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文檔簡介
1、材料物理科學課程復習題1簡述材料的分類和新材料的特點、要求和發(fā)展方向。工程上分:金屬材料,無機非金屬材料,有機高分子材料及復合材料按狀態(tài)分:單晶,多晶,非晶,準晶和液晶按化學角度分:無機材料與有機材料按應用分:信息材料,能源材料,生物材料,建筑材料,航空航天材料等按用途分:結(jié)構(gòu)材料和功能材料商品化程度分:傳統(tǒng)材料和先進材料新材料的特點要求: 結(jié)構(gòu)和性能相結(jié)合,智能化,減少污染,可再生性,節(jié)省能源,長壽命新材料發(fā)展方向(講義4-5頁) 納米材料,先進多相復合材料,高溫超導材料,智能材料,生物醫(yī)學材料2簡述材料的成分結(jié)構(gòu)和性能的關系。(不全)材料的性質(zhì)取決于材料的結(jié)構(gòu)。材料的結(jié)構(gòu),是指材料的組元及
2、其排列和運動方式。它包括形貌,化學成分,相組成,晶體結(jié)構(gòu)和缺陷等內(nèi)涵3簡述計算機模擬在材料物理學科中的作用。計算機模擬是一種根據(jù)實際體系設計,在計算機上進行的模型實驗。通常將模擬結(jié)果與實際體系的實驗數(shù)據(jù)進行比較??梢詸z驗出模型的準確性,也可以檢驗由模型導出的解析理論所作的近似是否成功。此外,在模型上獲得的微觀信息,常常比在實際體系上所作的實驗更為詳細。往往是在通常實驗條件下很難獲得的信息。此外,計算機模擬對于理論的發(fā)展也有重要的意義,它能為現(xiàn)實模型和實驗中無法實現(xiàn)的探索模型作詳細的預測,并提供方法。如材料在極端壓力或高溫下經(jīng)歷相變的四維體系等計算機模擬由于有計算機圖形學的幫助,不但能使模擬易于
3、觀察和易于理解,而且可進一步與計算機技術中剛開創(chuàng)的虛擬現(xiàn)實的新領域相結(jié)合。在虛擬現(xiàn)實中,計算機模擬的不結(jié)果不僅可用計算機圖形學表達,而且也能用五官來感受。用計算機輔助設計和模擬的專家系統(tǒng)進行材料設計,可以擺脫實驗先行的研究方法,用較少的實驗,較短的研制過程,就能獲得較為理想的材料。材料科學走計算機輔助設計和計算機模擬之路,從理論和實際兩個方面向人們提供了材料研究由必然到自由的可能。4簡述材料物理中各種鍵合的特點。 鍵類型相應晶體的特點離子鍵具有明顯的空間取向性。形成的晶體高的熔點、強度和硬度,而熱膨脹系數(shù)較低原子間結(jié)合力很強。離子晶體是絕緣體。但在熔化狀態(tài),可借助于離子遷移導電共價鍵具有飽和性
4、和明顯的空間取向。高熔點、硬度和強度。形成晶體是絕緣體,而且在液態(tài)也不能導電。金屬鍵沒有飽和性和方向性。具有導電性、導熱性和可塑性。范德華鍵沒有方向性和飽和性,晶體結(jié)構(gòu)主要取決于幾何因素,因而趨于密堆結(jié)構(gòu)。這種晶體也是絕緣體5魏德曼-弗朗茲定律說明了什么? K3(ke)2T 式中k是玻爾茲曼常數(shù), e是電子電荷,T是溫度;解釋了金屬的高電導()和熱導(K)特性;也解釋了金屬的光學特性。這個理論的不足之處是從電子的總能量過高地估計了電子的比熱。電導和熱導的兩種輸運過程,如果T變化,會引起兩種輸運的變化6簡述電子化合物的特點?如果考慮K空間的電子狀態(tài)(稱做電子結(jié)構(gòu)),則可以從晶體結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性考察傳
5、導性能等金屬各種性 質(zhì)。在最簡單的情形下,合金的電子結(jié)構(gòu)特征用每個原子的平均價電了數(shù)(n)的函數(shù)表示。尤其是Cu和Cu合金中,由n產(chǎn)生穩(wěn)定的晶體結(jié)構(gòu)有規(guī)則地變化,即n=1的純銅是面心立方相,而CuZn合金中,Zn的濃度增加,當n達到1。38時,保持面心立方結(jié)構(gòu)(-黃銅),n超過1。38則成為體心立方()相,即黃銅,當n在1。58 1。66之間,則成為稍微復雜結(jié)構(gòu)的黃銅,n在1。78 1。87之間晶體取密排六方結(jié)構(gòu),不僅Zn元素如此,加入其他合金元素,這個經(jīng)驗規(guī)律也成立,稱為休模饒塞里規(guī)律。把服從這一規(guī)律的合金稱做電子化合物。7請羅列出材料中缺陷類型和特征。 晶體缺陷大致分為兩類:化學缺陷和點陣
6、缺陷(1)化學缺餡:置換型固溶洽原子,間隙型固溶原子,析出物(2)點陣缺陷:A 點缺陷:原子空位,間隙原子 B 位錯:刃型位錯,螺型位錯,混合位錯 C 面缺陷:層錯,相界,晶界 D 體缺陷:空腔,氣泡 點缺陷的特征:點缺陷是晶體在熱平衡狀態(tài)下存在的唯一點陣缺陷。能量越小點缺陷存在的越多。位錯的特征:位借是晶體中存在的唯一線缺陷,對晶體塑性變形起重要作用。位錯周圍產(chǎn)生長程應變場,應變能非常大,在晶體內(nèi)部位錯位置移動,晶體的外形才變化。8就你的理解,給出相變的定義。 一定條件下(溫度,電,磁力等外場)由一種凝聚態(tài)向另外一種凝聚態(tài)轉(zhuǎn)變的過程9簡述相變的分類。按熱力學分類分為一級相變,二級相變。按相變
7、方式分為成核長大型和連續(xù)型相變。按質(zhì)點遷移特征分為擴散型和非擴散型。非擴散相變中具有代表性的是馬氏體相變,它是原子相互之間不改變其位置關系,而是由協(xié)調(diào)運動發(fā)生的相變。相反,擴散相變是原子被熱激活離開原來的陣點位置,向鄰接的位置移動,即把擴散過程作媒介發(fā)生的相變。共析反應,磁鐵分解等各種析出反應(相分離過程)和有序無序轉(zhuǎn)變都是這種相變的例子。其它的轉(zhuǎn)變?nèi)缤禺悩?gòu)轉(zhuǎn)變,許多情況下可以是擴散轉(zhuǎn)變。10敘述一級相變與二級相變在物理圖象特征及差異。一次相變自由能一階導數(shù)不連續(xù),有潛熱放出,體積變化,為非連續(xù)相變,新相產(chǎn)生明顯。二次相變自由能一階導數(shù)連續(xù),二階導數(shù)不連續(xù),比熱容,可壓縮性,熱膨脹系數(shù)等發(fā)生
8、變化,為動態(tài)變化趨勢,一種趨勢掩蓋另一種趨勢。 11有序-無序轉(zhuǎn)變與相分離說明了什么?不同原子無規(guī)則地占有晶格,兩種原子或離子相互間呈隨機分布,沒有一定秩序,稱為無序;占據(jù)方式有規(guī)則的,各種原子或離子都有使其周圍為異種原子或離子排列的趨勢,稱為有序。溫度變化引起有序相轉(zhuǎn)變到無序相(或者與之相反)的相變現(xiàn)象,稱為有序無序轉(zhuǎn)變。而相分離是由單一相分為兩個或以上相的現(xiàn)象。在公式Tc = - ZV2k中,如果V>0,說明會出現(xiàn)相分離傾向,即同類原子作用時更穩(wěn)定,出現(xiàn)同類相吸,異類相斥現(xiàn)象,而當V<0,會出現(xiàn)有序化傾向,即異類作用時更穩(wěn)定,出現(xiàn)異類相吸,同類相斥現(xiàn)象。12簡述平均場的實質(zhì)。所
9、謂平均場理論,就是把所有其他粒子對一個粒子所有作用力看作是由一個平均場所產(chǎn)生的,即把粒子看作在其他粒子形成的平均場運動。平均場理論本質(zhì)上是熱力學唯象理論。13什么是非平衡過程,材料制備過程中有哪些獲得非平衡組織的方法? 一種材料發(fā)生相變,或者結(jié)構(gòu)變化,需要改變它的溫度或者施加應力,外力。如果相變或結(jié)構(gòu)變化在熱力學上從一種穩(wěn)定狀態(tài)向另一種穩(wěn)定狀態(tài)遷移時保持熱平衡,則為平衡過程,否則稱為非平衡過程。利用液體急冷法,氣相急冷法(真空蒸發(fā)沉積,化學蒸發(fā)沉積,濺射法),機械合金化等方法,可以制備各非晶狀態(tài)等非平衡相,亞穩(wěn)平衡相。14說明晶體、非晶體、液晶和準晶的特點。晶體:有規(guī)則的外形,短,長程有序,各
10、向異性,有固定的熔點。非晶體:各向同性,沒有規(guī)則的外形和固定的熔點,長程無 序,短程有序。液晶:有流動性,具有晶體的某些各向異性,往往具有一維或二維取向有長程有序。 準晶:有旋轉(zhuǎn)對稱無平移對稱,難以塑性變形,硬而脆。15說明組織與結(jié)構(gòu)的差異以及怎樣通過控制它們來改善材料的性能。 組織是在顯微鏡下看到的對象,而結(jié)構(gòu)是指晶體原子組態(tài)的微觀對象,跟原子排列組態(tài)有關,主要是通過淬火,回火,退火,時效等熱處理方法來改善材料的性質(zhì)。16簡述回復與再結(jié)晶的區(qū)別,二次再結(jié)晶有何特點。 將加工后的材料加熱,由于位錯等晶體缺陷的消失和重新排列產(chǎn)生穩(wěn)定化,稱之為回復。從消除缺陷意義上說,再結(jié)晶也是一種回復,但再結(jié)晶
11、是晶界移動引起晶體缺陷被急劇吸收的過程。回復是位錯緩慢減少的連續(xù)過程,與此相對應的,再結(jié)晶是由于晶界移動,回復還沒充分進行之前,位錯被一舉消除的不連續(xù)過程。再結(jié)晶具有和加工組織不同的晶粒位向,而在回復過程中的加工組織里生成幾乎沒有缺陷的新晶粒。二次再結(jié)晶晶粒組織大,容易觀察。二次再結(jié)晶是種一次再結(jié)晶后的晶粒長大,它的驅(qū)動力是再結(jié)晶組織中存在的晶界能。和晶粒正常長大不同,二次再結(jié)晶指周圍少數(shù)較大晶粒選擇性地急劇增大。17簡述影響材料變形能力的關鍵因素。 滑移系的多少:滑移系多的材料變形能力好,反之變形能力不好。派爾斯勢的大?。喝鏷/b越小,派爾斯勢就越大,所以就難滑移,材料很難變形。應力應變場雜
12、質(zhì)原子析出相18什么是硬球模型?對于非晶體,表征其特征的微觀分析手段是什么? 全稱為無序密堆積硬球模型,把原子看作是具有一定直徑的不可壓縮的剛球,“無序”,在這種堆積中不存在晶格那樣的長程有序,“密堆”則是指這樣一種排列中不存在足以容納一個硬球那樣大的空隙??捎肵射線、電子或中子衍射等方法,來測定材料的徑向分布函數(shù)(RDF)或原子對相關函數(shù)(PCF)。19簡述第一類和第二類超導體的特點和差異。圖中I的情形稱為第1類超導體,像II那種具有下臨界磁場強度Hc1和上臨界磁場強度Hc2兩個臨界磁場的情形稱做第II類超導體。對于第一類超導體, 當磁場增強到一定程度,超導將被破壞,變成正常傳導狀態(tài),即在臨
13、界磁場以上邁斯納效應消失,抗磁性完全消失,在臨界磁場Hc時抗磁性急劇消失變成正常傳導。而對于第二類超導體, Hc1時試樣中磁通開始進入渦旋線狀態(tài),超導狀態(tài)開始部分地破壞,因此反磁性開始減少,但仍處于電阻為零的超導狀態(tài)。磁場進一步增大變成Hc2,則整個試樣完全變成正常傳導狀態(tài),試樣的電阻變成有限值,Hc1和Hc2之間的磁場是試樣內(nèi)部正常傳導和超導兩種狀態(tài)混合存在,稱為混合狀態(tài)。對于第一類超導體,臨界磁場Hc的值隨溫度升高而減少; 對于第二類超導體,電流流過引起渦流運動并發(fā)生能量損失使超導性破壞。20簡述抗磁性、順磁性、鐵磁性、反鐵磁性、亞鐵磁性、螺旋鐵磁性的特點。以磁化率為磁體分類的基準,>
14、;0的物質(zhì)被磁場吸引,< 0的物質(zhì)被磁場排斥。鋁之類的物質(zhì),> 0稱為順磁性,銅之類的物質(zhì)< 0,稱為反磁性或者抗磁性。所有原子自旋同向排列的狀態(tài)稱為鐵磁性,與此相反,原子自旋相互反向排列的狀態(tài)稱為反鐵磁性。反鐵磁體中不發(fā)生自發(fā)磁化,而且反向原子自旋的大小不同時,稱為亞鐵磁性。除此之外,有的物質(zhì),原子自旋之間有兩個以上磁的相互作用,呈現(xiàn)相互傾斜成一定角度的自旋排列,稱為螺旋磁性。對反鐵磁體和亞鐵磁體施加一個強磁場,則有的物質(zhì)顛倒反向自旋,變成鐵磁體,這種現(xiàn)象稱為變磁性。21 說明結(jié)構(gòu)有序與磁有序(或電激化有序)的區(qū)別。結(jié)構(gòu)有序是指原子的占據(jù)方式是有規(guī)則的,晶體點陣為有序點陣。
15、磁有序是指磁矩排列的有序,而不是通常意義上的原子排列有序或者無序22簡述軟磁材料與硬磁材料在磁性參量方面的要求和這兩類材料的用途。軟磁材料: 在軟磁材料中因磁場小,磁化必須急劇升高,起始磁導率必須大。分為弱電用變壓器、磁頭所要求的高磁導率材料和電力用變壓器電源變壓器,電磁鐵磁極所要求的高磁通密度材料。后者在施加大磁場狀態(tài)下進行變電,因此要求殘余磁通密度大,矯頑力小。磁滯回線的面積表示變壓器每個周期的能量損失(稱為鐵損)。為使鐵損減少,矯頑力必須小。剩磁和矯頑力都很小。用途:硅鋼片,低碳物,制作電機,變壓器,電磁鐵等電器的鐵心。硬磁: Hc具有大值、高矯頑力,除去外場后仍然保持高的的剩余磁化強度
16、。用途:常用來制造各種永磁體,揚聲器的磁鋼和電子電路中的記憶元件,硬盤。23什么是局域磁性?什么是巡游磁性?鐵磁性材料基本上都有若干未滿的d殼層電子,而且由于d殼層電子比較局域化,所以每個原子的磁性就比較強,所以相鄰原子容易互相感覺到其他原子的磁性,從而取得相同取向形成介觀到宏觀磁疇(在居里溫度以下);在外場下,這些磁疇排列有序,顯示出宏觀強磁性,鐵,鈷,鎳等均屬此類。這就是局域磁性。而其他一些金屬,比如鋁,銅,堿金屬之類,由于沒有局域未成對電子,這些電子巡游在整個晶體里。巡游電子的既具有抗磁性,又具有順磁性。計算表明,巡游電子的順磁性是抗磁性的3倍,所以凈效應為順磁性。像鋁,銅,鈉這樣的金屬
17、,是可以被磁鐵吸引的,只是常溫下很弱不容易覺察,但在低溫下這個效應會大大加強。這就是巡游磁性。24簡述磁疇存在的原因,軟硬磁材料對磁疇和疇界有何要求?(不明)磁疇存在的原因:為了使外部不產(chǎn)生N,S磁極,即降低由于自發(fā)磁化所產(chǎn)生的靜磁能。軟磁要求疇界容易移動。硬磁要求疇界很難移動。 25。 比較fcc,bcc何hcp三種晶體結(jié)構(gòu)的磁各向異性。畫一個磁滯回線(包括磁化曲線),并標出有關磁性參數(shù)。 對晶體結(jié)構(gòu)為bcc的-Fe來說,在(100)方向上施加一 個 磁場時最容易被磁化,與此相反,在(111)方向上最難被磁化。晶體結(jié)構(gòu)為fcc的鎳則和-Fe相反。它們分別稱為易磁化方向和難磁化方向,室溫下為h
18、cp的鈷,c軸是易磁化方向,c面內(nèi)是難磁化方向。26簡述因瓦合金熱膨脹系數(shù)為零或極小的物理實質(zhì)。熱膨脹引起的晶格延伸和磁性消失引起的晶格收縮達到平衡。27簡述吸附的原因和分類。吸附的根本原因是界面處晶體結(jié)構(gòu)有嚴重畸變或有殘留的未配對鍵。吸附使這種畸變減小或使鍵飽和降低系統(tǒng)的自由能。吸附分為物理吸附和化學吸附兩類。發(fā)生物理吸附時,襯底表面與被吸附原子之間主要是范德華色散力的作用,它是一種電矩間的相互作用,此時不發(fā)生原子間的電荷轉(zhuǎn)移?;瘜W吸附又分為離子吸附和共價吸附。發(fā)生離子吸附時,吸附的原子或分子會捕獲或釋放出載流子或空穴。共價吸附是表面與吸附物之間產(chǎn)生局部鍵合,電子被局部定域在襯底表面。共價吸
19、附時,沒有自由載流子轉(zhuǎn)移,不形成空間電荷區(qū)。28簡述薄膜材料的形成過程,什么是分子束外延?什么是超晶格?薄膜形成過程:一般分為凝結(jié)過程,島形成與結(jié)合生長過程。大多數(shù)薄膜都是以島狀形式形成和長大,即在基體表面上吸附原子凝結(jié)后,在表面上擴散遷移形成晶核,晶核再結(jié)合其它吸附原子逐漸長大形成小島,島再結(jié)合其他氣相原子便形成薄膜,因此薄膜形成是由形核開始的。形核首先經(jīng)歷吸附與凝結(jié)過程,原子相互碰撞結(jié)合成原子對或小原子團并凝結(jié)在基體表面上;這種原子團和其他吸附原子碰撞結(jié)合或釋放出一個單原子,這個過程反復進行,使原子團中的原子數(shù)超過某一臨界值,成為臨界核,臨界核繼續(xù)與其他原子碰撞結(jié)合,只向長大方向發(fā)展形成穩(wěn)
20、定的原子團,稱為穩(wěn)定核;穩(wěn)定核再捕獲其他吸附原子,或者入射原子束中的氣相原子直接碰撞在穩(wěn)定核上被粘附,使穩(wěn)定核進一步長大成為小島。通過上述討論可知,薄膜形成經(jīng)歷了吸附,凝結(jié),臨界核形成與長大,穩(wěn)定核形成長大,最后成為小島的物理過程。實際上形核長大只是薄膜形成的開始,薄膜形成的過程是指形成穩(wěn)定核之后的過程;同樣,薄膜生長模式是指薄膜形成的宏觀方式。在穩(wěn)定膜形成之后,島狀薄膜的形成過程,分為島狀、聯(lián)并、溝道和連續(xù)膜四個階段。島狀階段是指在核長大變成小島的過程中,平行基體表而方向的長大速度明顯大于垂直方向的長大速度,說明基體表面上吸附原子的擴散遷移碰撞結(jié)合是主要的。聯(lián)并階段是指島在不斷長大過程中,島
21、間距離逐漸縮小,最后相鄰小島相互聯(lián)接合并成一個大島。溝道階段是在島聯(lián)并后,新島繼續(xù)長大,當島的分布達到臨界值時,小島相互聚結(jié)形成網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)中不規(guī)則地分布著520nm寬的溝渠。連續(xù)膜階段是在溝渠和孔洞消失之后,入射的氣相原子直接吸附在薄膜上,通過聯(lián)并作用形成不同結(jié)構(gòu)的薄膜。分子束外延:是一種在晶體基片上生長高質(zhì)量的晶體薄膜的新技術。在超高真空條件下,由裝有各種所需組分的爐子加熱而產(chǎn)生的蒸氣,經(jīng)小孔準直后形成的分子束或原子束,直接噴射到適當溫度的單晶基片上,同時控制分子束對襯底掃描,就可使分子或原子按晶體排列一層層地“長”在基片上形成薄膜。該技術的優(yōu)點是:使用的襯底溫度低,膜層生長速率慢,
22、束流強度易于精確控制,膜層組分和摻雜濃度可隨源的變化而迅速調(diào)整。用這種技術已能制備薄到幾十個原子層的單晶薄膜,以及交替生長不同組分、不同摻雜的薄膜而形成的超薄層量子阱微結(jié)構(gòu)材料。超晶格:由兩種或以上不同、厚度d極小的薄層材料交替生長在一起而得到的一種多周期結(jié)構(gòu)材料。薄層厚度d遠大于材料的晶格常數(shù)a,但接近或小于電子的自由程。29簡述熱蒸鍍(真空蒸發(fā))膜與離子濺射膜的區(qū)別和優(yōu)缺點。粒子具有的動能不同:蒸鍍膜所沉積的粒子有較低的動能,而濺射出來的粒子有很高的動能,比蒸發(fā)高12個數(shù)量級。粒子飛向基體表面的分布規(guī)律不同:對于小面積蒸發(fā)源,氣相原子飛向基體表面時按余弦定律分布。對于陰極濺射,靶是多晶材料
23、且入射氬離子較大時符合余弦分布規(guī)律,但對單晶靶材,則產(chǎn)生擇優(yōu)濺射效應,不同晶面的濺射強度不同。粒子電性不同:蒸發(fā)出來的氣相原子幾乎都是不帶電的中性粒子,但濺射出來的粒子,除中性原子或原子團外,還可能有正離子、負離子、二次電子和光子等多種粒子。真空度不同:蒸發(fā)鍍時,真空度較高,氣體分子平均自由程大于蒸發(fā)源到基體間的距離,氣相原子在飛向基體的過程中,氣相原子間或與殘余氣體分子間碰撞機會很少,它們基本上保持原有的能量,能量分布及直線飛行軌跡。陰極濺射時真空度較低,氣體分子平均自由程小于靶材和基體之間的距離,濺射原子飛行過程中,相互間碰撞,原子及其他殘余氣體分子相互碰撞,改變了濺射原子方向,到達基體表
24、面的粒子可來自基體正前方整個半球面空間的所有方向,因此較容易制備厚度均勻的薄膜。粘合力不同:蒸發(fā)鍍所形成的膜容易從基體剝落,而陰極濺射所形成的膜由于形成了過渡層,能很好的跟基體結(jié)合,不易剝落。優(yōu)缺點:蒸鍍膜:薄膜成分與蒸發(fā)合金組分有偏離,薄膜含雜質(zhì)少,基體和薄膜溫度變化不大。濺射膜:薄膜成分與靶材一致,含較多雜質(zhì),基體和薄膜溫度變化很大。30試舉例說明擴散、隨機行走和自回避隨機行走現(xiàn)象。擴散是一種遷移的過程,有定向遷移和隨機遷移兩種。隨機遷移也是隨機行走的一種。隨機行走是一種無定向遷移,如布朗運動。自回避隨機行走是一種有記憶性的行走,運動時會避開以前走過的位置,如高分子聚合物的原子排列。31就
25、有序-無序轉(zhuǎn)變中的位置無序(化學無序)、拓撲無序、方向無序、電子和核自旋狀態(tài)的無序(代位無序)和振動無序進行一般說明或圖示。無序結(jié)構(gòu)有拓撲(幾何)和化學鍵無序兩種。如圖1。1。1所示的玻璃中原子排列(排布)從幾何(拓撲)角度上看,晶格的概念,即周期性與對稱性是沒有了,但從近鄰范圍來看,最近鄰的原子數(shù)是比較確定的(配位數(shù)不變),這是一種拓撲無序。 非晶態(tài)缺乏長程有序,所以原子間的化學鍵長、鍵角和鍵的極性等不會一樣,這就是鍵的無序 無序系統(tǒng)中還有一種叫代位無序,這主要發(fā)生在晶態(tài)材料中,這時晶格的概念仍然保留,但等同晶格位置上原子類別或自旋狀態(tài)卻不同。對于原子磁距(自旋)取向無序(隨機凍結(jié))的系統(tǒng)稱
26、“自旋”玻璃。一般的所謂非晶態(tài)固體指的大都是結(jié)構(gòu)無序 32簡述量子小尺寸效應、尺寸效應和宏觀隧道效應。小尺寸效應:隨著顆粒尺寸的量變,在一定條件下會引起顆粒性質(zhì)的質(zhì)變。由于顆粒尺寸變小所引起的宏觀物理性質(zhì)的變化稱為小尺寸效應。對超微顆粒而言,尺寸變小,同時其比表面積亦顯著增加,從而產(chǎn)生如下一系列新奇的性質(zhì)。尺寸效應:由無數(shù)的原子構(gòu)成固體時,單獨原子的能級就并合成能帶,由于電子數(shù)目很多,能帶中能級的間距很小,因此可以看作是連續(xù)的,從能帶理論出發(fā)成功地解釋了大塊金屬、半導體、絕緣體之間的聯(lián)系與區(qū)別,對介于原子、分子與大塊固體之間的超微顆粒而言,大塊材料中連續(xù)的能帶將分裂為分立的能級;能級間的間距隨顆粒尺寸減小而增大。當熱能、電場能或者磁場能比平均的能級間距還小時,就會呈現(xiàn)一系列與宏觀物體截然不同的反常特性,稱之為量子尺寸效應。宏觀隧道效應:是基本的量子現(xiàn)象之一,即當微觀粒子的總能量小于勢壘高度時,該粒子仍能穿越這一勢壘。近年來,人們發(fā)現(xiàn)一些宏
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