PSS工藝流程PPT課件_第1頁
PSS工藝流程PPT課件_第2頁
PSS工藝流程PPT課件_第3頁
PSS工藝流程PPT課件_第4頁
PSS工藝流程PPT課件_第5頁
已閱讀5頁,還剩13頁未讀 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、奧瑞德PSS工藝流程,品質(zhì)部 2014-03-14,-0-,PSS標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)流程圖,1、涂膠,2、曝光,3、顯影,4、ADI檢查,5、刻蝕,6、刻蝕后檢查,7、去膠,8、清洗,9、終檢,10、包裝,預(yù)清洗,目的: 去除污染物、顆粒 減少針孔和其它缺陷 提高光刻膠黏附性 基本步驟: 化學(xué)清洗 漂洗 烘干,預(yù)烘烤,脫水烘焙-去除晶片表面的潮氣; 噴涂一層底膠(厚度為2nm左右),增強光刻膠與表面的黏附性; 烘烤溫度通常在100 左右; 底膠廣泛使用: HMDS,即六甲基乙硅氮烷; HMDS的作用:去除藍(lán)寶石表面的-OH基。,涂膠 Spin Coating,藍(lán)寶石圓片放置在真空卡盤上; 高速旋轉(zhuǎn),旋轉(zhuǎn)

2、速度決定光刻膠層的厚度; 液態(tài)光刻膠滴在藍(lán)寶石圓片中心; 光刻膠以離心力向外擴(kuò)展; 均勻涂覆在圓片表面; 設(shè)備-光刻膠旋涂機(jī)。,前烘,作用:促進(jìn)膠膜內(nèi)溶劑充分揮發(fā),使膠膜干燥; 增加膠膜與藍(lán)寶石圓片的粘附性及耐磨性。 影響因素:溫度,時間。 烘焙不足(溫度太低或時間太短): 顯影時易浮膠,圖形易變形。 烘焙時間過長: 增感劑揮發(fā),導(dǎo)致曝光時間增長,甚至顯不出圖形。 烘焙溫度過高: 感光劑反應(yīng)(膠膜硬化),不易溶于顯影液,導(dǎo)致顯影不干凈。,曝光-接觸式曝光(手動曝光),為了保證曝光質(zhì)量,在操作中要注意以下幾點; 定位必須嚴(yán)格套準(zhǔn); 菲林必須平整地貼在玻璃上,不能有空隙。若存在空隙,則不該曝光的地

3、方會受到光的照射,使圖形產(chǎn)生畸變; 曝光操作中,應(yīng)注意動作要輕,保護(hù)好菲林不致劃傷; 曝光時間必須準(zhǔn)確控制。,曝光-步進(jìn)式曝光(自動曝光),現(xiàn)代藍(lán)寶石襯底制造中最常用的曝光工具; 通過曝光縮小掩膜圖形以提高分辨率 ; 分辨率:0.25 m 或更??; 不足:設(shè)備很昂貴。,曝光后烘焙,機(jī)理:光刻膠分子發(fā)生熱運動,使過度曝光和曝光不足的光刻膠分子發(fā)生重分布; 作用:平衡駐波效應(yīng),提高分辨率。,顯影,目的:顯影液溶劑溶解掉光刻膠中軟化部,從掩膜版轉(zhuǎn)移圖形到光刻膠上。 注意:顯影必須徹底,以使圖形邊緣整齊。顯影需嚴(yán)格控制好顯影時間。若顯影時間不足,會使膠膜邊緣出現(xiàn)厚度不均的過夜區(qū),造成邊緣毛刺,圖形模糊

4、,影響光刻質(zhì)量。 若顯影時間過長,顯影時光刻膠發(fā)生軟化、膨脹,使圖形邊緣變形。,堅膜(Hard Bake),蒸發(fā)PR(光刻膠)中所有有機(jī)溶劑; 提高刻蝕和注入的抵抗力; 提高光刻膠和表面的黏附性; 聚合和使得PR更加穩(wěn)定; PR流動填充針孔。,ADI檢查,ADI檢查,又叫顯影后檢查(After Development Inspection Introduction) 目的:一般這里會把晶圓破損、defocus(離焦)、劃傷、臟污、表面顏色不均勻、曝光不良、圖形錯位等問題晶片剔除。 通過ADI檢測后,即可進(jìn)入下一步刻蝕工藝。,干法刻蝕,從晶圓表面去除一定材料 化學(xué)、物理過程或兩者結(jié)合 選擇性或覆

5、蓋刻蝕 優(yōu)點: 各向異性腐蝕強; 分辨率高; 刻蝕3m以下線條。,干法刻蝕過程中的參數(shù)調(diào)節(jié)及工藝特點,參數(shù)調(diào)節(jié): 溫度:刻蝕速率,化學(xué)反應(yīng); 功率:離子密度,離子能量; 壓力:離子密度,離子方向性,化學(xué)刻蝕; 其它:氣體流量、反應(yīng)物材料、反應(yīng)物潔凈度、掩膜材料。 工藝特點: 好的側(cè)壁剖面控制,即各向異性; 良好的刻蝕選擇性,合適的刻蝕速率,好的片內(nèi)均勻性; 工藝穩(wěn)定性。,刻蝕后檢查,藍(lán)寶石表面顏色是否異常及劃傷; 有無圖形異常及Particle; 刻蝕后表面圖形質(zhì)量:AFM/光學(xué)輪廓儀。,去膠及清洗,去膠:將經(jīng)過蝕刻的藍(lán)寶石表面殘留的光刻膠去除干凈。 清洗:將去膠處理后藍(lán)寶石表面殘存的光刻膠、Particle等雜質(zhì)徹底清除,清洗后藍(lán)寶石表面無色差、水痕等缺陷。,包裝,包裝:將做完P(guān)SS的晶片放入凈化卡塞盒中

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論