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文檔簡介
1、電感耦合等離子體質(zhì)譜ICP-MS1. ICP-MS儀器介紹測定超痕量元素和同位素比值的儀器。由樣品引入系統(tǒng)、等離子體離子源系統(tǒng)、離子聚焦和傳輸系統(tǒng)、質(zhì)量分析器系統(tǒng)和離子檢測系統(tǒng)組成。工作原理:樣品經(jīng)預(yù)處理后,采用電感耦合等離子體質(zhì)譜進行檢測,根據(jù)元素的質(zhì)譜圖或特征離子進行定性,內(nèi)標(biāo)法定量。樣品由載氣帶入霧化系統(tǒng)進行霧化后,以氣溶膠形式進入等離子體的軸向通道,在高溫和惰性氣體中被充分蒸發(fā)、解離、原子化和電離,轉(zhuǎn)化成帶電荷的正離子,通過銅或鎳取樣錐收集的離子,在低真空約133.322帕壓力下形成分子束,再通過12毫米直徑的截取板進入質(zhì)譜分析器,經(jīng)濾質(zhì)器質(zhì)量分離后,到達離子探測器,根據(jù)探測器的計數(shù)與
2、濃度的比例關(guān)系,可測出元素的含量或同位素比值。儀器優(yōu)點:具有很低的檢出限(達ng/ml或更低),基體效應(yīng)小、譜線簡單,能同時測定許多元素,動態(tài)線性范圍寬及能快速測定同位素比值。地質(zhì)學(xué)中用于測定巖石、礦石、礦物、包裹體,地下水中微量、痕量和超痕量的金屬元素,某些鹵素元素、非金屬元素及元素的同位素比值。2. ICP產(chǎn)生原理ICP-MS所用電離源是感應(yīng)耦合等離子體(ICP),它與原子發(fā)射光譜儀所用的ICP是一樣的,其主體是一個由三層石英套管組成的炬管,炬管上端繞有負(fù)載線圈,三層管從里到外分別通載氣,輔助氣和冷卻氣,負(fù)載線圈由高頻電源耦合供電,產(chǎn)生垂直于線圈平面的磁場。如果通過高頻裝置使氬氣電離,則氬
3、離子和電子在電磁場作用下又會與其它氬原子碰撞產(chǎn)生更多的離子和電子,形成渦流。強大的電流產(chǎn)生高溫,瞬間使氬氣形成溫度可達10000k的等離子焰炬。樣品由載氣帶入等離子體焰炬會發(fā)生蒸發(fā)、分解、激發(fā)和電離,輔助氣用來維持等離子體,需要量大約為1 L/min。冷卻氣以切線方向引入外管,產(chǎn)生螺旋形氣流,使負(fù)載線圈處外管的內(nèi)壁得到冷卻,冷卻氣流量為10-15 L/min。使用氬氣作為等離子氣的原因:氬的第一電離能高于絕大多數(shù)元素的第一電離能(除He、F、Ne外),且低于大多數(shù)元素的第二電離能(除Ca、Sr、Ba等)。因此,大多數(shù)元素在氬氣等離子體環(huán)境中,只能電離成單電荷離子,進而可以很容易地由質(zhì)譜儀器分離
4、并加以檢測。焰火的三個溫度區(qū)域:焰心區(qū)呈白色,不透明,是高頻電流形成的渦流區(qū),等離子體主要通過這一區(qū)域與高頻感應(yīng)線圈耦合而獲得能量。該區(qū)溫度高達10000 K。內(nèi)焰區(qū)位于焰心區(qū)上方,一般在感應(yīng)圈以上10-20mm左右,略帶淡藍色,呈半透明狀態(tài)。溫度約為6000-8000 K,是分析物原子化、激發(fā)、電離與輻射的主要區(qū)域。尾焰區(qū)在內(nèi)焰區(qū)上方,無色透明,溫度較低,在6000K以下,只能激發(fā)低能級的譜線。最常用的進樣方式是利用同心型或直角型氣動霧化器產(chǎn)生氣溶膠,在載氣載帶下噴入焰炬,樣品進樣量大約為1 mL/min,是靠蠕動泵送入霧化器的。在負(fù)載線圈上面約10 mm處,焰炬溫度大約為8000 K,在這
5、么高的溫度下,電離能低于7 eV的元素完全電離,電離能低于10.5 eV的元素電離度大于20%。由于大部分重要的元素電離能低于10.5 eV,因此具有很高的靈敏度,少數(shù)電離能較高的元素,如C、O、Cl、Br等也能檢測,只是靈敏度較低。ICP-MS由ICP焰炬,接口裝置和質(zhì)譜儀三部分組成;若使其具有好的工作狀態(tài),必須設(shè)置各部分的工作條件。3. ICP-MS系統(tǒng)介紹ICP主要包括ICP功率,載氣、輔助氣和冷卻氣流量。樣品提升量等,ICP功率一般為1 KW左右,冷卻氣流量為15 L/min,輔助氣流量和載氣流量約為1 L/min,調(diào)節(jié)載氣流量會影響測量靈敏度。樣品提升量為1 ml/min。3.1 樣
6、品導(dǎo)入系統(tǒng)霧化器、霧化室。最常用的進樣方式是利用同心型或直角型氣動霧化器產(chǎn)生氣溶膠,在載氣載帶下噴入焰炬,樣品進樣量大約為1 mL/min,是靠蠕動泵送入霧化器的。標(biāo)準(zhǔn)樣品引入系統(tǒng)由兩個主要部分組成:樣品提升部分和霧化部分。樣品提升部分可以使用蠕動泵或自提升的霧化器。蠕動泵用于提升樣品或提升經(jīng)T接頭混合的樣品/內(nèi)標(biāo)混和液,可以便捷地實現(xiàn)內(nèi)標(biāo)的在線加入。使用標(biāo)準(zhǔn)的1.02 mm內(nèi)徑的樣品管時,在0.1 rps轉(zhuǎn)速下,蠕動泵提升樣品的能力大約為0.4 ml/min。而內(nèi)標(biāo)管的直徑為0.19 mm,因此內(nèi)標(biāo)液的流速更慢,在0.1 rps轉(zhuǎn)速下,蠕動泵提升內(nèi)標(biāo)的能力大約為20 l/min。也就是說,內(nèi)
7、標(biāo)溶液相對于被稀釋20倍,所以雖然我們要求引入系統(tǒng)的內(nèi)標(biāo)元素濃度為50 ppb,但使用的內(nèi)標(biāo)溶液濃度為1ppm(1000ppb)。注:即使用自提升的霧化器,仍需要使用蠕動泵,因為霧化器里的廢液是通過蠕動泵排到廢液桶中的。如果霧化器不排廢液,將導(dǎo)致信號不穩(wěn)定,如果過多的液體流入炬管,將導(dǎo)致熄火,對儀器造成危害。 樣品引入系統(tǒng)的第二部分是霧化器和霧化室。樣品以泵入方式或者自提升方式進入霧化器后,在載氣作用下形成小霧滴,并進入霧化室。大的、重的霧滴碰到霧化室壁后被排至廢液中,只有小霧滴才可進入等離子體內(nèi)。載氣的流量決定了霧化效率,當(dāng)載氣流量不夠大時,可以增加混合氣流量以保證霧化效率(例如:進行冷等離
8、子體實驗時)。霧化室的主要目的是去除大液滴,阻止其進入炬管,保證只有小顆粒的氣溶膠可以進入等離子體。使用霧化室可以提高等離子體的穩(wěn)定性和離子化的效率。大液滴碰撞到霧化室的室壁,并由廢液管排出。炬管和霧化室可以通過計算機x、y、z三維調(diào)控,調(diào)節(jié)精確度可達0.1mm;使用接頭夾固定炬管和連接管,方便器件的維護、更換;通過化學(xué)工作站軟件可以控制、移動整個炬管箱至后方,方便用戶直接維護錐和提取透鏡。Agilent 7500 ICP-MS使用的是ICP儀器上通用的Fassel型炬管。這種炬管由三個同心石英管組成,每層管路中流經(jīng)的氣體也有所不同。如果最中心的管路使用鉑或藍寶石材質(zhì)的內(nèi)插管,則可檢測含HF的
9、樣品。炬管的一端深入工作線圈中,工作線圈可以誘導(dǎo)產(chǎn)生用于樣品離子化的等離子體。為防止等離子體的高溫將炬管融化(等離子體的溫度可以達到10,000K),系統(tǒng)向炬管的最外層石英管中引入冷卻氣(又稱等離子體氣),其流量達15L/min。冷卻氣/等離子體氣的主要作用是將等離子體推離炬管內(nèi)壁,避免炬管融化,同時也為等離子體的形成提供了支持氣。在炬管第二層石英管中引入的是輔助氣,其流量大約為1L/min,其作用是將等離子體推離中心樣品引入管的末端,同時維持等離子體“火焰”。載氣從炬管的最中心管路進入炬管,同時將霧化室內(nèi)形成的氣溶膠帶入炬管。載氣流路(包括霧化器中引入的載氣和混合氣)的流量要足夠大,保證可以
10、在等離子體中心吹出一個“孔”,以將樣品引入到等離子體中,實現(xiàn)樣品的離子化;但載氣流量又不能太大,以免降低氣溶膠解離和離子化效率,并避免降低等離子體溫度。一般說來,使用標(biāo)準(zhǔn)2.5mm的炬管時,推薦的載氣流速為1.2L/min。3.2 接口系統(tǒng)ICP產(chǎn)生的離子通過接口裝置進入質(zhì)譜儀,接口裝置的主要參數(shù)是采樣深度,也即采樣錐孔與焰炬的距離,要調(diào)整兩個錐孔的距離和對中,同時要調(diào)整透鏡電壓,使離子有很好的聚焦。3.3 質(zhì)譜儀主要是設(shè)置掃描的范圍。為了減少空氣中成分的干擾,一般要避免采集N2、O2、Ar等離子,進行定量分析時,質(zhì)譜掃描要挑選沒有其它元素及氧化物干擾的質(zhì)量。同時還要有合適的倍增器電壓。事實上
11、,在每次分析之前,需要用多元素標(biāo)準(zhǔn)溶液對儀器整體性能進行測試,如果儀器靈敏度能達到預(yù)期水平,則儀器不再需要調(diào)整,如果靈敏度偏低,則需要調(diào)節(jié)載氣流量,錐孔位置和透鏡電壓等參數(shù)。扇形磁場質(zhì)量分析器:由于洛倫茲力的作用,磁場能夠?qū)Υ怪贝艌龇较蛉肷涞膸щ娏W舆M行偏轉(zhuǎn),偏轉(zhuǎn)的角度與粒子的質(zhì)量、所帶電量、初速度有關(guān)。對于相同動能的離子而言,偏轉(zhuǎn)角度就只與離子的質(zhì)荷比(m/z)有關(guān)。由于需要用到高強度勻強磁場(一般為1.5T),經(jīng)典的扇形磁場質(zhì)量分析器的體積一般比較大。扇形磁場是歷史上最早出現(xiàn)的質(zhì)量分析器,除了在質(zhì)譜學(xué)發(fā)展史上具有重要意義外,還具有很多優(yōu)點,如重現(xiàn)性良好的峰形與同位素豐度,分辨率與質(zhì)量大小無
12、關(guān),能夠比較快地進行掃描(每秒10個質(zhì)荷比單位)。在目前出現(xiàn)的小型化質(zhì)量分析器中,扇形磁場所占的比重不是很大,主要是因為如果把磁場體積和重量降低后將極大地影響磁場的強度,從而大大削弱其分析性能。但是,隨著新材料和新技術(shù)的不斷出現(xiàn),這種局面可望在將來得到改觀。 Agilent 7500 四級桿:Agilent 7500系列使用的是四級桿質(zhì)量過濾器。四級桿由四根精密加工的雙曲面桿平行成對兒排列而成。四級桿由純鉬材料制成,四個桿的中央空隙部分排列著離子束。RF電壓和DC電壓加在對角的兩個桿上,而在另外兩個桿上加的是相同大小的負(fù)電壓。電壓的交替改變,產(chǎn)生了電磁場,與離子束發(fā)生相互作用。在特定的電壓下,
13、只有特定質(zhì)量數(shù)的離子才能穩(wěn)定的沿軌道穿過四級桿。因此,通過快速掃描、變換電壓的方式,不同質(zhì)量數(shù)的離子可以在不同時間內(nèi)穩(wěn)定,并穿過四級桿到達檢測器。四級桿質(zhì)量過濾器的掃描速度超過每秒3000amu,相對于每秒時間內(nèi)可以對整個質(zhì)量范圍掃描10次。因為四極桿的掃描速度畢竟是有限的,所以如果離子進入四級桿的速度太快,就會導(dǎo)致四極桿分離離子的能力降低。因此,儀器在四級桿之前使用了一個Plate Bias透鏡,并在其上施加電壓以降低離子進入質(zhì)量過濾器的速度。如果在該透鏡上施加的是正電壓(最大為+5V),那么就更可以有效地降低離子速率,得到更好的峰形。4. ICP-MS使用事項4.1 ICP離子源中的物質(zhì)1
14、)已電離的待測元素:As+, Pb +, Hg +, Cd +, Cu +, Zn +, Fe +, Ca +, K +, 2)主體:Ar原子(99.99)3)未電離的樣品基體:Cl, NaCl(H2O) n, SOn, POn, CaO, Ca(OH)n, FeO, Fe(OH) n,這些成分會沉積在采樣錐、截取錐、第一級提透鏡、第二級提取透鏡(以上部件在真空腔外) 、聚焦透鏡、W偏轉(zhuǎn)透鏡、偏置透鏡、預(yù)四極桿、四極桿、檢測器上(按先后順序依次減少),是實際樣品分析時使儀器不穩(wěn)定的主要因素,也是儀器污染的主要因素;4) 已電離的樣品基體:ArO+, Ar +, ArH+, ArC +, ArC
15、l +, ArAr +,(Ar基分子離子) CaO+, CaOH +, SOn +, POn +, NOH +, ClO + ( 樣品基體產(chǎn)生),這些成分因為分子量與待測元素如Fe, Ca, K, Cr, As, Se, P, V, Zn, Cu等的原子量相同,是測定這些元素的主要干擾;特別需要注意的是,1ppt濃度的樣品元素在0.4mL/min(Babinton霧化器,0.1rps)速度進樣時,相當(dāng)于每秒進入儀器10,000,000個原子;而在檢測器得到的離子數(shù)在101000之間,即99.99%的樣品及其基體停留在儀器內(nèi)部或被排廢消除;因此,加大進樣量提高靈敏度的后果是同時加大儀器受污染速度
16、。離子提取接口處的樣品離子4.2 碰撞反應(yīng)池系統(tǒng)有三種工作方式:1)Collisional Induced Dissociation (干擾離子碰撞解離CID)什么是碰撞誘導(dǎo)解離(CID)?這是一個通過中性分子的碰撞把能量傳遞給離子的過程。這種能量傳遞足以使分子鍵斷裂和所選擇的離子重排。為什么它那么重要?在70年代初期McLafferty (JACS, 95, 3886, 1973) 論證了從離子觀測得的鍵斷裂和重排,表明了CID是中性分子的分子結(jié)構(gòu)的典型代表。在質(zhì)譜圖被獲得之前,母離子在碰撞池或室中被打碎??蓲呙枳与x子來獲取母離子的信息。通過碎片指紋分析,這種類型的數(shù)據(jù)可用于排序(縮氨酸和糖
17、),結(jié)構(gòu)分析和分析物鑒定。分裂最常用的方法就是碰撞誘導(dǎo)解離(CID),有時也稱碰撞激發(fā)分解(CAD)。2)Reaction (反應(yīng)模式,)3)(動能歧視KED,7500-ORS以此為主)4.3 影響儀器檢測能力的因素1.環(huán)境污染與實驗室工作條件2.實驗步驟的優(yōu)化設(shè)計3.試劑污染因素4.購買適合測定要求的高純試劑5.分子離子的干擾因素6.優(yōu)化樣品引入系統(tǒng), 干擾校正方法, 屏蔽炬, 冷等離子體技術(shù), 碰撞池或反應(yīng)池7.記憶效應(yīng)8.優(yōu)化樣品引入系統(tǒng), 加長沖洗時間, 操作人員的素質(zhì)9.接口效應(yīng),基體效應(yīng)10.選擇信號強度隨著基體元素的基體效應(yīng)、接口效應(yīng)而與待測元素信號強度同時增強或降低的內(nèi)標(biāo)進行校
18、正11.隨機背景12.四極桿、離子透鏡、真空系統(tǒng)等的優(yōu)化組合設(shè)計5. ICP-MS基本操作流程1)、開機1、 開電腦(密碼3000hanover),打印機;2、 打開儀器的總電源開關(guān)(在儀器后面的下角)和前面的電源開關(guān);3、 雙擊桌面的“ICP-MS TOP”圖標(biāo)進入工作站,如下圖所示:4、 從Instument菜單中選擇“Instrument control ”或者單擊“Instrument control ”圖標(biāo)進入下圖所示的儀器控制界面。從“Vacuum ” 菜單中選擇“vacuum on”,抽真空,第一次開機需要抽過夜。儀器狀態(tài)從“SHUTDOWN”到“STANDBY”狀態(tài)轉(zhuǎn)換;5、
19、從“Meters”菜單中選擇“Meter Control Panel”,進入如下圖所示的畫面,可以對真空、水流量、環(huán)境溫度、霧室溫度、氣體壓力及射頻功率進行實時監(jiān)測。一般選擇以下幾項IF/BK Pressure-接口及背壓閥壓力; Water Temperature 循環(huán)水溫;S/C Temperature 霧室溫度;Forward Power 入射功率;Reflected Power 反射功率;6、 首次開機,因為有使用碰撞池,還需從,從“Maintenance”菜單中選擇“Reaction Gas”,勾選“Open Bypass Valve”,設(shè)置所需反應(yīng)氣流量2-5 mL/min,進行反應(yīng)氣氣路吹掃。如果每天使用反應(yīng)池吹掃5-10min即可;如長期不用使用前需提前2 mL/min吹掃過夜。7、 儀器狀態(tài)轉(zhuǎn)換為“STANDBY”狀態(tài)后,開氬氣(0.7M pa),循環(huán)水、排風(fēng)。卡上蠕動泵管,樣品管必須放入DIW (去離子水)中,若連有內(nèi)標(biāo)管,亦放入DIW 中。8、 從“Maintenance”菜單中選擇“Sample Int
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