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1、.,傳統(tǒng)四線電阻式觸摸屏結(jié)構(gòu)及工藝流程,一:原材料及產(chǎn)品結(jié)構(gòu) 二:生產(chǎn)工藝流程 三:電容式觸摸屏結(jié)構(gòu),.,一:原材料及產(chǎn)品結(jié)構(gòu),Base PET,1.1:ITO FILM,注釋: 1:PET基材表面采用磁控濺射鍍膜,技術(shù)要求高,生產(chǎn)廠商不多,高品質(zhì)膜基本為日系廠商所壟斷 2:ITO膜層厚度約300nm,PET常見(jiàn)厚度為0.175,0.180,0.125mm.,ITO鍍膜層,.,1.2:ITO GLASS,Base Glass (白玻璃),ITO 膜層,注釋: 1:ITO膜厚300nm左右,采用CVD獲PVD法鍍膜,國(guó)內(nèi)可生產(chǎn)。 2:Base Glass薄板由康寧,板哨子,旭哨子等廠商壟斷,國(guó)內(nèi)

2、無(wú)法生產(chǎn),常見(jiàn)厚度0.55,0.7,1.1mm等等,0.4mm不常見(jiàn)。 3:Glass按照強(qiáng)度分為普通玻璃,化學(xué)強(qiáng)化,鋼化玻璃等,還有部分性能及其優(yōu)越的產(chǎn)品,不常見(jiàn)。,.,1.3:電阻式觸摸屏結(jié)構(gòu)分解,FILM 面 GLASS面,銀電極,.,1.3:電阻式觸摸屏結(jié)構(gòu)分解,印刷絕緣后,印刷隔離點(diǎn)后,絕緣油墨層,隔點(diǎn),.,1.3:電阻式觸摸屏結(jié)構(gòu)分解,印刷粘合膠,印刷工序結(jié)構(gòu),注釋: FILM印刷層與GLASS基本相同,沒(méi)有隔離點(diǎn)層,粘合膠層,.,四線電阻式觸摸屏結(jié)構(gòu)圖(1),粘合膠層(采用印刷工藝印刷,厚度約20微米),絕緣層(采用印刷工藝,厚度約12微米),.,四線電阻式產(chǎn)品結(jié)構(gòu)示意圖(2),

3、ITO FILM,FILM銀電極,上層絕緣,粘合膠(省略),粘合膠層,絕緣層,銀電極,FPC,ITO GLASS,隔點(diǎn),.,四線電阻式產(chǎn)品結(jié)構(gòu)示意圖(3),側(cè)面圖,中間為空氣,.,2.1:印刷車間(前段)流程,二:生產(chǎn)工藝流程,玻璃領(lǐng)料,清洗,印刷MK,蝕刻剝膜,印銀電極,印ICON,印隔點(diǎn),印粘合膠,印絕緣,FILM領(lǐng)料,熱處理,印銀電極,印絕緣,蝕刻剝膜,印刷MK,印粘合膠,裁切,貼 合 室,.,2.2:后段流程,貼合,裝盒,貼保護(hù)膜,外觀,I P Q C,檢測(cè),壓FPC,切割,封膠,尺寸檢查,F Q C,入庫(kù),裝箱,出貨,O G Q C,.,三:電容式觸摸屏結(jié)構(gòu),3.1:iphone,Cover lens 0.7鋼化玻璃,康寧,OCA 3M8187 180微米,Sense Glass,SiO2 厚度:約100nm,ITO 厚度:100300nm,Base Glass :厚度:0.55mm,ITO 厚度:100300nm,SiO2 厚度:約100nm,.,3.2:pixcir,Sense glass,Cover lens,OCA,Base glass,ITO 厚度300nm,SiO2介質(zhì)層,ITO厚度300nm SiO2保護(hù)層,1:結(jié)構(gòu)圖(1),.,2:結(jié)構(gòu)圖(2),Sense Glass (正面圖),注釋: 1

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