽數(shù)量Co=最后脫脂槽的濃度(g/l)Cx=最后水洗槽的濃度(g/l)mLCD基板玻璃清洗條件控制項目清洗劑濃度測定:每天進行一次電導(dǎo)率法酸堿滴定－

總堿定期添加

約5g/m2LCD基板玻璃清洗條件測試方法水膜浸潤度掃描式電子顯微鏡(SEM)X光能量分散光譜儀(EDS)顆粒殘留以X光能量分散光譜儀(EnergyDispersiveSpectrometer)分析微粒子污染物，確認(rèn)該微粒子為玻璃屑泄漏液晶清洗一.目的：對封口、裂片、磨邊后之液晶片作清洗工作，主要目的是去除狹隘中的殘留液晶。二.原理：利用液晶清洗劑、超音波等裝置，配合溢流(overflow)與過濾(filtration)將狹隘中的殘留液晶以及表面的微粒清除干凈。由于STN-LCD工藝是先將液晶盒裁切(裂片)之后才進行清洗，可以預(yù)知液晶盒的玻璃面板邊緣與表面，除了沾附液晶分子，亦將附著許多玻璃屑(微粒子)，所以清洗槽的溢流與過濾功能就顯得非常重要。

LCD清洗條件P3kaltfin20(2槽)45-60℃,5-10min.

超聲波＋攪拌P3kaltfin20+P3EtarapES(2槽)45-60℃,5-10min.

超聲波＋攪拌P3allpass7000/7750(2槽)45-60℃,5-10min.

超聲波＋攪拌

IPA(3槽)RT-45℃,15-20min.

超聲波＋攪拌PureWater(4槽或以上)40-60℃,15-20min.

超聲波＋攪拌PureWater(4槽或以上)40-60℃,15-20min.

超聲波＋攪拌清洗漂洗泄漏液晶清洗LCD清洗工藝

P3kaltfin20+P3EtarapES清洗貯油槽漂洗漂洗過濾器（純水）1活性炭離子交換塔自來水廢水處理系統(tǒng)油水分離器烘箱烘

干85-100℃漂洗2

不損害玻璃。

對封口膠無害。

環(huán)氧樹脂,丙烯酸樹脂

不損害金屬。

鋁,銀,銅

不含離子。

表面張