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電容屏制作工藝比較：Single-ITO Glass 電容屏能影、蝕刻病、峰光、顯形以每小IC, FPC奪而扳玻簞房觸摸房切割螟臺(tái)性能測(cè)試-出貨Double-ITP Glass 電容屏/ ：/匚14州凱寸藪型/ ：/匚14州凱寸藪型SlTOUt） 炫布、曝光、鍍金羸膜顯煮、悅刻波布 曝光遮ITO膜i下）潦布曙光、印刷:蝕刻苦以蝕到SiOW顯星、蝕刻顯影、沔刻匚Z修 * IC, FPC面板玻璃d）觸摸屏印屈一蝕割青以衛(wèi)蒸$02性能測(cè)試/出貨DITO與SITO對(duì)比C DITO制造工藝復(fù)雜，但透光度、穩(wěn)定性好，適用于高端 應(yīng)用，據(jù)了解，iPhone采用的是DITO工藝；SITO工藝較 DITO簡(jiǎn)單，但穩(wěn)定性稍差，目前尚在持續(xù)改進(jìn)中；FILM透 光性較差，而且一般邊框較厚，美觀度不理想，但成本優(yōu)勢(shì) 明顯。DITO工藝的難度主要在于：第一、工序繁瑣而復(fù)雜； 第二、上下兩層ITO光刻對(duì)位精度極高；第三、生產(chǎn)過(guò)程 中，玻璃的兩面都要保證高度清潔。DITO對(duì)檢測(cè)IC也有 很高的要求，由于兩層ITO間距較大（相隔一層玻璃，而 不是如同SITO僅相隔絕緣層），層間電容較小，檢測(cè)靈敏 度高，但對(duì)IC的精度要求也高。SITO工序的復(fù)雜度和精 密度，都較DITO為低，因此成本較低，但有兩個(gè)弱點(diǎn)：第 一、兩層ITO先后光刻在玻璃的同一面，附著強(qiáng)度比DITO 低，性能的穩(wěn)定性也比DITO低

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