光刻機(jī)簡單介紹課件

光刻機(jī)簡單介紹

鄭鴻光2012.09.01光刻機(jī)簡單介紹目錄1.發(fā)展史2.光刻機(jī)概述3.光刻機(jī)構(gòu)造4.相關(guān)技術(shù)目錄1.發(fā)展史光刻機(jī)發(fā)展過程1.接觸式光刻機(jī)2.接近式光刻機(jī)3.投影式光刻機(jī)4.掃描式光刻機(jī)5.步進(jìn)式光刻機(jī)6.步進(jìn)掃描式光刻機(jī)

光刻機(jī)發(fā)展過程1.接觸式光刻機(jī)光刻機(jī)概述（一）腔體（CHAMBER）主體（MAINBODY）傳片單元（WAFERLOADER）上版單元（RETICLELOADER）照明系統(tǒng)（ILLUMINATION）工作臺（WAFERSTAGE）控制柜（CONTROLRACK）光刻機(jī)概述（一）腔體（CHAMBER）光刻設(shè)備概述（二）微細(xì)加工技術(shù)的核心，是微細(xì)光刻技術(shù)。主要有光學(xué)曝光、電子束曝光、X射線曝光、離子束曝光。目前生產(chǎn)上大量采用的是光學(xué)曝光技術(shù)。Nikon光刻機(jī)：重復(fù)步進(jìn)式光刻機(jī)（NSR）光刻設(shè)備概述（二）微細(xì)加工技術(shù)的核心，是微細(xì)光刻技術(shù)。NSR

–

220

5

i

12

C

①②③④⑤⑥①NSR為「NikonStepandRepeatexposuresystems」的略稱。②表示最大曝光範(fàn)囲。

200為正方形□20.0mm的曝光範(fàn)囲。③表示投影鏡頭的投影倍率。

5是表示將Reticle上的図形以1/5倍投影到Wafer上。④表示曝光光波長。

i是表示使用由超高圧水銀燈発出的光中的i線。⑤表示NSR本體的型式名。

此數(shù)字越大意味著是越新模型的NSR。⑥表示投影鏡頭的型式。同様?shù)摹?0mm1/5倍、使用i線的鏡頭中、以A或B等進(jìn)行區(qū)別。NSR–2205i12C

①光刻機(jī)光刻機(jī)：采用重復(fù)步進(jìn)的方式將掩膜版（Reticle）的圖形以5：1的比例轉(zhuǎn)移到硅片（Wafer）上。光刻機(jī)光刻機(jī)：采用重復(fù)步進(jìn)的方式將掩膜版（Reticle）的光刻機(jī)基礎(chǔ)光刻機(jī)曝光光源為超高壓水銀燈高壓水銀燈光線組成X線0.71nmKrF248nmi365nmh405nmg436nmx10nm紫外線400nm可視光區(qū)750nm紅外線區(qū)光刻機(jī)基礎(chǔ)光刻機(jī)曝光光源為超高壓水銀燈高壓水銀燈光線組成X線光學(xué)基礎(chǔ)知識i線：波長=365nmg線：波長=436nm波長越長頻率越低i＞g光學(xué)基礎(chǔ)知識i線：波長=365nm光刻機(jī)整體構(gòu)造ＨＥＰAfilter壓縮機(jī)送風(fēng)機(jī)HeaterUvlampreticlewaferWaferstagelens風(fēng)進(jìn)風(fēng)口光刻機(jī)整體構(gòu)造ＨＥＰA壓縮機(jī)送風(fēng)機(jī)HeaterUvlamp光學(xué)系構(gòu)造RAEHgLAMPM1M2SIMF、SFCFR1R2BMCML光學(xué)系構(gòu)造RAEHgLAMPM1M2SIMF、SFCFR1光刻機(jī)構(gòu)造－干涉濾光鏡玻璃襯底上涂一層半透明金屬層，接著涂一層氟化鎂隔層（可以減少鏡頭界面對射入光線的反射，減少光暈，提高成像質(zhì)量），再涂一層半透明金屬層，兩金屬層構(gòu)成了法布里-珀羅標(biāo)準(zhǔn)具的兩塊平行板。當(dāng)兩極的間隔與波長同數(shù)量級時，透射光中不同波長的干涉高峰分得很開，利用別的吸收型濾光片可把不允許透過的光濾掉，從而得到窄通帶的帶通濾光片，其通頻帶寬度遠(yuǎn)比普通吸收型濾光片要窄。光刻機(jī)構(gòu)造－干涉濾光鏡玻璃襯底上涂一層半透明金屬光刻機(jī)構(gòu)造－復(fù)眼lens1、有多個具有共焦面小凸透鏡組成2、為了確保照度、均一性reticle光刻機(jī)構(gòu)造－復(fù)眼lens1、有多個具有共焦面2、為了確保照度光刻機(jī)構(gòu)造－SHUTTERUNIT位置：光路焦點(diǎn)處結(jié)構(gòu)：馬達(dá)（直流）計(jì)數(shù)器扇葉計(jì)數(shù)器馬達(dá)扇葉功能：開曝光閉掩膜版對準(zhǔn)、ISS光刻機(jī)構(gòu)造－SHUTTERUNIT位置：光路焦點(diǎn)處結(jié)構(gòu)：光刻機(jī)構(gòu)造－Stageunit（1）防震臺YSTAGEXSTAGEZSTAGETSTAGELEVELINGSTAGEWAFERHOLDERWAFER主視結(jié)構(gòu)圖光刻機(jī)構(gòu)造－Stageunit（1）防震臺YSTAGEX光刻機(jī)構(gòu)造－STAGEUNIT（2）MotorFiducialmarkFC2mark移動鏡WaferholderWaferIlluminationuniformitysensorMonitor插槽定位塊光刻機(jī)構(gòu)造－STAGEUNIT（2）MotorFidu光刻機(jī)構(gòu)造－Stageunit（3）光刻機(jī)構(gòu)造－Stageunit（3）工作臺定位－HP干涉計(jì)工作臺定位－HP干涉計(jì)工作臺定位－HP干涉計(jì)在氦氖激光器上，加上一個約0.03特斯拉的軸向磁場。由于塞曼分裂效應(yīng)和頻率牽引效應(yīng),激光器產(chǎn)生1和2兩個不同頻率的左旋和右旋圓偏振光。經(jīng)1/4波片后成為兩個互相垂直的線偏振光,再經(jīng)分光鏡分為兩路。一路經(jīng)偏振片1后成為含有頻率為f1-f2的參考光束。另一路經(jīng)偏振分光鏡后又分為兩路：一路成為僅含有f1的光束,另一路成為僅含有f2的光束。當(dāng)可動反射鏡移動時,含有f2的光束經(jīng)可動反射鏡反射后成為含有f2±Δf的光束，Δf是可動反射鏡移動時因多普勒效應(yīng)產(chǎn)生的附加頻率,正負(fù)號表示移動方向(多普勒效應(yīng)是奧地利人C.J.多普勒提出的，即波的頻率在波源或接受器運(yùn)動時會產(chǎn)生變化)。這路光束和由固定反射鏡反射回來僅含有f1的光的光束經(jīng)偏振片2后會合成為f1-(f2±Δf)的測量光束。測量光束和上述參考光束經(jīng)各自的光電轉(zhuǎn)換元件、放大器、整形器后進(jìn)入減法器相減,輸出成為僅含有±Δf的電脈沖信號。經(jīng)可逆計(jì)數(shù)器計(jì)數(shù)后，由電子計(jì)算機(jī)進(jìn)行當(dāng)量換算(乘1/2激光波長)后即可得出可動反射鏡的位移量。工作臺定位－HP干涉計(jì)在氦氖激光器上，加上一工作臺定位：移動境、固定境通過移動境、固定境反射后的光線，形成干涉光，被檢知器檢知。工作臺定位：移動境、固定境通過移動境光刻機(jī)構(gòu)造－LENSCONTROLLER鏡頭控制器：簡稱LC,對鏡頭倍率及焦點(diǎn)進(jìn)行控制的關(guān)鍵部件。構(gòu)成：控制基版

BELLOWSPUMPLENSTEM.SENSOR

壓力計(jì)等光刻機(jī)構(gòu)造－LENSCONTROLLER鏡頭控制器：簡稱LC倍率控制的實(shí)現(xiàn)reticle壓力調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)lenswaferABA室與大氣相連；B室氣壓可以調(diào)節(jié)，通過改變B室氣壓，從而改變其折射率使倍率進(jìn)行實(shí)時追蹤A室中集中了大部分光學(xué)鏡頭LC倍率控制的實(shí)現(xiàn)reticle壓力調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)lenswafeLC與AUTOFOCUS的關(guān)系LenslampreticlewaferdetectSlitHalvingglassLens的實(shí)際焦點(diǎn)隨著B室氣壓的變化實(shí)時在變化。Autofocus系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)z工作臺與lens焦點(diǎn)的追蹤。vibratorupdownLC與AUTOFOCUS的關(guān)系Lenslampreticle光刻機(jī)－相關(guān)特性參數(shù)

1、數(shù)值孔徑（numericalaperture)N.A.2、分辨率（resolvingpower)3、焦點(diǎn)深度（depthoffocus）光刻機(jī)－相關(guān)特性參數(shù)1、數(shù)值孔徑（numerical數(shù)值孔徑數(shù)值孔徑（N.A.）θ物鏡焦點(diǎn)N.A.=N×sinθN：折射率Θ：折射角數(shù)值孔徑數(shù)值孔徑（N.A.）θ物鏡焦點(diǎn)N.A.=N×sinθ分辨率：R分辨率：R衡量物鏡的一個重要指標(biāo)，與數(shù)值孔徑有關(guān)，數(shù)值孔徑越大，分辨率越高。

R=kλ/N.A.K與光刻膠相關(guān)的常數(shù)

λ使用光的波長

N.A.鏡頭的數(shù)值孔徑分辨率：R分辨率：R衡量物鏡的一個重要指標(biāo)，焦點(diǎn)深度：DOF焦點(diǎn)深度：即焦深，即焦點(diǎn)的有效曝光深度。

DOF=Kλ/N.A.2K與光刻膠有關(guān)的常數(shù)

λ使用光的波長

N.A.鏡頭的數(shù)值孔徑

焦點(diǎn)深度：DOF焦點(diǎn)深度：即焦深，即焦點(diǎn)的有效曝光深度分辨率、焦深、NA關(guān)系d1d2d3較好的焦深較差的焦深d3、d4焦深d1d4如果d1=d2,則d3>d4lenslens分辨率、焦深、NA關(guān)系d1d2d3較好的焦深較差的焦深d3、離軸照明在采用離軸照明的曝光系統(tǒng)中，掩模上的照明光線都與投影物鏡主光軸有一定的夾角。入射光經(jīng)掩模發(fā)生衍射，左側(cè)光源的0級、-1級衍射光與右側(cè)光束的+1級、0級衍射光參與成像。環(huán)形照明、四極照明和二極照明都屬于離軸照明方式.離軸照明在采用離軸照明的曝光系統(tǒng)中，掩模上的照離軸照明的優(yōu)點(diǎn)1.離軸照明可以提高分辨率。2.離軸照明可以提高焦深。3.離軸照明可以提高對比度。我們考慮掩模圖形為一維密集線條的光柵，同軸照明：1級以及更高階衍射光都被物鏡的光闌遮擋，只有0級衍射光進(jìn)入物鏡。離軸照明：0級衍射光和1級衍射光都可能進(jìn)入成像系統(tǒng)的光瞳。R同軸=λ/3NAR離軸=λ/4NA從信息光學(xué)的觀點(diǎn)看，掩模圖形經(jīng)投影物鏡成像時，由于投影物鏡的數(shù)值孔徑有限，高頻部分不能進(jìn)入光瞳，對成像無貢獻(xiàn)，使硅片面上的掩模像的對比度降低，影響成像質(zhì)量。由于0級衍射光不包含掩模圖形的任何空間調(diào)制信息，所以要對掩模圖形成像，至少要包含1級衍射光。在投影曝光系統(tǒng)中，掩模圖形的空間像的對比度依賴于投影物鏡中參與成像的1級衍射光的比例。離軸照明技術(shù)通過降低成像光束中的低頻成分來提高高頻成分在總光強(qiáng)中的比例，從而提高了空間像的對比度。離軸照明的優(yōu)點(diǎn)1.離軸照明可以提高分辨率掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（一）以shutter反射的E線光源作為對準(zhǔn)光源，將掩膜版對準(zhǔn)MARK與工作臺上基準(zhǔn)MARK進(jìn)行對準(zhǔn)。對準(zhǔn)過程復(fù)雜，精度要求高。對準(zhǔn)的后期進(jìn)行LSA、FIA激光校正，為WAFER對準(zhǔn)作準(zhǔn)備。掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（一）以shutter反射的E線光源作為對準(zhǔn)光掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（二）LSASETXALIGNMENTCHECKXLSASETYFIASETYRSETXWGASETYFIASETXWGASETθENDSTARTRETICLE

SEARCHRSETXRSETYLOOP1NGOKRETICLEALIGNMENTALIGNMENTCHECKYRSETθALIGNMENT

CHECKθRETICLE計(jì)算ROTATION對準(zhǔn)順序掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（二）LSASETXALIGNMENTCM122345掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（三）對準(zhǔn)光路圖M122345掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（三）對準(zhǔn)光路圖掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（四）掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（四）掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（五）控制系統(tǒng)圖&基本波、倍周波形成掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（五）控制系統(tǒng)圖&基本波、倍周波形成Thankyou謝謝Q&A請您提問Thankyou謝謝Q&A請您提問飯卡打開巴士風(fēng)格反對廣泛的的非官是大蘇打發(fā)的發(fā)非官方共和國符合國家和國際撒的方大哥給飛得更高是個搜狗是歸屬感是搞后呵呵敢死隊(duì)敢死隊(duì)敢死隊(duì)好地方個地方豆腐花哈哈動畫的發(fā)揮和家具風(fēng)格就國防軍廣泛幾個房間房管局房管局法國加工費(fèi)交付給交付給交付給警方根據(jù)高房價法國警方交付給飯卡打開巴士風(fēng)格反對廣泛的的非官是大蘇打發(fā)的發(fā)非官方共和國37飯卡打開巴士風(fēng)格反對廣泛的的非官是大蘇打發(fā)的發(fā)非官方共和國符合國家和國際撒的方大哥給飛得更高是個搜狗是歸屬感是搞后呵呵敢死隊(duì)敢死隊(duì)敢死隊(duì)好地方個地方豆腐花哈哈動畫的發(fā)揮和家具風(fēng)格就國防軍廣泛幾個房間房管局房管局法國加工費(fèi)交付給交付給交付給警方根據(jù)高房價法國警方交付給飯卡打開巴士風(fēng)格反對廣泛的的非官是大蘇打發(fā)的發(fā)非官方共和國38飯卡打開巴士風(fēng)格反對廣泛的的非官是大蘇打發(fā)的發(fā)非官方共和國符合國家和國際撒的方大哥給飛得更高是個搜狗是歸屬感是搞后呵呵敢死隊(duì)敢死隊(duì)敢死隊(duì)好地方個地方豆腐花哈哈動畫的發(fā)揮和家具風(fēng)格就國防軍廣泛幾個房間房管局房管局法國加工費(fèi)交付給交付給交付給警方根據(jù)高房價法國警方交付給飯卡打開巴士風(fēng)格反對廣泛的的非官是大蘇打發(fā)的發(fā)非官方共和國39飯卡打開巴士風(fēng)格反對廣泛的的非官是大蘇打發(fā)的發(fā)非官方共和國符合國家和國際撒的方大哥給飛得更高是個搜狗是歸屬感是搞后呵呵敢死隊(duì)敢死隊(duì)敢死隊(duì)好地方個地方豆腐花哈哈動畫的發(fā)揮和家具風(fēng)格就國防軍廣泛幾個房間房管局房管局法國加工費(fèi)交付給交付給交付給警方根據(jù)高房價法國警方交付給飯卡打開巴士風(fēng)格反對廣泛的的非官是大蘇打發(fā)的發(fā)非官方共和國40飯卡打開巴士風(fēng)格反對廣泛的的非官是大蘇打發(fā)的發(fā)非官方共和國符合國家和國際撒的方大哥給飛得更高是個搜狗是歸屬感是搞后呵呵敢死隊(duì)敢死隊(duì)敢死隊(duì)好地方個地方豆腐花哈哈動畫的發(fā)揮和家具風(fēng)格就國防軍廣泛幾個房間房管局房管局法國加工費(fèi)交付給交付給交付給警方根據(jù)高房價法國警方交付給飯卡打開巴士風(fēng)格反對廣泛的的非官是大蘇打發(fā)的發(fā)非官方共和國41飯卡打開巴士風(fēng)格反對廣泛的的非官是大蘇打發(fā)的發(fā)非官方共和國符合國家和國際撒的方大哥給飛得更高是個搜狗是歸屬感是搞后呵呵敢死隊(duì)敢死隊(duì)敢死隊(duì)好地方個地方豆腐花哈哈動畫的發(fā)揮和家具風(fēng)格就國防軍廣泛幾個房間房管局房管局法國加工費(fèi)交付給交付給交付給警方根據(jù)高房價法國警方交付給飯卡打開巴士風(fēng)格反對廣泛的的非官是大蘇打發(fā)的發(fā)非官方共和國42光刻機(jī)簡單介紹

鄭鴻光2012.09.01光刻機(jī)簡單介紹目錄1.發(fā)展史2.光刻機(jī)概述3.光刻機(jī)構(gòu)造4.相關(guān)技術(shù)目錄1.發(fā)展史光刻機(jī)發(fā)展過程1.接觸式光刻機(jī)2.接近式光刻機(jī)3.投影式光刻機(jī)4.掃描式光刻機(jī)5.步進(jìn)式光刻機(jī)6.步進(jìn)掃描式光刻機(jī)

光刻機(jī)發(fā)展過程1.接觸式光刻機(jī)光刻機(jī)概述（一）腔體（CHAMBER）主體（MAINBODY）傳片單元（WAFERLOADER）上版單元（RETICLELOADER）照明系統(tǒng)（ILLUMINATION）工作臺（WAFERSTAGE）控制柜（CONTROLRACK）光刻機(jī)概述（一）腔體（CHAMBER）光刻設(shè)備概述（二）微細(xì)加工技術(shù)的核心，是微細(xì)光刻技術(shù)。主要有光學(xué)曝光、電子束曝光、X射線曝光、離子束曝光。目前生產(chǎn)上大量采用的是光學(xué)曝光技術(shù)。Nikon光刻機(jī)：重復(fù)步進(jìn)式光刻機(jī)（NSR）光刻設(shè)備概述（二）微細(xì)加工技術(shù)的核心，是微細(xì)光刻技術(shù)。NSR

–

220

5

i

12

C

①②③④⑤⑥①NSR為「NikonStepandRepeatexposuresystems」的略稱。②表示最大曝光範(fàn)囲。

200為正方形□20.0mm的曝光範(fàn)囲。③表示投影鏡頭的投影倍率。

5是表示將Reticle上的図形以1/5倍投影到Wafer上。④表示曝光光波長。

i是表示使用由超高圧水銀燈発出的光中的i線。⑤表示NSR本體的型式名。

此數(shù)字越大意味著是越新模型的NSR。⑥表示投影鏡頭的型式。同様?shù)摹?0mm1/5倍、使用i線的鏡頭中、以A或B等進(jìn)行區(qū)別。NSR–2205i12C

①光刻機(jī)光刻機(jī)：采用重復(fù)步進(jìn)的方式將掩膜版（Reticle）的圖形以5：1的比例轉(zhuǎn)移到硅片（Wafer）上。光刻機(jī)光刻機(jī)：采用重復(fù)步進(jìn)的方式將掩膜版（Reticle）的光刻機(jī)基礎(chǔ)光刻機(jī)曝光光源為超高壓水銀燈高壓水銀燈光線組成X線0.71nmKrF248nmi365nmh405nmg436nmx10nm紫外線400nm可視光區(qū)750nm紅外線區(qū)光刻機(jī)基礎(chǔ)光刻機(jī)曝光光源為超高壓水銀燈高壓水銀燈光線組成X線光學(xué)基礎(chǔ)知識i線：波長=365nmg線：波長=436nm波長越長頻率越低i＞g光學(xué)基礎(chǔ)知識i線：波長=365nm光刻機(jī)整體構(gòu)造ＨＥＰAfilter壓縮機(jī)送風(fēng)機(jī)HeaterUvlampreticlewaferWaferstagelens風(fēng)進(jìn)風(fēng)口光刻機(jī)整體構(gòu)造ＨＥＰA壓縮機(jī)送風(fēng)機(jī)HeaterUvlamp光學(xué)系構(gòu)造RAEHgLAMPM1M2SIMF、SFCFR1R2BMCML光學(xué)系構(gòu)造RAEHgLAMPM1M2SIMF、SFCFR1光刻機(jī)構(gòu)造－干涉濾光鏡玻璃襯底上涂一層半透明金屬層，接著涂一層氟化鎂隔層（可以減少鏡頭界面對射入光線的反射，減少光暈，提高成像質(zhì)量），再涂一層半透明金屬層，兩金屬層構(gòu)成了法布里-珀羅標(biāo)準(zhǔn)具的兩塊平行板。當(dāng)兩極的間隔與波長同數(shù)量級時，透射光中不同波長的干涉高峰分得很開，利用別的吸收型濾光片可把不允許透過的光濾掉，從而得到窄通帶的帶通濾光片，其通頻帶寬度遠(yuǎn)比普通吸收型濾光片要窄。光刻機(jī)構(gòu)造－干涉濾光鏡玻璃襯底上涂一層半透明金屬光刻機(jī)構(gòu)造－復(fù)眼lens1、有多個具有共焦面小凸透鏡組成2、為了確保照度、均一性reticle光刻機(jī)構(gòu)造－復(fù)眼lens1、有多個具有共焦面2、為了確保照度光刻機(jī)構(gòu)造－SHUTTERUNIT位置：光路焦點(diǎn)處結(jié)構(gòu)：馬達(dá)（直流）計(jì)數(shù)器扇葉計(jì)數(shù)器馬達(dá)扇葉功能：開曝光閉掩膜版對準(zhǔn)、ISS光刻機(jī)構(gòu)造－SHUTTERUNIT位置：光路焦點(diǎn)處結(jié)構(gòu)：光刻機(jī)構(gòu)造－Stageunit（1）防震臺YSTAGEXSTAGEZSTAGETSTAGELEVELINGSTAGEWAFERHOLDERWAFER主視結(jié)構(gòu)圖光刻機(jī)構(gòu)造－Stageunit（1）防震臺YSTAGEX光刻機(jī)構(gòu)造－STAGEUNIT（2）MotorFiducialmarkFC2mark移動鏡WaferholderWaferIlluminationuniformitysensorMonitor插槽定位塊光刻機(jī)構(gòu)造－STAGEUNIT（2）MotorFidu光刻機(jī)構(gòu)造－Stageunit（3）光刻機(jī)構(gòu)造－Stageunit（3）工作臺定位－HP干涉計(jì)工作臺定位－HP干涉計(jì)工作臺定位－HP干涉計(jì)在氦氖激光器上，加上一個約0.03特斯拉的軸向磁場。由于塞曼分裂效應(yīng)和頻率牽引效應(yīng),激光器產(chǎn)生1和2兩個不同頻率的左旋和右旋圓偏振光。經(jīng)1/4波片后成為兩個互相垂直的線偏振光,再經(jīng)分光鏡分為兩路。一路經(jīng)偏振片1后成為含有頻率為f1-f2的參考光束。另一路經(jīng)偏振分光鏡后又分為兩路：一路成為僅含有f1的光束,另一路成為僅含有f2的光束。當(dāng)可動反射鏡移動時,含有f2的光束經(jīng)可動反射鏡反射后成為含有f2±Δf的光束，Δf是可動反射鏡移動時因多普勒效應(yīng)產(chǎn)生的附加頻率,正負(fù)號表示移動方向(多普勒效應(yīng)是奧地利人C.J.多普勒提出的，即波的頻率在波源或接受器運(yùn)動時會產(chǎn)生變化)。這路光束和由固定反射鏡反射回來僅含有f1的光的光束經(jīng)偏振片2后會合成為f1-(f2±Δf)的測量光束。測量光束和上述參考光束經(jīng)各自的光電轉(zhuǎn)換元件、放大器、整形器后進(jìn)入減法器相減,輸出成為僅含有±Δf的電脈沖信號。經(jīng)可逆計(jì)數(shù)器計(jì)數(shù)后，由電子計(jì)算機(jī)進(jìn)行當(dāng)量換算(乘1/2激光波長)后即可得出可動反射鏡的位移量。工作臺定位－HP干涉計(jì)在氦氖激光器上，加上一工作臺定位：移動境、固定境通過移動境、固定境反射后的光線，形成干涉光，被檢知器檢知。工作臺定位：移動境、固定境通過移動境光刻機(jī)構(gòu)造－LENSCONTROLLER鏡頭控制器：簡稱LC,對鏡頭倍率及焦點(diǎn)進(jìn)行控制的關(guān)鍵部件。構(gòu)成：控制基版

BELLOWSPUMPLENSTEM.SENSOR

壓力計(jì)等光刻機(jī)構(gòu)造－LENSCONTROLLER鏡頭控制器：簡稱LC倍率控制的實(shí)現(xiàn)reticle壓力調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)lenswaferABA室與大氣相連；B室氣壓可以調(diào)節(jié)，通過改變B室氣壓，從而改變其折射率使倍率進(jìn)行實(shí)時追蹤A室中集中了大部分光學(xué)鏡頭LC倍率控制的實(shí)現(xiàn)reticle壓力調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)lenswafeLC與AUTOFOCUS的關(guān)系LenslampreticlewaferdetectSlitHalvingglassLens的實(shí)際焦點(diǎn)隨著B室氣壓的變化實(shí)時在變化。Autofocus系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)z工作臺與lens焦點(diǎn)的追蹤。vibratorupdownLC與AUTOFOCUS的關(guān)系Lenslampreticle光刻機(jī)－相關(guān)特性參數(shù)

1、數(shù)值孔徑（numericalaperture)N.A.2、分辨率（resolvingpower)3、焦點(diǎn)深度（depthoffocus）光刻機(jī)－相關(guān)特性參數(shù)1、數(shù)值孔徑（numerical數(shù)值孔徑數(shù)值孔徑（N.A.）θ物鏡焦點(diǎn)N.A.=N×sinθN：折射率Θ：折射角數(shù)值孔徑數(shù)值孔徑（N.A.）θ物鏡焦點(diǎn)N.A.=N×sinθ分辨率：R分辨率：R衡量物鏡的一個重要指標(biāo)，與數(shù)值孔徑有關(guān)，數(shù)值孔徑越大，分辨率越高。

R=kλ/N.A.K與光刻膠相關(guān)的常數(shù)

λ使用光的波長

N.A.鏡頭的數(shù)值孔徑分辨率：R分辨率：R衡量物鏡的一個重要指標(biāo)，焦點(diǎn)深度：DOF焦點(diǎn)深度：即焦深，即焦點(diǎn)的有效曝光深度。

DOF=Kλ/N.A.2K與光刻膠有關(guān)的常數(shù)

λ使用光的波長

N.A.鏡頭的數(shù)值孔徑

焦點(diǎn)深度：DOF焦點(diǎn)深度：即焦深，即焦點(diǎn)的有效曝光深度分辨率、焦深、NA關(guān)系d1d2d3較好的焦深較差的焦深d3、d4焦深d1d4如果d1=d2,則d3>d4lenslens分辨率、焦深、NA關(guān)系d1d2d3較好的焦深較差的焦深d3、離軸照明在采用離軸照明的曝光系統(tǒng)中，掩模上的照明光線都與投影物鏡主光軸有一定的夾角。入射光經(jīng)掩模發(fā)生衍射，左側(cè)光源的0級、-1級衍射光與右側(cè)光束的+1級、0級衍射光參與成像。環(huán)形照明、四極照明和二極照明都屬于離軸照明方式.離軸照明在采用離軸照明的曝光系統(tǒng)中，掩模上的照離軸照明的優(yōu)點(diǎn)1.離軸照明可以提高分辨率。2.離軸照明可以提高焦深。3.離軸照明可以提高對比度。我們考慮掩模圖形為一維密集線條的光柵，同軸照明：1級以及更高階衍射光都被物鏡的光闌遮擋，只有0級衍射光進(jìn)入物鏡。離軸照明：0級衍射光和1級衍射光都可能進(jìn)入成像系統(tǒng)的光瞳。R同軸=λ/3NAR離軸=λ/4NA從信息光學(xué)的觀點(diǎn)看，掩模圖形經(jīng)投影物鏡成像時，由于投影物鏡的數(shù)值孔徑有限，高頻部分不能進(jìn)入光瞳，對成像無貢獻(xiàn)，使硅片面上的掩模像的對比度降低，影響成像質(zhì)量。由于0級衍射光不包含掩模圖形的任何空間調(diào)制信息，所以要對掩模圖形成像，至少要包含1級衍射光。在投影曝光系統(tǒng)中，掩模圖形的空間像的對比度依賴于投影物鏡中參與成像的1級衍射光的比例。離軸照明技術(shù)通過降低成像光束中的低頻成分來提高高頻成分在總光強(qiáng)中的比例，從而提高了空間像的對比度。離軸照明的優(yōu)點(diǎn)1.離軸照明可以提高分辨率掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（一）以shutter反射的E線光源作為對準(zhǔn)光源，將掩膜版對準(zhǔn)MARK與工作臺上基準(zhǔn)MARK進(jìn)行對準(zhǔn)。對準(zhǔn)過程復(fù)雜，精度要求高。對準(zhǔn)的后期進(jìn)行LSA、FIA激光校正，為WAFER對準(zhǔn)作準(zhǔn)備。掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（一）以shutter反射的E線光源作為對準(zhǔn)光掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（二）LSASETXALIGNMENTCHECKXLSASETYFIASETYRSETXWGASETYFIASETXWGASETθENDSTARTRETICLE

SEARCHRSETXRSETYLOOP1NGOKRETICLEALIGNMENTALIGNMENTCHECKY