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文檔簡介
一維無限深勢阱
一維無限深勢阱討論3)按照經(jīng)典物理的觀點,粒子在阱內(nèi)不停地運動,因而在阱內(nèi)各處找到粒子的概率應該相等;而量子理論指出,當粒子處于束縛態(tài)時,其在各個位置出現(xiàn)的概率不同。1)在經(jīng)典力學中首要的是受力分析,力函數(shù)不同,牛頓方程的形式就不同。而這里首要的是尋找勢能函數(shù),勢能函數(shù)不同,薛定諤方程的形式就不同,它們的運動狀態(tài)當然就不同.2)待定系數(shù)是由標準條件(邊值條件)和歸一化條件所決定,與機械波中是完全由初始條件決定所不同,這就體現(xiàn)了物質(zhì)波是概率波的特點。4)從定態(tài)薛定諤方程出發(fā),利用波函數(shù)應遵守的標準條件,可自然地得出能量的量子化條件,而無須象玻爾那樣人為地假定。這是薛定諤方程的成功處之一。5)基態(tài)能不為零,是經(jīng)典物理不能解釋的。一維方勢壘
隧道效應(勢壘貫穿)TunnelEffect一維方勢壘粒子的能量Ⅲ區(qū)Ep
(x)=0,x≥aⅠ區(qū)
Ep(x)=0,x≤
0Ⅱ區(qū)Ep
(x)=Ep0
,0≤x≤a0aEp0ⅠⅡⅢx經(jīng)典物理:當粒子能量E<Ep0
時,從經(jīng)典理論來看,粒子不可能穿過勢壘進入x>a
的區(qū)域;
量子物理:應求解定態(tài)薛定諤方程,才能下結(jié)論。一維方勢壘
隧道效應(勢壘貫穿)TunnelEffect一維方勢壘Ⅲ區(qū)Ep
(x)=0,x≥aⅠ區(qū)
Ep(x)=0,x≤
0Ⅱ區(qū)Ep
(x)=Ep0
,0≤x≤a0aEp0ⅠⅡⅢx三區(qū)域的波函數(shù)表示為
1、
2、
3定態(tài)薛定諤方程:一維方勢壘
隧道效應(勢壘貫穿)TunnelEffect一維方勢壘Ⅲ區(qū)Ep
(x)=0,x≥aⅠ區(qū)
Ep(x)=0,x≤
0Ⅱ區(qū)Ep
(x)=Ep0
,0≤x≤a0aEp0ⅠⅡⅢx令:三區(qū)域的波函數(shù)表示為
1、
2、
3一維方勢壘
隧道效應(勢壘貫穿)TunnelEffect一維方勢壘0aEp0ⅠⅡⅢx令:Ⅲ區(qū)Ⅰ區(qū)Ⅱ區(qū)三區(qū)域的波函數(shù)表示為
1、
2、
3Ⅲ區(qū)Ep
(x)=0,x≥aⅠ區(qū)
Ep(x)=0,x≤
0Ⅱ區(qū)Ep
(x)=Ep0
,0≤x≤a一維方勢壘
隧道效應(勢壘貫穿)TunnelEffect0aEp0ⅠⅡⅢx三區(qū)域的波函數(shù)分別為:Ⅲ區(qū)
Ⅰ區(qū)
Ⅱ區(qū)
三式的右邊第一項表示沿x方向傳播的平面波,第二項為沿x負方向傳播的平面波
1
右邊的第一項表示射向勢壘的入射波,第二項表示被“界面(x=0)”反射的反射波。
2
右邊的第一項表示穿入勢壘的透射波,第二項表示被“界面(x=a)”反射的反射波。
3
右邊的第一項表示穿出勢壘的透射波,
3
的第二項為零,因為在x>a區(qū)域不可能存在反射波(B3=0)。B3=0一維方勢壘
隧道效應(勢壘貫穿)TunnelEffect0aEp0ⅠⅡⅢx三區(qū)域的波函數(shù)分別為:Ⅲ區(qū)
Ⅰ區(qū)
Ⅱ區(qū)
三式的右邊第一項表示沿x方向傳播的平面波,第二項為沿x負方向傳播的平面波定義反射系數(shù):粒子被勢壘反射的概率定義透射系數(shù):粒子穿過勢壘的概率B3=0一維方勢壘
隧道效應(勢壘貫穿)TunnelEffect0aEp0ⅠⅡⅢx三區(qū)域的波函數(shù)分別為:Ⅲ區(qū)
Ⅰ區(qū)
Ⅱ區(qū)
B3=0得到4個方程,再波函數(shù)的歸一化條件,求出常數(shù)A1、B1、A2
、B2
和A3
間關系,從而得到反射系數(shù)和透射系數(shù).波函數(shù)在x=0,x=a
處連續(xù)一維方勢壘
隧道效應(勢壘貫穿)TunnelEffect0aEp0ⅠⅡⅢxB3=0(1)E>Ep0,
R≠0,
即使粒子總能量大于勢壘高度,入射粒子并非全部透射進入III
區(qū),仍有一定概率被反射回I
區(qū)。(2)E<Ep0
,
T≠0,
雖然粒子總能量小于勢壘高度,入射粒子仍可能穿過勢壘進入III區(qū)
——
隧道效應。討論:入射粒子一部分透射到達III
區(qū),另一部分被勢壘反射回I
區(qū)。一維方勢壘
隧道效應(勢壘貫穿)TunnelEffect0aEp0ⅠⅡⅢxB3=0入射粒子一部分透射到達III
區(qū),另一部分被勢壘反射回I
區(qū)。粒子能穿過比其能量更高的勢壘,這種現(xiàn)象稱為隧道效應(勢壘貫穿)
這是微觀粒子波動性的表現(xiàn)。
隧道效應已被許多實驗所證實,并在半導體器件、超導器件、物質(zhì)表面探測等現(xiàn)代科技領域中有著重要的應用。掃描隧道顯微鏡(STM)Scanning
Tunneling
Microscopy1982年,IBM公司蘇黎世實驗室的Binning和Rohrer及其同事們共同研制成功。金屬樣品電子云Ubd隧道電流I電子云重疊由于電子的隧道效應,金屬中的電子并不完全局限于金屬表面之內(nèi),電子云密度并不是在表面邊界處突變?yōu)榱?。在金屬表面以外,電子云密度呈指?shù)衰減,衰減長度約為1nm。用一個極細的、只有原子線度的金屬針尖作為探針,將它與被研究物質(zhì)的表面作為兩個電極,當樣品表面與針尖非常靠近(距離<1nm)時,兩者的電子云略有重疊,在兩極間加上電壓Ub,在電場作用下電子就會穿過兩個電極之間的勢壘,通過電子云的狹窄通道流動,從一極流向另一極,形成隧道電流I。隧道電流I對針尖與樣品表面之間的距離極為敏感,當針尖在樣品表面上方掃描時,即使其表面只有原子尺度的起伏,也將通過其隧道電流顯示出來。借助于電子儀器和計算機,在屏幕上即顯示出樣品的表面形貌。掃描隧道顯微鏡(STM)Scanning
Tunneling
Microscopy與其它表面分析技術相比,STM所具有的獨特優(yōu)點是:1、具有原子級高分辨率STM在平行和垂直于樣品表面方向的分辨率可達0.1nm和0.01nm,即可分辨出單個原子。
2、可以觀察單個原子層的局部表面結(jié)構(gòu),而不是整個表面的平均性質(zhì)。3、利用STM針尖,可以對原子和分子進行操縱。重新排列原子(1990年用35個Xe原子在Ni表面拼綴出
IBM)——納米技術正式誕生掃描隧道顯微鏡(STM)Scanning
Tunneling
Microscopy
1993年5月
48個鐵原子排列成一個“量子圍欄”,照片中反映的是電子密度的高低,圍欄內(nèi)是電子密度波的駐波。與其它表面分析技術相比,STM所具有的獨特優(yōu)點是:1、具有原子級高分辨率STM在平行和垂直于樣品表面方向的分辨率可達0.1nm和0.01nm,即可分辨出單個原子。
2、可以觀察單個原子層的局部表面結(jié)構(gòu),而不是整個表面的平均性質(zhì)。3、利用STM針尖,可以對原子和分子進行操縱。解:1)n=2時,波函數(shù)為:概率密度函數(shù):例
一粒子在一維無限深勢阱中運動,其波函數(shù)為:
求:1)當n=2時,求粒子出現(xiàn)概率最大的位置和
粒子出現(xiàn)概率最小的位置;2)當n=1時,在區(qū)間(0~a/4)發(fā)現(xiàn)粒子的概率是多少?粒子出現(xiàn)概率最大的位置:解:1)n=2時,波函數(shù)為:概率密度函數(shù):例
一粒子在一維無限深勢阱中運動,其波函數(shù)為:
求:1)當n=2時,求粒子出現(xiàn)概率最大的位置和
粒子出現(xiàn)概率最小的位置;2)當n=1時,在區(qū)間(0~a/4)發(fā)現(xiàn)粒子的概率是多少?粒子出現(xiàn)概率最小的位置:解:2)
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