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文檔簡介

1、RT考試閉卷試題一、判斷題1當原子核內(nèi)的中子數(shù)改變時,它就會變?yōu)榱硪环N元素。X2. X射線的強度不僅取決于 X射線機的管電流而且還取決于X射線機的管電壓。O3光電效應中光子被完全吸收,而康普頓效應中光子未被完全吸收。O4在X射線工業(yè)探傷中,使膠片感光的主要連續(xù)譜,標識譜X射線不起什么作用。O5單一波長電磁波組成的射線稱為“單色射線,又稱為“單能輻射。O6. 射線照相法適宜各種熔化焊接方法的對接接頭和鋼板、鋼管的檢測。X7. X光管的有效焦點總是小于實際焦點。O8用來說明管電壓、管電流和穿透厚度關系的曲線稱為膠 片特性曲線。X9周向X射線機產(chǎn)生的X射線束向270°方向輻射。X10. 所

2、謂管電流就是流過 X射線管燈絲的電流。O11膠片的特性指標只與膠片有關,與增感屏和沖洗條件 無關。X12. 像質(zhì)計是用來檢查和定量評價射線底片影像質(zhì)量的工具。O13. 用增大射源到膠片距離的方法可降低射線照相的固有 不清晰度。X14. 散射線只影響主因比照度,不影像膠片比照度。O15. 透照有余高的焊縫時,應保證焊縫部位和母材部位得到相同像質(zhì)計靈敏度的黑度指范圍。O16. 顆粒性是指均勻曝光的射線底片上影像黑度分布不均與的視覺印象。O17. 欲提高球罐內(nèi)壁外表的小裂紋檢出率,采用源在外的透照方式比源在內(nèi)的透照方式好O18. 無論采用哪一種透照方式,一次透照長度都隨著焦距的增大而增大。X19.

3、就小缺陷檢出靈敏度來比擬丫射線與x射線,兩者差距不大。X20. 由于“互易定律失效,采用熒光增感時,根據(jù)曝光因子公式選擇透照參數(shù)可能會產(chǎn)生較大誤差。O21. 采用源在外單壁透照方式, 如K值不變,那么焦距越大, 一次透照長度l3就越大。O22. 對厚度差較大的工件,散射比隨射線能量的增大而增大。O23. 背散射線的存在,會影響底片的比照度。通常可在工件和膠片之間放置一個鉛字B來驗證背散射線是否存在X。資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途24. 對曝光缺乏的底片,可采用增加顯影時間或提高顯影 溫度的方法來增加底片黑度,從而獲得符合要求的底片。僅供參考學習X資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途25. 水洗是膠

4、片手工處理過程中重要步驟,水洗不充分的底片長期保存后會發(fā)生變色現(xiàn)象。O26. 當x或丫射源移去以后工件不再受輻射作用,但工件 本身仍殘留極低的輻射。X27. 小劑量或低劑量率輻射不會發(fā)生隨即性損害效應。O二、選擇題1. 原子的主要組成局部是DA. 質(zhì)子、電子、光子B.質(zhì)子、重子、電子C.光子、電子、X射線D.質(zhì)子、中子、電子2. 原子核外電子能級量高的是AA. 外殼層 B中間殼層 C.內(nèi)殼層D.以上均不是3. 光子能量的數(shù)學表達式是C2A. E=h/vB.E=入 /heC.E=hvD.E=hv4. 康普頓散射的特征是CA. 產(chǎn)生光電子B.產(chǎn)生俄蝎電子C.產(chǎn)生反沖電子D.產(chǎn)生正負電子對5. X射

5、線的穿透能力取決于BA. 毫安 B.千伏值C.曝光時間D.焦點尺寸6. 以下關于射線照相特點的表達,哪些是錯誤的BA. 判定缺陷性質(zhì)、數(shù)量、尺寸比擬準確B. 檢測靈敏度受材料晶粒度的影響較大C. 本錢較高,檢測速度不快D. 射線對人體有傷害7. 探傷所用的放射性同位素都是 BA. 天然同位素B.人造同位素C.穩(wěn)定同位素D.以上三者都是8 膠片特性曲線上,過兩個特定黑度點的直線的直線率 叫做CA. 膠片寬谷度B.梯度C.平均梯度D.感光度9. X膠片乳劑中與射線作用產(chǎn)生光化學作用的成分是AA. AgBr B.AgO 2C.AgSD.AgBr 210. 鉛箔增感屏的主要優(yōu)點是AA. 可加速膠片感光

6、同時吸收局部散射線B. 可提高照相清晰度C. 可減小照相顆粒度D. 以上都是11. 金屬絲型像質(zhì)計具有的標志有:DA. 像質(zhì)計標準編號B.線材代號C.最粗線與最細線的編號D.以上都是12. 平板焊縫照相時,下面四種關于像質(zhì)計擺放的表達,唯一正確的擺放位置是DA. 近膠片一側(cè)的工件外表,并應靠近膠片端頭;B. 近射源一側(cè)工件外表,金屬絲垂直焊縫,并位于工件中部;C. 近膠片一側(cè)的工件外表,并應處在有效照相范圍一端的 焊縫上,金屬絲垂直于焊縫,細絲在外;個人收集整理D. 近射源一側(cè)有效透照范圍一端的焊縫上,金屬絲垂直于焊縫,細絲在外。13. 射線透照的幾何不清晰度CA. 與工件厚度成正比,與焦點尺

7、寸成反比B. 與工件厚度成反比,與焦點尺寸成反比C. 與焦點尺寸成正比,與焦距成反比D. 與焦點尺寸成反比,與焦距成正比14. 使用銅增感屏比鉛箔增感屏能:AA.得到更小的固有不清晰度B.增大固有不清晰度C.提高照相比照度D.降低照相比照度15. 射線照相底片上所能發(fā)現(xiàn)的最小缺陷尺寸與透照厚度 的百分比成為:BA.絕對靈敏度B.相對靈敏度 C.比照度D.清晰度16射線照相中,提高底片反差有利于小缺陷的檢出,但 同時產(chǎn)生:DA.厚度寬容度減小 B.曝光時間延長C.底片上有效評定區(qū)縮小 D.以上都對17. 射線透照工藝條件的選擇包括:DA.射線源和能量的選擇B.焦距的選擇C.曝光量的選擇D.以上都

8、是18. X射線能量的選擇應考慮:DA. 在保證穿透力的前提下,選擇較低能量B. 適宜的透照厚度寬容度C. 適合的曝光量D. 以上都是19. 雙壁雙影直透法一般多用于:CA. ©w 100mm的管子環(huán)焊縫的透照B. © > 100mm的管子環(huán)焊縫的透照C. T 壁厚8mm或g 焊縫寬度Do/4的管子環(huán)縫 的透照D. 以上都可以20. 曝光因子表達式表達了: BA. 射線能量、膠片類型和暗室處理之間的關系;B. 射線強度、曝光時間和焦距之間的關系;C. 射線源種類、增感屏種類和曝光時間的關系;D. 射線強度、增感屏種類和曝光時間的關系。21. 對于厚度差較大的工件進行透

9、照時,為了得到黑度和層次比擬均勻的底片,一般做法是BA.提高管電流B.提高管電壓C.增加曝光時間D.縮短焦距22. 以下有關曝光曲線使用的表達,正確的選項是:CA. 只要X射線機的規(guī)格相同,其曝光曲線都是通用的B. 曝光曲線一定后,實際使用中可對暗室沖洗溫度作修改C. 曝光曲線一般使用于透照厚度均勻的平板工作D. 以上都是23. 編制焊縫透照專用工藝卡必須明確的是:DA.工件情況B.透照條件參數(shù)僅供參考學習C.考前須知和輔助措施D.以上都是24. 鉛箔增感屏上的深度劃傷會在射線底片上產(chǎn)生黑線, 這是因為:BA. 鉛箔劃傷部位厚度減薄,對射線吸收減少,從而使該處射線時增多。B. 劃傷使鉛箔外表增

10、大,因而發(fā)射電子的面積增大,增感作用加強。C. 深度劃傷與膠片之間的間隙增大,散射線增加。D. 以上都對。25. 射線探傷時,在膠片暗盒和底部鉛板之間放一個一定規(guī)格的B字鉛符號,如果經(jīng)處理的底片上出現(xiàn)B的亮圖像,那么認為D資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途A. 這一張底片比照度高,質(zhì)量好B. 這一張底片清晰度高,靈敏度高C. 這一張底片受正向散射影響嚴重,像質(zhì)不符合要求D. 這一張底片受背向散射影響嚴重,像質(zhì)不符合要求26. 膠片處理的標準條件和操作要點是:DA. 顯影溫度20± 2oC,時間46min,預先水浸,顯影過 程中適當攪動B. 定影溫度1624oC,時間515min,定影過程

11、中充分 攪動C. 枯燥溫度w 40oC,去除外表水滴后枯燥D. 以上都是27. 一旦發(fā)生放射性事故,首先必須采取的正確步驟是 DA. 報告衛(wèi)生防護部門B. 測定現(xiàn)場輻射強度C. 制定事故處理方案D. 通知所有人員離開現(xiàn)場28.lr192 丫射線通過水泥墻后,照射率衰減到200Mr/h,為使照射率衰減到 10 mR/h以下,至少還應覆蓋多厚的鉛 板?設半價層厚度為 0.12cm D資料個人收集整理,勿做 商業(yè)用途A.10 . 4mm三、簡答題1、X射線和丫射線具有哪些性質(zhì)?答:X射線和丫射線具有以下性質(zhì):1在真空中以光速直線傳播;2本身不帶電,不受電場和磁場的影響;3具有某些光學特性;反射漫反

12、射、折射折射系數(shù)近似 1,折射的方向改變不明顯、 干預和衍射。4不可見、能夠穿透可見光不能穿透的物 質(zhì);5在穿透物質(zhì)過程中,會與物質(zhì)發(fā)生復雜的物理和化學作用,例如:電離作用、熒光作用、熱作用以及光學 作用;6具有輻射生物效應,能夠殺傷生物細胞,破壞 生物組織。資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途2、 什么叫射線的線質(zhì)?連續(xù)X射線的線質(zhì)怎樣表示?答:線質(zhì)是對射線參透物質(zhì)能力的度量,穿透力較強的射線稱其線質(zhì)較硬,穿透力較弱的射線稱其線質(zhì)較軟。對單色射線,線質(zhì)可用光子能量或波長定量表示;對 連續(xù)X射線,因其能量和波長是連續(xù)分布的,一般可用 半價層、吸收系數(shù)或有效能量來定量表示。資料個人收集整理,勿做商業(yè)用

13、途3、簡述影響X射線管使用壽命的因素?答:影響X射線管使用壽命的因素包括:燈絲老化、發(fā) 射電子能力下降;陽極靶燒壞, X射線轉(zhuǎn)換效率降低;真 空度下降,使X射線管不能正常工作。 資料個人收集整理,勿 做商業(yè)用途為延長X射線管使用壽命,應做到:1在送高壓前提前通電預熱燈絲,使其活化;2 使用負荷一般控制在最高管電壓的90%以內(nèi);3使用過程中要保證陽極不過熱,冷卻系統(tǒng)應正 常有效,要按規(guī)定保證工作間歇時間;4嚴格按照說明書要求訓機;5X射線機應輕搬輕放,防止受震。4、簡述X射線機維護、保養(yǎng)的考前須知。答:1X射線機應擺放在通風枯燥處,切忌潮濕、高溫、腐蝕等環(huán)境,以免降低絕緣性能;2運輸時要采取防震

14、措施, 防止因劇烈震動而造成 接頭松動、高壓包移位、X射線管破損等;3保持清潔,防止塵土、污物造成短路和接觸不良;4 保持電纜頭接觸良好,如因使用時間過長, 磨損 松動,接觸不良,那么應及時更換;5 經(jīng)常檢查機頭是否漏油窗口處有氣泡、漏氣壓力表示值低于 0.34Mpa ,應注意及時予以補充,確保 絕緣性能滿足要求資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途5、什么是射線照相靈敏度 ?絕對靈敏度和相對靈敏度的概 念又是什么?答:射線照相靈敏度是評價射線照相影像質(zhì)量的最重要的 指標,從定量方面來說,是指在射線底片上可以觀察到的 最小缺陷尺寸或最小細節(jié)尺寸;從定性方面來說,是指發(fā)現(xiàn)和識別細小影像的難易程度。資料個

15、人收集整理,勿做商業(yè)用途絕對靈敏度是指在射線照相底片上所能發(fā)現(xiàn)的沿射線穿透方向上的最小缺陷尺寸。相對靈敏度是指該最小缺陷尺寸與射線透照厚度的百分比。6、什么叫最小可見比照度?影響最小可見比照度的因素有哪些?答:在射線底片上能夠識別某一尺寸缺陷的最小黑度差稱 為最小可見比照度, 又稱識別界限比照度。 當射線底片對 比度 D大于識別界限比照度 Dmin時,缺陷就能識別, 反之那么不能識別。最小可見比照度厶Dmin與影像大小的黑 度分布、底片顆粒度、黑度觀片條件以及認為差異等因素 有關。資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途7、從提高探傷質(zhì)量的角度比擬各種透照方式的優(yōu)劣?僅供參考學習答:從提高像質(zhì)計靈敏度,

16、減少透照厚度比K和橫向裂紋檢出角0以及保證一次透照長度 L3等方面評價,幾種 透照方式比擬如下: 單壁透照優(yōu)于雙壁透照; 雙壁單影優(yōu) 于雙壁雙影;焊縫單壁透照時,源在內(nèi)中心法優(yōu)于源在內(nèi) 偏心法,源在內(nèi)偏心法優(yōu)于源在外。資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途8、常用控制散射線的方法有哪些?答:1使用鉛箔增感屏,吸收局部前散射線和背散射線;2暗盒后襯鉛板,進一步減少背散射;3使用鉛罩和鉛光闌, 限制照射范圍,減少散射源;4采用鉛遮板或鋇泥屏蔽試件邊緣,減少“邊蝕效應;5用流質(zhì)吸收劑或金屬粉末對形狀不規(guī)那么及厚度差 較大的試件進行厚度補償,以減少較薄局部散射線對厚度 局部的影響;資料個人收集整理,勿做商業(yè)用

17、途6 采用濾板除去射線中線質(zhì)較軟的局部,減少“邊蝕效應;7減少或除去焊縫余高,降低焊縫部位散射比。9、影響顯影的因素有哪些?答:影響顯影的因素很多,除配方外,顯影時間、溫度、 攪動情況和顯影液老化的程度對顯影都有影響。1顯影時間:對于手工處理,大多規(guī)定為4min6min。顯影時間進一步延長,雖然黑度和反差會增加,但 影像顆粒和灰霧也將增大。而顯影時間過短,將導致黑度 和反差缺乏。 資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途2顯影溫度:手工處理的顯影配方推薦的顯影溫度在18C20C。溫度高時顯影速度快,影像反差大,同 時灰霧度也增大,顆粒變粗,此時藥膜松軟,容易劃傷或 脫落;溫度低時顯影速度慢,影像反差降低

18、。資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途3 攪動情況:在顯影過程中進行攪動, 可以使乳劑 膜外表不斷與新鮮藥液接觸并發(fā)生作用, 這樣不僅使顯影 速度加快,而且保證了顯影作用均勻; 此外也提高底片反 差。如果膠片在顯影液中靜止不動, 會使反響產(chǎn)生溴化物 無法擴散,造成顯影不均勻的條紋。 資料個人收集整理,勿做 商業(yè)用途4顯影液老化程度:顯影液的活性取決于顯影劑的種類和濃度以及顯影液的 PH值。顯影液在使用過程中, 顯影劑濃度逐漸減少,顯影劑氧化物逐漸增加,PH值逐漸降低,溶液中鹵化物離子逐漸增加, 講導致顯影作用減 弱,活性降低,顯影速度變慢,底片反差減小,灰霧增大。 資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途10

19、、表達射線防護的三大方法的原理。答:射線防護的三大方法是時間防護、距離防護和屏蔽防護。其原理如下:時間防護的原理是:在輻射場內(nèi)的人員所受輻射的累計劑量與時間成正比, 因此,在輻射率不變情況下, 縮短Ug13 (3 2)600 -(3 2)=0.0252(mm)輻射時間便可減少所接受的劑量,從而到達防護目的。資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途距離防護的原理是: 在輻射強度一定的情況下,劑量率或照射量與離源的距離的平方成反比,增大距離便可減少劑量率或罩身量,從而到達防護目的。資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途屏蔽防護的原理是: 射線穿透物質(zhì)時強度會減弱, 在 人與射源之間設置足夠的屏蔽物, 便可降低輻照水

20、平, 達 到防護目的。 資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途四、計算題1、Co60的衰變常數(shù)為0.131/年,求它的半衰期。解:由題可知: 卩=0.131/年根據(jù)公式:T2=0.639/ 卩=0.639/0.131 年=5.3 年答:Co60的半衰期為5.3年。2、 某窄束單能射線穿過20mm的鋼后,強度減弱到 原來的20%,求該射線在鋼中的線衰減系數(shù)。解:由式1=1T 1/10=0.20,T=2cm,那么有八2 =0.2卩=-ln0.2/2=0.80 (cm-1)答:該射線在鋼中的線衰減系數(shù)為0.80cm-13、膠片平均梯度 G為3.5,照相時曝光10毫安分, 底片黑度為1.6,現(xiàn)欲使底片黑度到達

21、 2.5,問曝光量應增 加到多少?資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途解:答:曝光量增加到18毫安分。4、對某平板工件進行透照拍片時,測得有缺陷部位的照射率比無缺陷部位的照射率高30%,假設在底片黑度范圍內(nèi)膠片的丫值為3,求有缺陷部位與無缺陷部位的黑度 差?資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途解:答:有缺陷部位與無缺陷部位的黑度差D=0.34。5、 采用雙壁雙影法透照$ 76 X 3的管子對接焊接接頭,X射線機焦點尺寸為 3mm,透照焦距為600mm,求 膠片側(cè)焊縫和射源焊縫的照相幾何不清晰度Ug1和Ug2。資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途解:管子外徑 D=76mm,焦點df=3mm,壁厚t=3mm, 焦距

22、 F=600mm。又:焊縫余高 t取2mm,根部余高取 0mm那么膠片側(cè)焊縫的照相幾何不清晰度Ug1:_df L2 _df (t:t)L1 F -(t *t)射源側(cè)焊縫的照相幾何不清晰度U g2:門df L2 df (D0+2A)3(76+22)U g20.4615(mm)L1F (D。+2 t) 600 ( 76 +2 漢2)答:膠片側(cè)焊縫的照相幾何不清晰度Ug1為0.025mm,射源側(cè)焊縫的照相幾何不清晰度Ug2為0.46mm。6、 透照板厚為40mm的雙面焊對接接頭,焦距600mm,X射線機焦點尺寸 2X 2mm,照相幾何不清晰度Ug為多少?如透照管電壓為300KV,又固有不清晰度 U1

23、與管電壓千夫值 KV的關系式為U1 =,試計算固有不清晰度 Ui值,并計算出總的不清晰度U值為多少?資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途解:df L2(40+4)(1) U g20.158(mm)F -L2600 _(40+4)0 790 79(2) U1 =0.0013KV .=0.0013 300 .=0.0013 90.50.118(mm)U = u2 U2=M0.1582 0.1182 =0.20mm答:Ug =0.158mm, Ui=0.118mm, U=0.20mm。7、透照無加強高的焊接接頭時,氣孔局部的透射線比無 氣孔局部的透射線總強度(包括了散射線強度)增大了50%,假設底片黑度范

24、圍內(nèi)的膠片 G值為3.5,求氣孔和無 氣孔部位的射線照相比照度。 資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途 解:答:有氣孔部位與無氣孔部位的射線照相比照度為0.616。8、 某一 X射線機透照某一試件,原透照管電壓180KV,管電流為5mA,曝光時間為3min,焦距為600mm,現(xiàn)透 照時管電壓不變,而將焦距變?yōu)?000mm,如欲使保持黑度不變,問如何選擇電流和時間?資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途解: h=5mA,t1=4min,F 1=600mm,F2=1000mm答:第二次透照的曝光量為41.7mAmin ;可選擇管電流5mA,曝光時間8.3min。9、用某Se-75丫射線源透照規(guī)格 $ 54 X 5的管環(huán)焊縫接頭,焦距為600mm時曝光時間為 3min,得到的底片黑 度恰好滿足要求;90天后仍用該丫射線源透照相同規(guī)格 的管焊縫,問焦距為750mm時的曝光時間為多少?資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途解: t1=3min,F1=600mm,F2=750mm。Se-75 丫 射線源 的半衰期取120天,貝U 90天以后,源放射強度之比為:資料個人收集整理,勿做商業(yè)用途答:750mm時的曝光時間為 7.9min。10、 用雙壁單影法透照外徑4

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