《材料分析測試技術》考試大綱

1、1 / 3材料分析測試技術考試大綱 適用專業(yè)名稱：材料科學與工程科目代碼及名稱考試大綱5 材料分析測試 技術考試目的與要求測試考生對 X 射線衍射分析技術、掃描電子顯微鏡、電子探針、透射電鏡等分析技術的掌握程度，使學生掌握材料研究的基本方法，學會進行材料微觀組織結構分析和物理性能分析的常用儀器設備的原理及使用方法，使學生具備分析研究材料的組織結構所必須的基礎理論、基礎知識與基本技能。試卷結構（滿分 100 分）內(nèi)容比例：X 射線衍射分析約 35 分透射電鏡分析約 20 分 掃描電鏡分析約 20 分 電子探針分析約 25 分題型比例： 客觀題約 30 分1 填空題（選擇或判斷）約 15 分2.名

2、詞解釋約 15 分 主觀題約 70 分1. 簡答題約 20 分2. 證明題約 20 分3. 綜合分析題約 30 分三、考試內(nèi)容與要求（一） X 射線衍射分析考試內(nèi)容X 射線物理基礎、X 射線衍射方向、X 射線衍射強度、多晶體分析方法、X 射線物相分析及點陣參數(shù)精確測定考試要求2 / 31.掌握 X 射線的本質(zhì)、X 射線譜的分類及特征譜的產(chǎn)生機理；2. 掌握 X 射線與物質(zhì)的相互作用；3.掌握布拉格方程的推導及應用；4理解結構因子的物理意義，掌握三種常見點陣消光規(guī)律，掌握X 射線衍射強度公式；5、 理解各種衍射分析方法，掌握X 射線衍射儀的參數(shù)設置；6、掌握物相定性分析的原理、方法與步驟；7、掌

3、握 PDF 卡片的組成及索引方法；8、掌握物相定量分析的原理及方法；9、掌握立方晶系物質(zhì)點陣常數(shù)的精確測定。（二）電子光學基礎及透射電子分析 考試內(nèi)容電子波與電磁透鏡、電磁透鏡的像差與分辨本領、電磁透鏡的景深和焦長，電子衍射原理、電子顯微鏡中的電子衍射、單晶體電子衍 射花樣標定以及復雜電子衍射花樣。透射電子顯微鏡的結構與成像原理、主要部件的結構與工作原理；透射電子顯微鏡分辨本領和放 大倍數(shù)的測定，薄膜樣品的制備；衍襯成像原理；消光距離考試要求1.掌握電子透鏡及其景深與焦長、電磁透鏡的像差與分辨本領；2理解透射電鏡的結構，了解透射電鏡的應用樣品的制備方法并能制備電鏡樣品；3.掌握電子衍射原理和衍稱成像原理；4.能夠分析電子衍射花樣。（三）掃描電子顯微鏡考試內(nèi)容電子束與固體樣品作用、掃描電子顯微鏡的構造和工作原理、掃描電子顯微鏡的主要性能、表面形貌襯度原理及其應用、原子序數(shù)襯 度原理及其應用考試要求1. 理解掃描電子顯微鏡的構造和工作原理2. 了解電子束與固體樣品作用時產(chǎn)生的信號3 / 33. 掌握掃描電子顯微鏡的主要性能、表面形貌襯度原理及其應用4. 應用 SEM 圖像分析物質(zhì)（四）電子探針顯微分析考試內(nèi)容電子探針儀的結構與工作原理；電子探針儀的分析方法及其應用考試要求1. 理解電子探針分析構造2. 了解電子探針分析應用3. 掌握電子探針分析方法及微區(qū)成分分析