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文檔簡介

1、Page 1,TOPAS軟件的應(yīng)用體會(huì)TOtal Pattern Analysis Solutions,吳冰 2012年8月,Page 2,一、“把厚書讀薄”華羅庚,TOPAS軟件入門很容易: 1.打開TOPAS,導(dǎo)入數(shù)據(jù),按F2: 2.依次設(shè)置各參數(shù): Emission profile Background Instrument Corrections Miscellaneous,Page 3,3,2.1光源模型: 文件路徑:topas4lam The default profile Cuka2.lam has 2 lines, Cuk1 and Cuk2. For data with ve

2、ry sharp peaks the profile Cuka5.lam will give slightly better refinements.,Page 4,4,2.2背底模型: Most backgrounds can be fitted with a polynomial function (Chebychev Polynomial) The 1/x function is used to fit the rise the background at low angles caused by scatter from the direct beam Too few (6) can

3、be a source for serious errors, especially if broad peaks are present If an amorphous halo is present, it can often be fitted by entering a peak phase with a single peak,Page 5,2.3儀器參數(shù):參考Users Manual ,Page 6,Page 7,Page 8,2.4修正參數(shù):,1.Zero error 2. Lorentz-Polarisation factor 3.Absorption,Page

4、9,LP Factor (Lorentz-Polarisation factor) using the monochromator angle in2 Synchrotron use : 90 Neutron use : 90 No monochromator use : 0 Monochromator use (most common monochromators, Cu radiation): Ge : 27.3 Graphite : 26.4 Quartz : 26.6,Page 10,peak phase (profile fitting), hkl-phase (lattice pa

5、rameter refinements), structure (structure analysis and refinement),Page 11,3.應(yīng)用TOPAS軟件,3.1 Single line up to whole powder pattern fitting 無標(biāo)樣晶粒尺寸和微觀應(yīng)變 3.2 Indexing 晶系類型、空間群 3.3 Whole powder pattern decomposition 精修點(diǎn)陣參數(shù),獲得無標(biāo)樣微觀結(jié)構(gòu)(Pawley和Le Bail法) 3.4 Structure determination 無法制備單晶體樣品時(shí),用粉末樣品進(jìn)行晶體結(jié)構(gòu)分析

6、3.5 Rietveld structure refinement 精修晶體結(jié)構(gòu) 3.6 Quantitative Rietveld analysis 無標(biāo)樣定量相分析,Page 12,二、“把薄書讀厚”功夫在詩外,TOPAS入門很容易,用好不容易。 TOPAS允許用戶有很多選擇,但是選擇哪一項(xiàng)更好更合適,就需要用戶的經(jīng)驗(yàn),對衍射,對晶體學(xué)知識了解的深入程度了。 舉一個(gè)很簡單的例子:石英五指峰 晶體學(xué)知識:晶系,點(diǎn)群,空間群,宏觀對稱性,微觀對稱性 結(jié)構(gòu)化學(xué)知識:各化學(xué)鍵的鍵長和鍵角范圍,剛體模型,Page 13,石英五指峰: 如果我們選用SPVII峰型擬合,RWP(2.06%)收斂得很好,但

7、是我們看到第二個(gè)和第三個(gè)峰的強(qiáng)度比與實(shí)際不符。 如果采用FP法,盡管RWP(3.26%)比上面的方法差,但是擬合結(jié)果更符合實(shí)際。如下圖。,Page 14,Powder Pattern Information Content,Page 15,Page 16,三、TOPAS的特點(diǎn):,1.基本參數(shù)法: 如果我們已知實(shí)驗(yàn)儀器的幾何參數(shù)(如光源峰形, 各狹縫條件DS/SS/RS, 單色器,測角儀圓半徑,光源寬度, 樣品寬度等等), TOPAS 可以根據(jù)FP(fundamental parameter)直接計(jì)算出這臺(tái)儀器的儀器峰形。 這樣我們在精修時(shí),僅需要精修樣品size/strain 信息,調(diào)整樣品卷

8、積峰形來匹配實(shí)驗(yàn)測得的全譜。(適用于聚焦圓測量幾何) 簡化精修過程,減少人為誤差。,Page 17,2.用卷積來處理峰形: 2.1實(shí)驗(yàn)譜=光源峰形卷積*儀器峰形卷積*樣品信息卷積 這樣,我們?nèi)绻靡粋€(gè)標(biāo)樣,如(Bruker公司隨機(jī)提供的剛玉)來標(biāo)定光管的光源峰形卷積和儀器峰形卷積以后, 就可以從實(shí)驗(yàn)所測的全譜中”去卷積”得到樣品信息(size/strain).(適用于平行光幾何) 2.2 在對峰形的擬合上, TOPAS可以直接對每個(gè)單峰選擇FP, PV (pseudoVoigt), SPV(split pseudoVoigt), PVII(PearsonVII), SPVII(split Pe

9、arsonVII)等峰形進(jìn)行擬合. (其他有些XRD專業(yè)軟件,僅僅用函數(shù)來處理峰形, 對儀器的標(biāo)定也停留在FWHM 曲線上。),Page 18,2020/9/4,18,線形卷積合成,W,G,S,Y(2q) = (W G) S,Page 19,19,W: Emission Profile GEq: Instrument Convolutions in the Horizontal Plane GAx: Instrument Convolutions in the Axial Plane Si: Sample Convolutions Pi: Micro-Structure Effects Ui:

10、 Any User-Supplied Convolutions Bkg: Background,Y(2q) = (W GEq GAx) Si Pi Ui + Bkg,Fundamental Parameters Approach,Empirical Approach,Both,Page 20,3.在對背景的處理上,TOPAS 采用Chebychev Polynomial曲線和1/x 函數(shù)來擬合全譜背景, 同樣減小了人為誤差. 有些軟件需要人為扣除背景.計(jì)算結(jié)果有很大的隨機(jī)性. 例如計(jì)算樣品的結(jié)晶度: 譜圖低角區(qū)的拖尾峰,背底,各譜峰的擬合效果都非常好。,Page 21,Page 22,Page

11、 23,4.TOPAS計(jì)算晶粒大小,4.1 由于采用了卷積方法計(jì)算峰形,我們在用基本參數(shù)法得到儀器信息以后,可以從實(shí)驗(yàn)所測的全譜中”去卷積”得到樣品晶粒大小信息。 4.2 TOPAS用Rietveld精修出高斯size和洛倫茲size,然后通過求兩者的卷積優(yōu)化兩成分的貢獻(xiàn)因素,使其與測得峰形吻合,優(yōu)化結(jié)果給出Voigt組合峰形的積分寬度,從而得到樣品的晶粒大小。 LVol-IB = k / Voigt_Integral_Breadth_GL (1/CS_G, 1/CS_L) LVol-FWHM = k / Voigt_FWHM(1/CS_G, 1/CS_L),Page 24,Page 25,5

12、.TOPAS根據(jù)各相的cif結(jié)構(gòu)采用Rietveld方法來定量,5.1 沒有非晶相 精修各個(gè)物相的晶胞參數(shù)和晶粒尺寸, 有擇優(yōu)取向、吸收系數(shù)較小時(shí)也可修正。 5.2 有非晶相 加入內(nèi)標(biāo)(spiking)相,Page 26,26,可以下載CIF 結(jié)構(gòu)文件的網(wǎng)站,Inorganic crystal structure database (ICSD) available at or at http:/icsdweb.fiz-karlsruhe.de/index.php Bruker-AXS structure database (a few hundred minerals

13、) American Mineralogist Crystal structure database /AMS/amcsd.php Min-Chryst http:/database.iem.ac.ru/mincryst/,Page 27,6. TOPAS提供大量宏,Technical Reference中有各種宏的詳細(xì)說明及示例,對于有經(jīng)驗(yàn)的用戶,應(yīng)用這些宏來建立模型、精修參數(shù)非常有用。,Page 28,四、TOPAS應(yīng)用的一點(diǎn)小技巧:,1.關(guān)于Indexing: 1.1 最好選取從第一個(gè)峰開始的20-25條譜線 1.2 Bravais

14、法則 1.3 優(yōu)先選則GOF大的 1.4 增加一些限定條件,如 1.5有些空間群的確定需要用到其他實(shí)驗(yàn),Page 29,2.關(guān)于Whole powder pattern decomposition,Page 30,直接看space groups的工具,Page 31,3.關(guān)于Structure determination:,3.1 特殊原子位: Fractional coordinates for special positions such as 1/3, 1/6, etc. are expected in the form of an equation such as = 1/3, =1/

15、6, etc. in the Codes page, instead of values with re-occuring digits such as 0.3333., 0.1666., etc. in the Values page.,Page 32,3.2 cif文件需要手動(dòng)添加精修參數(shù) 3.3注意樣品的擇優(yōu)取向,Page 33,3.4 精修時(shí),通常將晶胞參數(shù)及各結(jié)構(gòu)參數(shù)設(shè)置為refinement, 但是如果是定量計(jì)算,最好將原子位置設(shè)置為互相相關(guān),如0,=1/3,=1/4, 原子占有率(OCC.)和溫度因子(Beq.)設(shè)定為某個(gè)常數(shù), 注意某些峰的擇優(yōu)取向。 3.5 結(jié)構(gòu)化學(xué)的知識很重

16、要: 清楚各化學(xué)鍵的鍵長和鍵角; 利用結(jié)構(gòu)化學(xué)知識,建立剛體模型; 在這個(gè)模型中通過精修,首先確定重原子的位置。,Page 34,3.6,3.7 計(jì)算結(jié)晶度: 結(jié)晶峰:Peak Phases, hkl Phases 和 Structures 都可以,Page 35,五、TOPAS中的一些公式,1.精修收斂的判斷: Yo,m and Yc,m are the observed and calculated data respectively at data point m, Bkgm the background at data point m, M the number of data poi

17、nts, P the number of parameters, wm the weighting given to data point m which for counting statistics is given by wm=1/(Yo,m)2 where (Yo,m) is the error in Yo,m, and Io,k and Ic,k the observed and calculated intensities of the kth reflection. 詳見:TOPAS Technical Reference 4.9 Criteria of fit部分 GOF 小于2 通常是可以接受的擬合結(jié)果,Page 36,2. Profile Fitting Methods中用到的峰形函數(shù):,Page 37,Page 38,3. 儀器的峰形函數(shù):,=2 -2 k where 2 is the measured angle and 2 k the Bragg angle. RP and RS correspond to the primary and secondary radius of the diffractometer respectively.,Page

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