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文檔簡介
2010–2011年第一學(xué)期期末考試試卷(卷)
一部電n,價(jià)帶平時(shí)多一分空p,和p的系為,這時(shí)非衡電稱為平多數(shù)載流,而非衡空稱非平少數(shù)載流。一般注入況半導(dǎo)體料非衡多載流帶的影可開課學(xué)院:物電學(xué)院課程稱:半導(dǎo)體物理考試形:閉卷,所需時(shí):分注意項(xiàng):1、教師出題時(shí)請超出邊界虛線;
忽略因載流濃小得
注入非衡多載流濃比平時(shí)多數(shù),而平少載子往起著要作,因是題號
一
二
三
四
五
六
七
八
總分
2、注的非衡少載子濃比衡時(shí)少數(shù)流濃度得得分評卷人
2學(xué)生答題前將密封線外的內(nèi)容填寫清楚,答題不得超出封線;3答題請用藍(lán)、黑鋼筆或圓珠筆。
。5非平衡流子復(fù)復(fù)的觀構(gòu)講致分為種接合和接合,直接合指電在導(dǎo)和帶之的直躍,引電子空的直復(fù)合,間復(fù)是指電子空通過帶的級復(fù)合心進(jìn)行合。載子一、空(共30分每空分)1、導(dǎo)體有電子和空兩種流,而屬只有電一種
在復(fù)時(shí),一要釋放出多的能量,放能的方法三種,分別為、、載流。
3、
發(fā)射子發(fā)聲將量予其載流,加它2、質(zhì)原進(jìn)入料內(nèi)有多況,見的兩,它是替式雜質(zhì)間隙式雜質(zhì)
們的能。6、外加場和照用下使勻摻的半體存在衡流子非平載子,1、3根量子計(jì)論,從泡不容原的電遵費(fèi)米計(jì),對能量E
由于半體表非平載子濃比部高
,從的一量態(tài),一個(gè)子據(jù)的率
f)
,表式,
而非衡流子半導(dǎo)中運(yùn),從形成電,另,于外電場的用半導(dǎo)中的有流子作f()
稱為子費(fèi)米布函它描
在熱衡態(tài)下子允
運(yùn)動(dòng)從形成電。二、擇(共分,題2分)的量態(tài)如何布的一統(tǒng)分布數(shù)。
ETF
時(shí),米布函轉(zhuǎn)化
1、征半體是的導(dǎo)。A、含雜和缺、子度空穴度相C、阻率高、子度本征流子度等f()B
,表式,
f()B
稱為子玻爾曼分函。在
2、Si材中入P則引的質(zhì)能A、禁帶線處B、近帶C、近帶頂D、上都是ETF
時(shí),子被電占據(jù)概很小這是玻茲曼布數(shù)適的范
3、下說不正的A、帶電激發(fā)為帶電的程,為本激。圍米統(tǒng)率玻爾曼統(tǒng)率主要?jiǎng)e于
前者泡不相原理限
B、征激后,成導(dǎo)帶子價(jià)帶穴,外場作下它們將參導(dǎo)。,而
ETF
的條下該原失去用因而種計(jì)的
C、子可從高量量子躍到低量的子,并晶釋放量。D、于熱衡狀下導(dǎo)電子空穴為熱流。結(jié)果成樣了4一定度下沒光照n半導(dǎo)中
電子為數(shù)載子,
空
4、下說不正的A、型導(dǎo)體,隨施主度的增,米能E從帶線漸向帶底向穴是數(shù)流,電和空的度分為和p,和p的系00
大
靠近B、型導(dǎo)體,隨受主度的增,米能E從帶線漸向帶頂向于,用(半導(dǎo)體禁寬度的照射半體時(shí)光子能價(jià)帶電子發(fā)導(dǎo)帶去時(shí)產(chǎn)生電子穴對使導(dǎo)比衡時(shí)出
靠近C、質(zhì)半體中流濃度費(fèi)能級E的置由質(zhì)濃所定,溫度關(guān)D在質(zhì)導(dǎo)體費(fèi)能的置但反了導(dǎo)體導(dǎo)電型且反映半
和和導(dǎo)體摻水平5、于電性方
0D
0
A
,說不確的
解得
i
)ni
()
npi
A、是含一種主質(zhì)和種主雜情況的中性件B、的意是半體單位積帶正的空數(shù)于單體中帶電的子。
帶入據(jù):
()或ni0iC、導(dǎo)體荷電包導(dǎo)帶子價(jià)帶穴、離主和離主。D、條件,宏?duì)畋憩F(xiàn)半體不電性
∴
n0
ni13/2
3三、算(共60分
顯然此料是p材。1說在溫下半體電子度
ni
/n
時(shí)電導(dǎo)
為最值
2、空穴度是性布,m內(nèi)度為10
cm,
p
cm
/(V
。試算式中是征載子度,i
分別空和電的遷率試求上條件的空
空穴散流密溫下
(本10分)穴濃和子濃。(2)n13i
cm
3
2p
Vcmn
,求Ge
d空穴散流密:()=qDp擴(kuò)由題,穴線分布且3μm內(nèi)度為10cm,則空的度梯為:的本電率和小電率(3)問和(除了n00i
時(shí))何時(shí),Ge材料的導(dǎo)等于征電
根據(jù)因坦關(guān)式:
Dpp
T0q
p
T0
p導(dǎo)率(本題20分
∴一、)因
n
,又pi
2
,所
3主濃度
N17cmD
的n型硅溫下功數(shù)是少若不慮面態(tài)影響根據(jù)等的性,當(dāng)僅
nq=i
p
時(shí),式等。
它分同Al,Au接觸時(shí),形阻層還反阻層(對:子親能取4.05eVN2.819/cm功數(shù)4.18eV5.20eV)(題10分)Al解得
(i
pn
,即時(shí)導(dǎo)率小
4、單晶中均地入如雜:摻1.516(1)溫載流濃和費(fèi)能的位。
,摻
。試算n相應(yīng),時(shí)pin(2)本Ge:
(i
n)p
(2)溫的電率(3)T=600K時(shí)載流濃度已知室下,征載子度=10cm
,電遷率=2/
,空在最電率條下:(3)材的電率于本電率時(shí)有:
遷移=
cm
/
,電電=
1.6
,600K下本征流濃度2即:i0n0整理得(n0i
)pin2npip
15cm(1)令
N
。(sh(x)ln(2)(本題20分DA表示電離施主電離受的濃度則中性方程為N(I)0A0D
室溫,導(dǎo)體于過區(qū)雜質(zhì)全電離
N
A
A
,N
D
D
,代(I)整得:p00
(II)又
0i
2
(III
i
1
3
(IV),立(II(
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