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鎂合金化學鍍鎳的空隙率研究李建忠,田燕文,黃鎮(zhèn)其,張辛摘要目前論文顯示,通過實驗可以估計鍍層的空隙率,通過調(diào)查研究,已經(jīng)發(fā)現(xiàn)鍍層對空隙率的影響,而且經(jīng)過掃描電子顯微鏡(SEM)和電氣化學的偏極化可以研究含磷鍍層的空隙率。結果表示,黑色T指示器在鎂合金上作為鍍層多孔性的一個指示器,這使得鎂合金上的多孔性比鎂指示器和鈉指示器作為多孔性指示器時更優(yōu)越。根據(jù)cor實驗顯示,鎂合金化學鍍鎳鍍層的空隙率很好。由顯示可知,在表面和邊界上都存在大量的孔隙。鍍層空隙率上的鍍液叁數(shù)日趨被人們所熟知。2005ElsevierB.V.版權所有1前言鎂是所有金屬中最光亮的,通常被用作合金裝配的基礎。減輕汽車組成部分重量的這一要求已經(jīng)重新引起了對鎂的進一步研究。此外,近幾年,鎂合金在其他領域的使用也逐漸穩(wěn)步增加,例如,在航空宇宙領域,在電子和電傳視訊領域。據(jù)估計,在以后的10年,將按每年7%的比率增長。然而,鎂本質(zhì)具有高度活躍性,而且鎂合金與其他合金相比,通常有較低的抗腐蝕性,實際上這就是鎂合金在使用上的最大障礙之一。通常情況下,鎂合金化學鍍鎳磷合金之所以比電鍍合金優(yōu)越,是因為其超強的抗腐蝕性和在復雜物體上獨特的可接觸性。使用鎂合金上化學鍍鎳磷合金是進一步提高抗腐蝕性的最有效方法之一。然而,每個方法都有利有弊。在化學鍍鎳過程中,有大量的氫氣和雜質(zhì)粒子產(chǎn)生,這可能導致孔隙形成。然而,鎳鎂系統(tǒng)是在一個基體上負級鍍層的古典例子。因此,鍍層的空隙率可能長期影響鍍鎳的鎂的腐蝕性。在許多工程材料上,化學鍍鎳保護能力受鍍層空隙率所限制。此外,鍍層的密度和有黏性也極大的受到鍍層空隙率的影響。詳細地調(diào)查研究鎂合金化學鍍鎳鍍層的空隙率具有極大的現(xiàn)實意義。到目前為止,仍舊僅有少數(shù)報告對于如何估計鎂合金化學鍍鎳鍍層的空隙率和什么影響了涂料的多孔性參數(shù)做出研究?;瘜W鍍鎳鍍層的空隙率的結構如圖1所示。圖1鍍層空隙率的結構圖以下是兩種類型的孔隙:一種是開口型(D,E),另一種是封閉型(A,B,C)。封閉型洞對于鍍層的有效厚度和壓力有極大的影響,但是開口型洞對鍍層的抗腐蝕性會產(chǎn)生影響。開口型洞D是由基體的不足所引起。這是因為鎂合金的不足很容易與鍍層表面起化學反應,產(chǎn)生氫氣。這將會在鎂合金不足之處產(chǎn)生不連續(xù)的化學鍍層。連續(xù)的NiP鍍層的沉淀導致孔隙的積累,以至于形成開口型E。一個主要的細胞可能通過開口型洞形成于腐蝕處與基體之間,從而致使鎳磷合金的抗腐蝕性逐漸遭到破壞。根據(jù)通過開口型,產(chǎn)生基體元素與抗腐蝕性的一個彩色反應,在本次研究中,可以通過實驗估計化學鍍鎳鍍層的空隙率?;瘜W鍍鎳鍍液的參數(shù)已經(jīng)被詳細研究。2實驗部分2.1在鎂合金化學鍍鎳鍍層的空隙率用于研究的基體材料是含有AZ91D鎂合金。合金的化學組成成分如表1所示。實驗中使用的是長為50毫米寬為40毫米高為20毫米的樣品?;w對金剛砂文件感到機械擦亮增加到1000復以砂礫確定相似的表面粗糙。經(jīng)過蒸餾水洗滌的已剖光的樣品的與處理程序如表2所示。表1AZ91D合金中的化學成分()AlMnNiCuZnCaSiKFeMg9.10.170.0010.0010.640.010.010.010.001平衡表2預先處理程序:在丙酮中用超聲波除脂浸漬在含NAOH10%的溶液里,置于60C的環(huán)境中5分鐘用蒸餾水洗滌在含有125克的三價鉻酸和含110mL氮酸中放置為45-60秒用蒸餾水洗滌在含有HF(250mLL,70%HF)的氟化物中放置10分鐘用蒸餾水洗滌表3鍍液的基本組成成分和工藝叁數(shù)基本組成和參數(shù)含量碳酸鎳11.5次磷酸鈉20丁烷5氨鹽基15磷酸鹽11醋酸鈉20碳酸鈉20Thiourea1.5氨水調(diào)定PH值PH值6.3溫度7882在氟化物反應之后(預處理程序的最后一步),鍍液立即被轉移到量杯中(1000毫升),該量杯置于溫度為80C的一恒溫玻璃容器中。為了避免鍍液成分的變化,每次實驗應使用新的鍍液。本實驗所使用的鍍液的組成成分及工藝參數(shù)如表3所示。3結果與討論3.1磷含量對鍍層的影響基于以上研究結果,下面是關于含磷量的高低對鍍層影響所做出的比較。圖2和圖3分別含磷量低,高的鍍層表面形貌。從圖2中可以看出,孔隙不僅存在于鍍層的表面,而且還存在于鍍層的邊緣。圖2含磷量低的鍍層表面形貌圖3含磷量高的鍍層表面形貌含磷量高,低鍍層的動電位極化曲線如圖4所示,該圖是根據(jù)室溫中3.5%NaCL溶液的實驗做出的。在實驗過程中,在陰極發(fā)生了陰極過程反應,主要釋放出氫氣。但是,隨著陰極與陽極反應過程的繼續(xù),低磷鍍層比高磷鍍層有一更為顯著

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