陶瓷釉層的形成及其性質(zhì)

1、青釉玄紋尊青釉玄紋尊 商（公元前商（公元前16前前11世紀(jì)）世紀(jì)） 青釉堆雕人物罐青釉堆雕人物罐 （三國）（三國）青花纏枝花卉紋碗（明）青花纏枝花卉紋碗（明）郎窯寶石紅小觀音尊（清）郎窯寶石紅小觀音尊（清）鈞釉的液鈞釉的液-液分相結(jié)構(gòu)（宋）液分相結(jié)構(gòu)（宋）鐵紅釉中的多次液相分離結(jié)構(gòu)（單偏光）鐵紅釉中的多次液相分離結(jié)構(gòu)（單偏光）鐵紅釉中的液相分離和析晶鐵紅釉中的液相分離和析晶 （分相區(qū)中的小白點(diǎn)，是富分相區(qū)中的小白點(diǎn)，是富Fe玻璃孤立相，黑色連續(xù)相是貧鐵玻玻璃孤立相，黑色連續(xù)相是貧鐵玻璃，花瓣?duì)钗鼍呛Вò隊(duì)钗鼍呛現(xiàn)e硅酸鹽微晶（硅酸鹽微晶（SEM)）第三篇第三篇 釉釉 料料第一節(jié)第一節(jié)

2、釉的作用釉的作用l釉的定義：指覆蓋在陶瓷坯體表面上的玻璃狀薄層，釉的定義：指覆蓋在陶瓷坯體表面上的玻璃狀薄層，其厚度通常為其厚度通常為0.20.8mm。l釉的作用：釉的作用：改善陶瓷產(chǎn)品的外觀質(zhì)量（如光澤度、顏色、畫面改善陶瓷產(chǎn)品的外觀質(zhì)量（如光澤度、顏色、畫面等）等）提高產(chǎn)品的技術(shù)與使用性能（如機(jī)械強(qiáng)度、化學(xué)穩(wěn)提高產(chǎn)品的技術(shù)與使用性能（如機(jī)械強(qiáng)度、化學(xué)穩(wěn)定性、電絕緣性、防污性、滲水透氣性、輻射散熱定性、電絕緣性、防污性、滲水透氣性、輻射散熱能力等）。能力等）。二、釉面質(zhì)量的影響因素二、釉面質(zhì)量的影響因素I.釉料配方：舉例：石灰釉和鉛釉透明度高，釉料配方：舉例：石灰釉和鉛釉透明度高，光澤度好，

3、加入光澤度好，加入MgO或或ZnO可增加釉面白可增加釉面白度與乳濁度，粘土或度與乳濁度，粘土或CMC可改善懸浮性與可改善懸浮性與粘附性等等；粘附性等等；II.釉漿制備工藝；釉漿制備工藝；III.施釉工藝；施釉工藝；IV.燒成條件等等。燒成條件等等。 二、二、 釉層的特點(diǎn)和性質(zhì)釉層的特點(diǎn)和性質(zhì)（一）釉的特點(diǎn)（1）釉是玻璃體，具有與釉相似的物理化學(xué)性質(zhì)；（2）釉和玻璃有不同：a.釉的均勻程度與玻璃不同，含有少量的晶相和氣泡；b.釉不是單純的硅酸鹽，常含有硼酸鹽、磷酸鹽等；c.多數(shù)釉中含有較多氧化鋁，玻璃含氧化鋁一般較少；d.釉的熔融溫度范圍比玻璃要寬。一、釉的熔融溫度范圍一、釉的熔融溫度范圍高溫顯

4、微鏡下釉料的受熱行為高溫顯微鏡下釉料的受熱行為幾個概念：幾個概念：介紹：陶瓷釉料基本上是硅酸鹽玻璃，在高溫作用介紹：陶瓷釉料基本上是硅酸鹽玻璃，在高溫作用下，從開始軟化到完全熔融成為可流動的液體，下，從開始軟化到完全熔融成為可流動的液體，要經(jīng)歷一定的溫度范圍。要經(jīng)歷一定的溫度范圍。采用采用23mm圓柱體試樣進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。課本圓柱體試樣進(jìn)行實(shí)驗(yàn)。課本P231圖圖422 （二）釉的性質(zhì)1）始熔溫度（）始熔溫度（t1）:采用高溫顯微鏡測定采用高溫顯微鏡測定釉料受熱行為時(shí)，當(dāng)釉料受熱行為時(shí)，當(dāng)23mm圓柱體圓柱體試樣受熱至形狀開始變化、棱角變圓試樣受熱至形狀開始變化、棱角變圓的溫度稱為始熔溫度（或初熔溫度

5、，的溫度稱為始熔溫度（或初熔溫度，開始熔化溫度），說明在此溫度下釉開始熔化溫度），說明在此溫度下釉料內(nèi)部已經(jīng)開始產(chǎn)生玻璃相。料內(nèi)部已經(jīng)開始產(chǎn)生玻璃相。2）全熔溫度（）全熔溫度（ t2）：試樣變?yōu)榘雸A）：試樣變?yōu)榘雸A球的溫度稱為全熔溫度；表明釉料球的溫度稱為全熔溫度；表明釉料已熔融，處于粘性流動狀態(tài)，粘度已熔融，處于粘性流動狀態(tài)，粘度較大（較大（lg約為約為4.55），不致于流），不致于流淌，可以在坯體表面形成良好的釉淌，可以在坯體表面形成良好的釉層。層。3）流動溫度（）流動溫度（t3）試樣流散開來，高）試樣流散開來，高度降至原來的度降至原來的1/3時(shí)，此溫度稱流動溫時(shí)，此溫度稱流動溫度。度。

6、此時(shí)釉料的流動性強(qiáng)，此時(shí)釉料的流動性強(qiáng)，小，會小，會從坯體表面流淌出去。從坯體表面流淌出去。 4）釉的熔融范圍：由始熔溫度至流動溫度）釉的熔融范圍：由始熔溫度至流動溫度稱作釉的熔融范圍。稱作釉的熔融范圍。5）釉的燒成溫度：當(dāng)釉料充分熔融并且平）釉的燒成溫度：當(dāng)釉料充分熔融并且平鋪在坯體表面、形成光滑的釉面時(shí)，可認(rèn)鋪在坯體表面、形成光滑的釉面時(shí)，可認(rèn)為這時(shí)達(dá)到了釉的成熟溫度，即釉的燒成為這時(shí)達(dá)到了釉的成熟溫度，即釉的燒成溫度。通常把半球點(diǎn)（全熔溫度）作為釉溫度。通常把半球點(diǎn)（全熔溫度）作為釉料燒成溫度的指標(biāo)。料燒成溫度的指標(biāo)。 2、影響釉的熔融性能的因素、影響釉的熔融性能的因素（1）釉的化學(xué)組成

7、：釉式中）釉的化學(xué)組成：釉式中Al2O3、SiO2和堿和堿性組分的含量的配比及堿性組分的種類的配比。性組分的含量的配比及堿性組分的種類的配比。 助熔作用：助熔作用： Li2ONa2OK2OBaOZnOCaOMgO（2）釉料粒度：越細(xì)則始熔溫度低，熔融溫度）釉料粒度：越細(xì)則始熔溫度低，熔融溫度范圍窄范圍窄（3）釉料各組分的均勻程度，越均勻越好）釉料各組分的均勻程度，越均勻越好 二、釉的粘度與表面張力二、釉的粘度與表面張力釉面的平坦及光潤程度決定于釉料熔化后釉面的平坦及光潤程度決定于釉料熔化后的流動性及和坯體的潤滑能力，而這二者的流動性及和坯體的潤滑能力，而這二者又受釉料的高溫粘度與表面張力的影響

8、。又受釉料的高溫粘度與表面張力的影響。P155 （一）粘度的影響因素（一）粘度的影響因素（1）硅氧四面體網(wǎng)絡(luò)連接的程度：氧硅比越大，）硅氧四面體網(wǎng)絡(luò)連接的程度：氧硅比越大，則粘度越低見則粘度越低見P234表表46，這主要是因?yàn)檠豕瑁@主要是因?yàn)檠豕璞仍龃螅ㄈ垠w中堿含量大）時(shí)，會使大型四面比增大（熔體中堿含量大）時(shí)，會使大型四面體群分解為小型四面體群，四面體間連接減少，體群分解為小型四面體群，四面體間連接減少，空隙隨之增大，粘度下降?？障峨S之增大，粘度下降。（2）離子間相互極化的影響，極化能力強(qiáng)的陽離子，使）離子間相互極化的影響，極化能力強(qiáng)的陽離子，使硅氧鍵中氧離子極化、變形，減弱硅氧鍵的作用力

9、，粘硅氧鍵中氧離子極化、變形，減弱硅氧鍵的作用力，粘度下降。如：度下降。如：Pb2+、Cd2+、Zn2+、Fe2+、Cu2+、Co2+、Mn2+等極化力較強(qiáng)。等極化力較強(qiáng)。（3）釉料結(jié)構(gòu)不對稱或存在缺陷，粘度下降。）釉料結(jié)構(gòu)不對稱或存在缺陷，粘度下降。B2O3釉釉粘度低于粘度低于SiO2釉的原因之一就是釉的原因之一就是B2O3不對稱程度大的不對稱程度大的緣故。緣故。綜合上述情況，（綜合上述情況，（1）三價(jià)及高價(jià)氧化物會提高釉的粘度）三價(jià)及高價(jià)氧化物會提高釉的粘度（注意硼反?，F(xiàn)象）；（注意硼反常現(xiàn)象）；(2)堿金屬氧化物會降低釉的粘度堿金屬氧化物會降低釉的粘度;（3)堿土金屬氧化物高溫降低粘度，

10、低溫增加粘度。堿土金屬氧化物高溫降低粘度，低溫增加粘度。（二）表面張力（二）表面張力（1）表面張力對釉的影響：表面張力過大，阻）表面張力對釉的影響：表面張力過大，阻礙氣體排除和熔體均化，易造成礙氣體排除和熔體均化，易造成“縮釉縮釉”；表；表面張力過小，則容易造成面張力過小，則容易造成“流釉流釉”，并使小氣，并使小氣泡破裂后形成難以彌補(bǔ)的針孔。泡破裂后形成難以彌補(bǔ)的針孔。（2）化學(xué)組成與釉熔體表面張力的關(guān)系：）化學(xué)組成與釉熔體表面張力的關(guān)系：P158 釉表面張力的大小與構(gòu)成釉的組成之間的相釉表面張力的大小與構(gòu)成釉的組成之間的相互吸引力大小成正比關(guān)系，組成之間的吸引力互吸引力大小成正比關(guān)系，組成之

11、間的吸引力越大，則表面張力越大。越大，則表面張力越大。（2）陽離子半徑與釉的表面張力：陽離子半徑與釉的表面張力：a.隨堿金屬及堿土金屬離子半徑的增大而降隨堿金屬及堿土金屬離子半徑的增大而降低；低；b.隨過渡金屬離子半徑的減小而降低。隨過渡金屬離子半徑的減小而降低。（3）工藝條件對釉表面張力的影響）工藝條件對釉表面張力的影響a.燒成溫度：溫度升高，表面張力呈負(fù)的溫?zé)蓽囟龋簻囟壬?，表面張力呈?fù)的溫度系數(shù)，升度系數(shù)，升1，降低，降低0.040.07mN/m；b.氣氛：還原氣氛比氧化氣氛下增大氣氛：還原氣氛比氧化氣氛下增大20。（4）表面張力與坯釉結(jié)合能力的關(guān)系：希望釉）表面張力與坯釉結(jié)合能力的關(guān)

12、系：希望釉熔體與坯體的接觸角為熔體與坯體的接觸角為0。（5）釉表面張力對產(chǎn)品質(zhì)量的影響：表面張力）釉表面張力對產(chǎn)品質(zhì)量的影響：表面張力過大，則縮釉、卷釉；表面張力過小，則形過大，則縮釉、卷釉；表面張力過小，則形成針孔、棕眼。成針孔、棕眼。三、熱膨脹性三、熱膨脹性1、受熱膨脹的原因、受熱膨脹的原因由于溫度升高時(shí)，構(gòu)成釉層網(wǎng)絡(luò)質(zhì)點(diǎn)熱振動由于溫度升高時(shí)，構(gòu)成釉層網(wǎng)絡(luò)質(zhì)點(diǎn)熱振動的振幅增大，導(dǎo)致它們的間距增大所致。的振幅增大，導(dǎo)致它們的間距增大所致。其大小決定于離子間的鍵力，鍵力大，則其大小決定于離子間的鍵力，鍵力大，則熱膨脹小。熱膨脹小。P238表表48可見可見釉釉坯坯2、釉料組成對、釉料組成對熱膨脹

13、系數(shù)熱膨脹系數(shù)的影響的影響1）SiO2是網(wǎng)絡(luò)生成體，是網(wǎng)絡(luò)生成體，SiO2增多，增多，則則；堿金屬與堿土金屬增多，則；堿金屬與堿土金屬增多，則。降低作用：堿金屬。降低作用：堿金屬堿土金屬堿土金屬2）P238最后，最后，與組成的關(guān)系十分復(fù)與組成的關(guān)系十分復(fù)雜。雜。四、釉的彈性：彈性大的材料抵抗變形的能力強(qiáng)。四、釉的彈性：彈性大的材料抵抗變形的能力強(qiáng)。主要受下列四方面影響：主要受下列四方面影響：a)a) 釉料的組成（配方）釉料的組成（配方）P239P239最后一段最后一段b)b) 釉料的析晶（與溫度制度有關(guān)）晶粒尺寸小而均釉料的析晶（與溫度制度有關(guān)）晶粒尺寸小而均勻，則提高彈性，反之降低；勻，則提

14、高彈性，反之降低；c)c) 溫度的影響：溫度的影響：TT則彈性則彈性d)d) 釉層厚度：釉層薄則彈性大。釉層厚度：釉層薄則彈性大。硬度是一種材料抵抗另一張材料壓入，劃痕或磨損硬度是一種材料抵抗另一張材料壓入，劃痕或磨損的能力。的能力。硬度主要決定于化學(xué)組成、礦物組成及顯微結(jié)構(gòu)：硬度主要決定于化學(xué)組成、礦物組成及顯微結(jié)構(gòu)：a)a)網(wǎng)絡(luò)生成體網(wǎng)絡(luò)生成體SiO2SiO2、B2O3B2O3提高硬度。提高硬度。b)b)析晶出硬度大的微晶并且分散均勻，則硬度析晶出硬度大的微晶并且分散均勻，則硬度，尤其是針狀晶體。如：鋯英石、鋅尖晶石、鎂鋁尤其是針狀晶體。如：鋯英石、鋅尖晶石、鎂鋁尖晶石、金紅石、莫來石、硅

15、鋅礦。尖晶石、金紅石、莫來石、硅鋅礦。c)c)缺陷：降低硬度。缺陷：降低硬度。五、釉面的硬度五、釉面的硬度六、釉的光澤六、釉的光澤光澤度反映表面平整光滑的程度，就是鏡面反射光澤度反映表面平整光滑的程度，就是鏡面反射方向光線的強(qiáng)度占方向光線的強(qiáng)度占 全部反射光線強(qiáng)度的系數(shù)。全部反射光線強(qiáng)度的系數(shù)。影響光澤度的因素：影響光澤度的因素：u表面平整；表面平整；u折射率大，即釉層的密度大，折射率大，即釉層的密度大，PbPb、BaBa、SrSr、SnSn，比重大提高折射率。比重大提高折射率。七、釉層的化學(xué)穩(wěn)定性：主要是水、酸和堿七、釉層的化學(xué)穩(wěn)定性：主要是水、酸和堿的侵蝕。的侵蝕。1、釉層受侵蝕的機(jī)理：、

16、釉層受侵蝕的機(jī)理：（1）水對釉的侵蝕：）水對釉的侵蝕：Si-O-R+HOHSi-O-H+R+OH-Si-O-Si + OH-Si-OH + Si-O-反應(yīng)重復(fù)：反應(yīng)重復(fù)：Si-O- HOHSi-OH + OH-形成類似硅凝膠（形成類似硅凝膠（Si(OH)4nH2O）的薄膜，有一定抗水與）的薄膜，有一定抗水與抗酸能力，整個過程會產(chǎn)生體積膨脹，抗酸能力，整個過程會產(chǎn)生體積膨脹，SiO2多則抗侵蝕。多則抗侵蝕。（3）堿對釉的侵蝕）堿對釉的侵蝕Si-O-SiNaOH Si-OH + Si-ONa，不會形成硅，不會形成硅膠膜，釉面會脫落。膠膜，釉面會脫落。（3）酸的侵蝕：濃酸）酸的侵蝕：濃酸稀酸，作用主

17、要靠水。稀酸，作用主要靠水。HF酸腐蝕。酸腐蝕。2、組成對化學(xué)穩(wěn)定性的影響、組成對化學(xué)穩(wěn)定性的影響P162 3、重金屬離子的溶出：（鉛、鎘、銻、鋇、重金屬離子的溶出：（鉛、鎘、銻、鋇等）等） 影響鉛溶出量的因素：影響鉛溶出量的因素：a)基礎(chǔ)釉的組成，引入多種堿金屬氧化物可基礎(chǔ)釉的組成，引入多種堿金屬氧化物可降低鉛溶出降低鉛溶出b)添加物的影響添加物的影響c)工藝因素的影響工藝因素的影響第二節(jié)第二節(jié) 釉的分類釉的分類一、釉的種類見一、釉的種類見166頁表頁表3-11二、制釉氧化物二、制釉氧化物1.SiO2:釉的主要成分，一般含量釉的主要成分，一般含量50以上；以上；2.Al2O3:用量不高，可改

18、善釉的性能，提高化用量不高，可改善釉的性能，提高化學(xué)穩(wěn)定性、硬度和彈性，并降低釉的膨脹系學(xué)穩(wěn)定性、硬度和彈性，并降低釉的膨脹系數(shù)；數(shù)；3.CaO、MgO、Na2O、K2O釉的助熔劑；釉的助熔劑；4.ZnO具有助熔作用，還可作為析晶釉的晶種具有助熔作用，還可作為析晶釉的晶種及乳濁劑。及乳濁劑。第三節(jié)第三節(jié) 確定釉料配方的依據(jù)確定釉料配方的依據(jù)一、釉的主要組成部分：一、釉的主要組成部分：l玻璃形成劑：玻璃形成劑：SiO2、B2O3等，在釉層中以多面體的形式相互結(jié)等，在釉層中以多面體的形式相互結(jié)合為連續(xù)網(wǎng)絡(luò)，一般都是含電荷較高，離子半徑小的離子的化合合為連續(xù)網(wǎng)絡(luò)，一般都是含電荷較高，離子半徑小的離子

19、的化合物，化學(xué)鍵較強(qiáng)，難以有序排列，主要由石英原料引入。物，化學(xué)鍵較強(qiáng)，難以有序排列，主要由石英原料引入。l網(wǎng)絡(luò)中間體氧化物：網(wǎng)絡(luò)中間體氧化物：Al2O3，可以改善釉的性能，提高化學(xué)穩(wěn)定，可以改善釉的性能，提高化學(xué)穩(wěn)定性、硬度和彈性，并降低釉的膨脹系數(shù)。性、硬度和彈性，并降低釉的膨脹系數(shù)。l助熔劑和熔劑（網(wǎng)絡(luò)外體或網(wǎng)絡(luò)修飾劑、網(wǎng)絡(luò)調(diào)整劑）：助熔劑和熔劑（網(wǎng)絡(luò)外體或網(wǎng)絡(luò)修飾劑、網(wǎng)絡(luò)調(diào)整劑）：Li2O、K2O、PbO、CaO、MgO等等，主要由長石、碳酸鈣等引入。等等，主要由長石、碳酸鈣等引入。l乳濁劑乳濁劑l著色劑著色劑l其它輔助劑其它輔助劑二、釉料配方的配制原則二、釉料配方的配制原則P1721

20、、根據(jù)坯料燒結(jié)性能來調(diào)節(jié)釉的熔融性質(zhì)；、根據(jù)坯料燒結(jié)性能來調(diào)節(jié)釉的熔融性質(zhì)；2、坯釉膨脹系數(shù)彈性模量相適應(yīng)；、坯釉膨脹系數(shù)彈性模量相適應(yīng)；3、坯釉化學(xué)組成相適應(yīng)；、坯釉化學(xué)組成相適應(yīng)；4、釉料對釉下彩和釉中彩不致溶解和變色。、釉料對釉下彩和釉中彩不致溶解和變色。5、合理的選用原料。、合理的選用原料。第四節(jié)第四節(jié) 釉料配方的計(jì)算（釉料配方的計(jì)算（P176-191）注意釉式和坯式的區(qū)別。 第五節(jié)第五節(jié) 釉漿的制備與施釉釉漿的制備與施釉一、工藝一、工藝1.釉用原料要求比坯用原料更純凈：釉用原料要求比坯用原料更純凈：2.避免污染；避免污染；3.分別進(jìn)行挑選；分別進(jìn)行挑選；4.瘠性料進(jìn)行洗滌和預(yù)燒；瘠性

21、料進(jìn)行洗滌和預(yù)燒；5.軟質(zhì)粘土必要時(shí)進(jìn)行淘洗。軟質(zhì)粘土必要時(shí)進(jìn)行淘洗。6.稱料的準(zhǔn)確性。稱料的準(zhǔn)確性。7.生料釉配料后直接磨成釉漿，要注意先加硬質(zhì)原料生料釉配料后直接磨成釉漿，要注意先加硬質(zhì)原料磨到一定的細(xì)度，再加軟質(zhì)粘土研磨。熔塊釉的制磨到一定的細(xì)度，再加軟質(zhì)粘土研磨。熔塊釉的制備包括熔制熔塊和制備釉漿兩部分。備包括熔制熔塊和制備釉漿兩部分。 二、釉漿的質(zhì)量要求及控制（需控制的工二、釉漿的質(zhì)量要求及控制（需控制的工藝參數(shù)）藝參數(shù)）1.粒度粒度釉漿細(xì)釉漿細(xì)懸浮性越高懸浮性越高熔化溫度下降熔化溫度下降坯釉粘附能力越高，坯釉粘附能力越高，反應(yīng)充分反應(yīng)充分釉漿過細(xì)，則稠度過大釉漿過細(xì)，則稠度過大釉層

22、過厚釉層過厚機(jī)械強(qiáng)度下降機(jī)械強(qiáng)度下降釉層適中釉層適中高溫反應(yīng)過急，氣體難以排出，形成釉面棕眼，高溫反應(yīng)過急，氣體難以排出，形成釉面棕眼，干釉，縮釉，開裂等。干釉，縮釉，開裂等。此外，過細(xì)則熔塊釉中鉛熔出量增加，長石中的堿和熔塊中此外，過細(xì)則熔塊釉中鉛熔出量增加，長石中的堿和熔塊中Na、B3+等離子溶解度增加，等離子溶解度增加，pH上升，漿體易凝聚。上升，漿體易凝聚。所以，一般釉漿粒度，萬孔篩余所以，一般釉漿粒度，萬孔篩余0.10.2，乳濁釉小于，乳濁釉小于0.1。 2、釉漿比重：釉漿中固體物料的比例多少，也、釉漿比重：釉漿中固體物料的比例多少，也指含水量多少。指含水量多少。影響施釉時(shí)間和釉層厚

23、度。影響施釉時(shí)間和釉層厚度。比重大比重大釉層厚釉層厚比重小，則需多次施釉或長時(shí)間施釉。比重小，則需多次施釉或長時(shí)間施釉。釉漿比重取決于坯體種類、大小，采用的施釉方釉漿比重取決于坯體種類、大小，采用的施釉方法。法。生坯生坯素?zé)?，素?zé)鳎?冬季冬季噴釉。噴釉。 除薄胎瓷外，浸釉法適用于大、中、小各種類型產(chǎn)除薄胎瓷外，浸釉法適用于大、中、小各種類型產(chǎn)品。品。淋釉法：淋釉法：l是將釉漿澆于坯體上以形成釉層的方法。是將釉漿澆于坯體上以形成釉層的方法。l可將圓形日用陶瓷坯體放在旋轉(zhuǎn)的機(jī)輪上，可將圓形日用陶瓷坯體放在旋轉(zhuǎn)的機(jī)輪上，釉漿澆在坯體中央，借離心力使釉漿均勻散釉漿澆在坯體中央，借離心力使釉漿均勻散

24、開。也可將坯體置于運(yùn)動的傳送帶上，釉漿開。也可將坯體置于運(yùn)動的傳送帶上，釉漿則通過半球或鴨嘴形澆釉器形成釉幕流向坯則通過半球或鴨嘴形澆釉器形成釉幕流向坯體。體。l淋釉法適用于圓盤、單面上釉的扁平磚類及淋釉法適用于圓盤、單面上釉的扁平磚類及坯體強(qiáng)度較差的產(chǎn)品施釉。坯體強(qiáng)度較差的產(chǎn)品施釉。噴釉法：噴釉法：l是利用壓縮空氣將釉漿通過噴槍或噴釉機(jī)噴是利用壓縮空氣將釉漿通過噴槍或噴釉機(jī)噴成霧狀，使之粘附于坯體上。成霧狀，使之粘附于坯體上。l釉層厚度取決于坯與噴口的距離、噴釉壓力釉層厚度取決于坯與噴口的距離、噴釉壓力和釉漿比重等。和釉漿比重等。l噴釉法適用于大型、薄壁及形狀復(fù)雜的生坯。噴釉法適用于大型、薄

25、壁及形狀復(fù)雜的生坯。l三種施釉方法中淋釉法三種施釉方法中淋釉法和噴釉法更容易實(shí)現(xiàn)生和噴釉法更容易實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)線的自動化。產(chǎn)線的自動化。l不同坯體適用的釉漿比不同坯體適用的釉漿比重重坯體種類 多孔素?zé)?炻質(zhì)餐具 衛(wèi)生瓷器 釉漿比重 1.281.5 1.74 1.63 三、新興的施釉方法三、新興的施釉方法1.靜電施釉：是將釉漿噴至一個不均勻的電場中，使靜電施釉：是將釉漿噴至一個不均勻的電場中，使原為中性粒子的釉料帶有負(fù)電荷，隨同壓縮空氣向原為中性粒子的釉料帶有負(fù)電荷，隨同壓縮空氣向帶有正電荷的坯體移動，從而達(dá)到施釉的目的。帶有正電荷的坯體移動，從而達(dá)到施釉的目的。2.干法施釉干法施釉流化床施釉：使加

26、有少量有機(jī)樹脂的干釉粉形成流流化床施釉：使加有少量有機(jī)樹脂的干釉粉形成流化床。將預(yù)熱到化床。將預(yù)熱到100200的坯體浸入流化床中，的坯體浸入流化床中，與釉粉保持一段時(shí)間的接觸，使樹脂軟化從而在坯與釉粉保持一段時(shí)間的接觸，使樹脂軟化從而在坯體表面粘附上一層均勻的釉料。體表面粘附上一層均勻的釉料。干壓施釉：借助于壓制成型機(jī)，將成型、上釉一次干壓施釉：借助于壓制成型機(jī)，將成型、上釉一次完成。主要用于建筑陶瓷內(nèi)外墻磚的施釉。完成。主要用于建筑陶瓷內(nèi)外墻磚的施釉。釉紙施釉：釉紙施釉： 第六節(jié)第六節(jié) 釉形成的物化反應(yīng)釉形成的物化反應(yīng)一、釉料加熱過程的變化一、釉料加熱過程的變化P191一、歸納起來，釉層形

27、成的反應(yīng)為：原料的一、歸納起來，釉層形成的反應(yīng)為：原料的分解、化合、熔化及凝固（包括析晶）：分解、化合、熔化及凝固（包括析晶）：1.分解反應(yīng)，包括碳酸鹽、硝酸鹽及氧化物的分解反應(yīng)，包括碳酸鹽、硝酸鹽及氧化物的分解和原料中吸附水、結(jié)晶水的排出。在分解和原料中吸附水、結(jié)晶水的排出。在575900，碳酸鹽、硫酸鹽、菱鎂礦等，碳酸鹽、硫酸鹽、菱鎂礦等分解大量氣體排出，應(yīng)緩慢升溫。分解大量氣體排出，應(yīng)緩慢升溫。2.化合反應(yīng)與固相反應(yīng)化合反應(yīng)與固相反應(yīng) ，生成各種硅酸鹽。，生成各種硅酸鹽。3、釉中組分的揮發(fā)：證明高溫長期煅燒時(shí)，釉、釉中組分的揮發(fā)：證明高溫長期煅燒時(shí)，釉熔體的折射率會部分由于組成中的堿性氧

28、化熔體的折射率會部分由于組成中的堿性氧化物、氧化硼、氧化鉛的揮發(fā)而降低。硒鎘紅物、氧化硼、氧化鉛的揮發(fā)而降低。硒鎘紅釉超過釉超過1020呈色效果不佳。呈色效果不佳。a)燒釉時(shí)易揮發(fā)的成分為鉛、硼及堿性氧化物，燒釉時(shí)易揮發(fā)的成分為鉛、硼及堿性氧化物，釉中著色劑高溫下也會揮發(fā)。釉中著色劑高溫下也會揮發(fā)。b)釉中成分揮發(fā)的溫度與數(shù)量和釉的組成、制釉中成分揮發(fā)的溫度與數(shù)量和釉的組成、制備方法及所用原料的種類釉密切關(guān)系：生料備方法及所用原料的種類釉密切關(guān)系：生料釉釉熔塊釉；熔塊釉；SiO2含量多的揮發(fā)量降低。含量多的揮發(fā)量降低。4、熔融、熔融a)本身熔融：如長石、磷酸鹽的熔化。本身熔融：如長石、磷酸鹽的

29、熔化。b)低共熔物：如碳酸鹽與長石、石英；鉛丹與低共熔物：如碳酸鹽與長石、石英；鉛丹與石英、粘土；硼砂（四硼酸鈉）、硼酸與石石英、粘土；硼砂（四硼酸鈉）、硼酸與石英及碳酸鹽；氧化物與長石、碳酸鹽等。英及碳酸鹽；氧化物與長石、碳酸鹽等。 （二）影響釉料及熔塊熔化速度及均勻程（二）影響釉料及熔塊熔化速度及均勻程度的因素度的因素1.燒釉或熔制時(shí)逸出氣體的攪拌作用，高溫下燒釉或熔制時(shí)逸出氣體的攪拌作用，高溫下熔液粘度減小時(shí)其作用增強(qiáng)，使顆粒接觸面熔液粘度減小時(shí)其作用增強(qiáng)，使顆粒接觸面積增大，反應(yīng)速度加快，均化較好。積增大，反應(yīng)速度加快，均化較好。2.配料中存在的吸附水分在一定程度上會促進(jìn)配料中存在的吸

30、附水分在一定程度上會促進(jìn)釉料的熔化；釉料的熔化；3.釉粉粒度小，混合均勻會降低熔化速度，縮釉粉粒度小，混合均勻會降低熔化速度，縮短熔化時(shí)間，增強(qiáng)均勻程度及成熟溫度下熔短熔化時(shí)間，增強(qiáng)均勻程度及成熟溫度下熔液的流動性，提高均勻度。液的流動性，提高均勻度。二、釉層冷卻時(shí)的變化二、釉層冷卻時(shí)的變化（一）釉冷卻時(shí)的變化過程（一）釉冷卻時(shí)的變化過程l低粘度的高溫流動態(tài)低粘度的高溫流動態(tài)粘稠狀態(tài)粘稠狀態(tài)凝固狀態(tài)，這一變化過程中，坯釉的體積都凝固狀態(tài)，這一變化過程中，坯釉的體積都在變化，而且變化的速率不同，所以二者要在變化，而且變化的速率不同，所以二者要相互適應(yīng)以減少應(yīng)力的危害。相互適應(yīng)以減少應(yīng)力的危害。l

31、P195 圖圖38P196圖圖39 A點(diǎn)與點(diǎn)與B點(diǎn)溫度以下，釉呈堅(jiān)硬的固態(tài)，應(yīng)力點(diǎn)溫度以下，釉呈堅(jiān)硬的固態(tài)，應(yīng)力難以消除，難以消除， AC段為應(yīng)力松弛帶，弛豫帶，這段為應(yīng)力松弛帶，弛豫帶，這一帶已經(jīng)有足夠能量使玻璃網(wǎng)絡(luò)質(zhì)點(diǎn)發(fā)生移動，一帶已經(jīng)有足夠能量使玻璃網(wǎng)絡(luò)質(zhì)點(diǎn)發(fā)生移動，消除應(yīng)力。消除應(yīng)力。lP196表表331三種釉膨脹曲線的轉(zhuǎn)變溫度三種釉膨脹曲線的轉(zhuǎn)變溫度l 表中提供了了解與防止由于冷卻時(shí)形成應(yīng)力而引起表中提供了了解與防止由于冷卻時(shí)形成應(yīng)力而引起釉層開裂或剝釉的溫度數(shù)據(jù)。例如，坯體中游離石英釉層開裂或剝釉的溫度數(shù)據(jù)。例如，坯體中游離石英晶型轉(zhuǎn)變的溫度（晶型轉(zhuǎn)變的溫度（573）高于炻器釉的轉(zhuǎn)

32、變溫度，）高于炻器釉的轉(zhuǎn)變溫度，顯然釉層足以自由調(diào)整坯體體積變化所帶來的影響；顯然釉層足以自由調(diào)整坯體體積變化所帶來的影響；而軟瓷釉則相反，釉的轉(zhuǎn)變溫度較高，要求緩慢冷卻而軟瓷釉則相反，釉的轉(zhuǎn)變溫度較高，要求緩慢冷卻以釋放應(yīng)力。硬瓷釉也如此。不過它的燒成溫度高，以釋放應(yīng)力。硬瓷釉也如此。不過它的燒成溫度高，坯體中殘留游離石英少，冷卻時(shí)應(yīng)力也不大，緩慢冷坯體中殘留游離石英少，冷卻時(shí)應(yīng)力也不大，緩慢冷卻并不十分重要。卻并不十分重要。蓋爾霍夫及湯姆士總結(jié)了玻璃相組成與退火溫度蓋爾霍夫及湯姆士總結(jié)了玻璃相組成與退火溫度（緩慢冷卻溫度）的關(guān)系：（緩慢冷卻溫度）的關(guān)系：l堿金屬氧化物降低退火溫度，鉀堿金屬

33、氧化物降低退火溫度，鉀坯坯時(shí)，冷卻過程中釉的收縮比坯體大，時(shí)，冷卻過程中釉的收縮比坯體大，釉受到坯體給予的拉伸應(yīng)力（用釉受到坯體給予的拉伸應(yīng)力（用“”號表示）號表示）也稱也稱“負(fù)釉負(fù)釉”，大的話則使釉層出現(xiàn)交錯的網(wǎng)，大的話則使釉層出現(xiàn)交錯的網(wǎng)狀裂紋。單面產(chǎn)品會下凹。狀裂紋。單面產(chǎn)品會下凹。b) 當(dāng)當(dāng)釉釉坯坯時(shí)，釉的收縮比坯體小，釉層受到坯時(shí)，釉的收縮比坯體小，釉層受到坯體給予的壓應(yīng)力（用體給予的壓應(yīng)力（用“”號表示）也稱號表示）也稱“正正釉釉”，大的話甚至?xí)霈F(xiàn)圓圈狀裂紋或脫落。，大的話甚至?xí)霈F(xiàn)圓圈狀裂紋或脫落。單面產(chǎn)品會上凸。單面產(chǎn)品會上凸。c) 當(dāng)當(dāng)釉釉坯坯時(shí)，釉中無應(yīng)力或極小應(yīng)力。時(shí)，

34、釉中無應(yīng)力或極小應(yīng)力。我們希望得到我們希望得到“正釉正釉”，釉釉坯坯，因?yàn)橐话阏f來，因?yàn)橐话阏f來，脆性材料的耐壓強(qiáng)度總是高于抗張強(qiáng)度，釉也是如脆性材料的耐壓強(qiáng)度總是高于抗張強(qiáng)度，釉也是如此。受到壓應(yīng)力的釉層除了不易剝釉外，還能抵消此。受到壓應(yīng)力的釉層除了不易剝釉外，還能抵消產(chǎn)品受到的部分張力，從而提高產(chǎn)品的機(jī)械強(qiáng)度和產(chǎn)品受到的部分張力，從而提高產(chǎn)品的機(jī)械強(qiáng)度和抗熱震性，因此選擇釉料組成時(shí)，希望其膨脹系數(shù)抗熱震性，因此選擇釉料組成時(shí)，希望其膨脹系數(shù)接近于坯而稍低于坯。接近于坯而稍低于坯。釉釉坯坯時(shí)，時(shí)，釉釉坯坯小于小于0.410-6/。二、緩和應(yīng)力不利作用的條件二、緩和應(yīng)力不利作用的條件1、坯釉

35、中間層的形成、坯釉中間層的形成a)降低降低釉釉，消除釉裂；，消除釉裂；b)生成與坯體性質(zhì)相近的晶體則有利于坯釉生成與坯體性質(zhì)相近的晶體則有利于坯釉結(jié)合；結(jié)合；c)釉料溶解坯體的表面，使接觸面粗糙，增釉料溶解坯體的表面，使接觸面粗糙，增加釉料粘附能力。加釉料粘附能力。2、釉的彈性、抗張強(qiáng)度、釉的彈性、抗張強(qiáng)度 抵抗和緩和坯釉應(yīng)力抵抗和緩和坯釉應(yīng)力3、釉層厚度、釉層厚度薄的釉層對坯釉適應(yīng)性有利：薄的釉層對坯釉適應(yīng)性有利：a)薄釉層煅燒時(shí)組分的改變比厚釉層相對大，薄釉層煅燒時(shí)組分的改變比厚釉層相對大，釉釉變化大，變化大，釉釉與與坯坯接近，坯釉結(jié)合好；接近，坯釉結(jié)合好；b)厚度小，則釉內(nèi)壓應(yīng)力愈大，坯

36、中張應(yīng)力愈小，厚度小，則釉內(nèi)壓應(yīng)力愈大，坯中張應(yīng)力愈小，有利于坯釉結(jié)合。一般釉層厚度小于有利于坯釉結(jié)合。一般釉層厚度小于0.3mm，但并不是越小越好，太薄會有干釉現(xiàn)象。但并不是越小越好，太薄會有干釉現(xiàn)象。三、吸濕膨脹三、吸濕膨脹區(qū)別區(qū)別“負(fù)釉負(fù)釉”引起的釉面裂紋、開片與引起的釉面裂紋、開片與“吸濕膨脹吸濕膨脹”導(dǎo)致釉導(dǎo)致釉面后期龜裂在反應(yīng)機(jī)理上有何不同：面后期龜裂在反應(yīng)機(jī)理上有何不同：a) “負(fù)釉負(fù)釉”是由于是由于釉釉坯坯，在冷卻過程中受到坯體給予的張，在冷卻過程中受到坯體給予的張應(yīng)力，使釉層開裂。應(yīng)力，使釉層開裂。b) “后期龜裂后期龜裂”是由于多孔性陶瓷制品在使用條件下（暴露是由于多孔性陶瓷制品在使用條件下（暴露在空氣或水蒸氣中）吸收水分，并和水作用而引起不可逆在空氣或水蒸氣中）吸收水分，并和水作用而引起不可逆膨