錐光鏡下晶體光學(xué)性質(zhì)_第1頁(yè)
錐光鏡下晶體光學(xué)性質(zhì)_第2頁(yè)
錐光鏡下晶體光學(xué)性質(zhì)_第3頁(yè)
錐光鏡下晶體光學(xué)性質(zhì)_第4頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

關(guān)于錐光鏡下晶體光學(xué)性質(zhì)1第一頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四2錐光鏡的裝置:在正交鏡的基礎(chǔ)上,于下偏光鏡和載物臺(tái)之間,加上一個(gè)聚光鏡,換用高倍物鏡(45或63×),加入勃氏鏡或去掉目鏡。聚光鏡的作用:使下偏光鏡透出的平行偏光束,高度會(huì)聚變成錐形偏光束,而且錐形光束的會(huì)聚點(diǎn)正好在薄片的下表面上。一、裝置及光學(xué)特點(diǎn)第二頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四3與平行偏光束的區(qū)別:平行光束基本是沿同一方向垂直射入礦片,而在錐形偏光束中,除中央一條光波垂直射入礦片之外,其余光波都是傾斜射入礦片,而且愈外傾斜角愈大,在礦片中經(jīng)歷的距離愈外愈長(zhǎng)。第三頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四4當(dāng)錐形偏光束射入非均質(zhì)體礦片時(shí),與不同方向入射光波垂直的光率體橢圓切面不同,光波通過(guò)礦片到達(dá)上偏光鏡時(shí)所發(fā)生的消光和干涉效應(yīng)也不完全相同。

這種在錐光鏡下,各個(gè)不同方向入射的偏光通過(guò)晶體到達(dá)上偏光鏡所產(chǎn)生的消光和干涉效應(yīng)綜合起來(lái)便構(gòu)成一種特殊的圖像,稱為干涉圖。第四頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四5高倍物鏡的作用:接納較大范圍的傾斜入射光波。物鏡的放大倍數(shù)越大,光孔角越大,工作距離越短,可接納的傾斜光束越多,干涉圖越完整而且清楚。第五頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四6

干涉圖成像位置在物鏡的后焦點(diǎn)平面上而不是在礦片平面上,因此去掉目鏡可直接見(jiàn)到物鏡后焦點(diǎn)平面上的干涉圖實(shí)像,圖形小而清晰。若不去目鏡,須加勃氏鏡,與目鏡構(gòu)成望遠(yuǎn)鏡式的放大系統(tǒng),可見(jiàn)一放大而模糊的干涉圖。為什么必須去掉目鏡或加入勃氏鏡?第六頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四7錐光鏡下觀察,必須嚴(yán)格校正中心。均質(zhì)體礦物的各向同性,對(duì)任何方向入射光都不發(fā)生雙折射,正交鏡間全消光,錐光鏡下不顯示干涉圖。非均質(zhì)體各向異性,能形成干涉圖,其干涉圖的特點(diǎn)隨礦物的軸性和切面方向而異。注意第七頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四8二、一軸晶干涉圖1、垂直光軸切面的干涉圖⑴圖像特點(diǎn):由一個(gè)黑十字和同心圓干涉色圈組成。轉(zhuǎn)動(dòng)載物臺(tái)360°不變化。兩黑帶分別平行AA、PP,交點(diǎn)為光軸出露點(diǎn),黑帶由中心向外變寬。色圈以黑十字交點(diǎn)為中心,成同心環(huán)狀,越向外干涉色級(jí)序越高,色圈越密。PPAA第八頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四9礦物的雙折率越大、礦片越厚,干涉色圈越多;反之則越少,甚至在四個(gè)象限內(nèi)僅見(jiàn)一級(jí)灰干涉色。第九頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四10⑵成因根據(jù)光率體的特點(diǎn)可知,垂直每條斜交入射光線,都可作一個(gè)橢圓切面,因入射光方向不同,故每個(gè)橢圓切面的半徑長(zhǎng)短和方向也不同。第十頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四11要了解錐光鏡下產(chǎn)生的消光和干涉情況,必須了解在錐光中垂直每個(gè)入射光的光率體橢圓半徑在晶體切面平面上的分布。這種分布方位圖,稱為波向圖。即表示光波振動(dòng)方向的圖解。一軸晶波向圖的做法:①星射球面投影在光率體外套一圓球體,中心重合,將垂直各方向入射光的光率體橢圓切面半徑投影到球面上。

球面上經(jīng)線和緯線交點(diǎn)代表入射光在球面上的出露點(diǎn),經(jīng)線切線方向代表Ne′和Ne的投影方向;緯線切線方向代表No投影方向。星射球面投影第十一頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四12②將球面投影用正射投影方法投影到平面上得到波向圖一軸晶垂直光軸切面的波向圖一軸晶垂直光軸切面的波向圖特點(diǎn):中心為光軸出露點(diǎn);同心圓與放射線交點(diǎn)代表入射光在礦片平面上的出露點(diǎn);放射線方向代表Ne′方向;同心圓切線方向代表No方向。第十二頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四13黑十字的成因黑十字成因

東西、南北向上的光率體橢圓半徑與AA、PP平行或近于平行,在正交鏡間消光或近于消光而形成黑十字。而在四個(gè)象限內(nèi),光率體橢圓半徑與AA、PP斜交,發(fā)生干涉作用,若光源為白色,則產(chǎn)生干涉色。為什么中間窄、邊緣寬?第十三頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四14干涉色圈成因

由中央向外,入射光與光軸夾角愈來(lái)愈大,雙折率逐漸增加,光波在晶體中經(jīng)歷的距離也越來(lái)越大,因此R也逐漸增大,干涉色級(jí)序亦隨之增加。錐形光束中與光軸夾角相等的各入射光,在礦片平面上的出露點(diǎn)是以光軸出露點(diǎn)為中心的同心圓,它們產(chǎn)生的R相等,干涉色相同,形成同心圓狀干涉色圈,且愈向外,干涉色級(jí)序愈高,色圈越密。第十四頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四15

由于光率體橢圓半徑呈放射狀對(duì)稱分布,故轉(zhuǎn)動(dòng)載物臺(tái)時(shí),總是東西、南北向上的光率體橢圓半徑與PP、AA平行而消光,其余方向上的橢圓半徑與PP、AA斜交,因干涉形成干涉色。轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái)360°干涉圖不變化轉(zhuǎn)到物臺(tái)360°干涉圖不變的成因第十五頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四16⑶應(yīng)用A、確定軸性和切面方向:凡具有上述干涉圖特點(diǎn)的切面即為一軸晶垂直光軸的切面。在正交鏡下,該切面全消光。B、測(cè)定光性符號(hào)第十六頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四17當(dāng)干涉色圈較少或四個(gè)象限內(nèi)只具有一級(jí)灰干涉色時(shí),用石膏試板較方便。也可用云母試板,加入試板后,黑十字變?yōu)橐患?jí)灰,一、三象限由一級(jí)灰升高為一級(jí)橙黃,二、四象限由一級(jí)灰因消色變?yōu)楹谏?,則為正光性。第十七頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四18★石英垂直光軸切面的光性確定第十八頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四19當(dāng)色圈較多時(shí),用石英楔或云母試板較方便。加入石英楔,若一、三象限內(nèi)的色圈由邊緣向中心連續(xù)移動(dòng),二、四象限內(nèi)的色圈由中心向邊緣連續(xù)移動(dòng),則為正光性;反之為負(fù)光性。第十九頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四20若加云母試板,黑十字變?yōu)橐患?jí)灰,若一、三象限內(nèi)每個(gè)干涉色圈都升高一個(gè)色序;而二、四象限內(nèi)的每個(gè)色圈都降低一個(gè)色序,則為正光性。反之為負(fù)光性。PPAA第二十頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四21★方解石垂直光軸切面的光性確定第二十一頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四222、斜交光軸切面的干涉圖⑴圖像特點(diǎn):光軸是傾斜的,黑十字交點(diǎn)不在視域中心,出現(xiàn)不完整的黑十字和干涉色圈。當(dāng)光軸與薄片法線的夾角不大時(shí),黑十字交點(diǎn)雖不在視域中心,但仍在視域內(nèi)。轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái)時(shí),黑十字交點(diǎn)繞視域中心作圓周運(yùn)動(dòng),黑臂作上下、左右平行移動(dòng),干涉色圈隨黑十字交點(diǎn)移動(dòng)。

光軸傾角不大第二十二頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四23當(dāng)光軸傾角較大時(shí),黑十字交點(diǎn)落在視域外,視域中只見(jiàn)一根黑臂及部分干涉色圈。轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái),黑臂作上下、左右平行移動(dòng),并交替出現(xiàn)在視域內(nèi),干涉色圈也隨之移動(dòng)。

光軸傾角較大第二十三頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四24當(dāng)光軸傾角很大時(shí),黑十字較寬大。轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái),黑臂呈彎曲狀掃過(guò)視域。這種切面的干涉圖與二軸晶干涉圖不易區(qū)分,故不能判斷軸性。

光軸傾角很大第二十四頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四25⑵應(yīng)用A、當(dāng)光軸傾角不是很大時(shí),可以確定軸性及切面方向。

B、測(cè)定光性符號(hào):當(dāng)黑十字交點(diǎn)在視域內(nèi)時(shí),測(cè)定方法與垂直光軸切面干涉圖的測(cè)定方法相同。如果光軸出露點(diǎn)在視域之外時(shí),要測(cè)定光性符號(hào),首先要確定視域?qū)儆谀囊幌笙?。光軸傾角不大光軸傾角較大第二十五頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四26

當(dāng)視域內(nèi)只見(jiàn)一橫臂時(shí),順時(shí)針旋轉(zhuǎn)載物臺(tái),據(jù)黑帶移動(dòng)方向判斷黑十字交點(diǎn)在視域外的位置。從而可以確定視域?qū)儆诤谑值哪囊粋€(gè)象限。然后按垂直光軸切面干涉圖的方法測(cè)定光性符號(hào)。4轉(zhuǎn)動(dòng)載物臺(tái)時(shí),斜交光軸切面干涉圖中黑帶的移動(dòng)規(guī)律第二十六頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四27一軸晶斜交光軸切面干涉圖上光性符號(hào)的測(cè)定第二十七頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四28一軸晶斜交光軸切面干涉圖加入試板后的變化情況僅見(jiàn)一級(jí)灰干涉色加入石膏試板干涉色圈較多加入云母試板第二十八頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四293、平行光軸切面的干涉圖⑴圖像特點(diǎn):當(dāng)光軸與AA、PP方向之一平行時(shí),干涉圖為一模糊粗大黑十字。稍轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái)(12~15°),黑十字從中心分裂成一對(duì)雙曲線,并迅速沿光軸方向退出視域。因變化迅速,故稱為瞬變干涉圖或閃圖。第二十九頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四30當(dāng)光軸方向與AA、PP成45°夾角時(shí),視域最亮。若礦物雙折率較大,則出現(xiàn)對(duì)稱的弧形干涉色帶。在光軸方向上,干涉色級(jí)序由中心向兩邊逐漸降低;在垂直光軸方向上,干涉色級(jí)序由中心向兩邊逐漸升高。如果礦物的雙折率較低,整個(gè)視域?yàn)橐患?jí)灰白干涉色。第三十頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四31⑵成因當(dāng)光軸與AA、PP之一平行時(shí),波向圖上大部分光率體橢圓半徑與AA、PP平行或近平行,在正交鏡間消光或近消光,形成粗大黑十字。稍轉(zhuǎn)物臺(tái),中央光率體半徑大都首先與AA、PP斜交而變亮,黑十字迅速?gòu)闹行姆至眩^續(xù)轉(zhuǎn)物臺(tái),當(dāng)所有光率體橢圓半徑均與AA、PP斜交時(shí),視域全部明亮,出現(xiàn)干涉色。第三十一頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四32正光性垂直光軸方向上,自中心向兩邊雙折率不變,厚度愈外愈大,故干涉色愈外愈高。平行光軸方向上,雙折率愈外愈低,因薄片厚度不大,視域較小,礦片厚度的加大不足以抵消雙折率減小的影響,故干涉色愈外愈低。當(dāng)光軸與AA、PP成45°時(shí):第三十二頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四33⑶應(yīng)用A、因與二軸晶平行Ap切面的干涉圖很難區(qū)分,故不能用來(lái)確定軸性。當(dāng)軸性已知時(shí),可確定切面方向。此切面上可以測(cè)出最大雙折率和最高干涉色。B、當(dāng)軸性已知時(shí),可測(cè)定光性符號(hào)。測(cè)定方法和步驟:①確定光軸方向。轉(zhuǎn)動(dòng)載物臺(tái),黑十字退出視域的方向或干涉色級(jí)序由中心向兩邊逐漸降低的方向。②使光軸與AA、PP成45°。③插入試板,觀察整個(gè)視域干涉色升降變化,確定光性正負(fù)。第三十三頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四34一軸晶平行光軸切面干涉圖中光性符號(hào)的測(cè)定第三十四頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四351、垂直Bxa切面的干涉圖⑴圖像特點(diǎn)當(dāng)光軸面與上、下偏光振動(dòng)方向之一平行時(shí),干涉圖由一個(gè)黑十字及“∞”字形干涉色圈組成。三、二軸晶干涉圖第三十五頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四36★二軸晶垂直Bxa切面干涉圖的特征及其光率體橢圓半徑的分布第三十六頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四37轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái),黑十字從中心分裂成兩彎曲黑帶。當(dāng)Ap與AA、PP成45°時(shí),兩黑帶頂點(diǎn)最遠(yuǎn),頂點(diǎn)為光軸出露點(diǎn)并凸向Bxa出露點(diǎn)。頂點(diǎn)間距與“2V”成正比,連線為Ap跡線,通過(guò)Bxa出露點(diǎn),垂直光軸面跡線方向?yàn)镹m方向。在轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái)過(guò)程中,干涉色圈形狀不變,但隨著光軸出露點(diǎn)移動(dòng)。第三十七頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四38A、黑十字及彎曲黑帶的成因:⑵成因第三十八頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四39B、干涉色圈的成因由兩光軸出露點(diǎn)向外,隨入射光與光軸夾角的加大,其雙折率和經(jīng)歷的路程都逐漸加大,R增加速度較快。在光軸與Bxa之間,隨著入射光與光軸夾角的加大,其雙折率增大,但經(jīng)歷的路程減小,R增加速度較慢,而且到達(dá)Bxa光程差不再增加。ABCD第三十九頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四40

當(dāng)2V較大時(shí),垂直Bxa切面干涉圖與垂直Bxo切面干涉圖不易區(qū)分,不宜用于測(cè)定光性符號(hào)。當(dāng)Bxa=Ng,Bxo=Np時(shí),為正光性;當(dāng)Bxa=Np,Bxo=Ng時(shí),為負(fù)光性。因此,測(cè)定二軸晶的光性正負(fù),實(shí)際上就是測(cè)定Bxa=Ng還是Np。⑶應(yīng)用A、確定軸性及切面方向B、測(cè)定光軸角大小(略)C、測(cè)定光性符號(hào)(2V小于80°)第四十頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四41ABCDABCD在垂直Bxa切面的干涉圖中,當(dāng)Ap與AA、PP成45°時(shí),在光軸面跡線上,彎曲黑臂頂點(diǎn)內(nèi)外的光率體橢圓長(zhǎng)短半徑的分布方位,因光性正負(fù)而不同。Nm第四十一頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四42無(wú)論光性正負(fù),在兩黑帶頂點(diǎn)間,與Ap跡線一致的是Bxo投影方向;在頂點(diǎn)之外,與Ap跡線一致的是Bxa投影方向;垂直Ap跡線方向,黑帶頂點(diǎn)內(nèi)外都是Nm方向。Bxa、Bxo及Nm的方位確定后,加入試板,根據(jù)黑臂頂點(diǎn)內(nèi)外干涉色級(jí)序的升降變化,確定Bxa是Ng還是Np,從而確定光性正負(fù)。第四十二頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四43當(dāng)干涉圖中彎曲黑臂以外僅見(jiàn)一級(jí)灰干涉色時(shí),可加入石膏試板。第四十三頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四44當(dāng)干涉色圈多時(shí),測(cè)光性符號(hào)用云母試板為宜;干涉色圈較密也可用石英楔。第四十四頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四452、垂直一個(gè)光軸切面的干涉圖⑴圖像特點(diǎn)

相當(dāng)于垂直Bxa切面干涉圖的一半,光軸出露于視域中心。當(dāng)光軸面與AA、PP之一平行時(shí),為一直的黑帶及卵形干涉色圈組成(雙折率較大時(shí))。第四十五頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四46轉(zhuǎn)載物臺(tái),黑帶彎曲,當(dāng)Ap與AA、PP成45°時(shí),彎曲度最大,頂點(diǎn)位于視域中心,為光軸出露點(diǎn),黑帶凸向Bxa出露點(diǎn)。90°第四十六頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四47⑵應(yīng)用A、確定軸性和切面方向。B、測(cè)定光性符號(hào)(與垂直Bxa切面測(cè)定方法相同)。Bxo方向Bxo方向BxaBxa第四十七頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四48升高升高降低降低第四十八頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四49C、估計(jì)光軸角的大小

當(dāng)Ap與AA、PP成45°時(shí),黑帶彎曲程度與2V成反比。當(dāng)2V=90°,黑帶為直帶;當(dāng)2V=0°時(shí),黑帶彎曲成90°,相當(dāng)于一軸晶垂直光軸切面干涉圖中的黑十字;2V介于0°和90°之間時(shí),黑帶彎曲度介于90°與直帶之間。第四十九頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四503、斜交光軸切面的干涉圖

斜交光軸切面,即既不垂直O(jiān)A,也不垂直等分線的切面,薄片中此種切面最常見(jiàn)??煞譃閮深悾孩艌D像特點(diǎn)一種是垂直光軸面,斜交光軸切面的干涉圖。當(dāng)Ap與AA、PP之一平行時(shí),直黑帶通過(guò)視域中心且平分視域;成45°時(shí),彎曲黑帶頂點(diǎn)不在視域中心。NmBxa第五十頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四51另一種是與光軸面及光軸都斜交的切面干涉圖。當(dāng)Ap與AA、PP之一平行時(shí),直黑帶不通過(guò)視域中心;成45°時(shí),彎曲黑帶頂點(diǎn)不在視域中心。無(wú)論二軸晶的何種斜交光軸切面干涉圖,當(dāng)轉(zhuǎn)動(dòng)載物臺(tái),黑臂總要彎曲,彎曲黑帶總凸向Bxa出露點(diǎn)。外第五十一頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四52⑵應(yīng)用A、確定軸性及切面方向B、測(cè)定光性符號(hào)轉(zhuǎn)動(dòng)載物臺(tái),找出彎曲黑帶頂點(diǎn)的凸方及Bxa在視域外的方位之后,插入合適試板,即可按垂直Bxa切面干涉圖的測(cè)定方法測(cè)定光性符號(hào)。第五十二頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四534、垂直Bxo切面的干涉圖⑴圖像特點(diǎn)當(dāng)光軸面與AA、PP之一平行時(shí),為一粗大的黑十字,黑十字交點(diǎn)為Bxo出露點(diǎn),光軸出露點(diǎn)在視域之外。四個(gè)象限僅出現(xiàn)一級(jí)灰干涉色。若雙折率較大,可出現(xiàn)稀疏的干涉色圈。第五十三頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四54

轉(zhuǎn)動(dòng)載物臺(tái),黑十字分裂成兩彎曲黑帶,沿Ap方向退出視域。當(dāng)Ap與AA、PP成45°時(shí),彎曲黑帶頂點(diǎn)間距離最遠(yuǎn),頂點(diǎn)仍為光軸出露點(diǎn),都在視域外。繼續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng),彎曲黑帶逐漸靠近,90°時(shí)又出現(xiàn)一個(gè)粗大的黑十字。繼續(xù)轉(zhuǎn)動(dòng),黑十字又分裂。第五十四頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四55⑵成因第五十五頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四56BxaNm⑶應(yīng)用

可確定礦物切面方向和光性符號(hào)。當(dāng)Ap與AA、PP成45°時(shí),視域中心為Bxo出露點(diǎn),在兩黑帶頂點(diǎn)間,與Ap跡線方向一致的是Bxa投影方向,垂直Ap跡線方向仍為Nm方向。加入試板后,根據(jù)干涉色的升降,確定光性符號(hào)。一般不用此方法。第五十六頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四575、平行Ap切面的干涉圖⑴圖像特點(diǎn)

與一軸晶平行光軸切面的干涉圖相似。當(dāng)Bxa和Bxo方向分別平行AA、PP時(shí),為一粗大模糊的黑十字。轉(zhuǎn)動(dòng)載物臺(tái)(7~12°),黑十字迅速分裂并沿Bxa方向退出視域,也稱瞬變干涉圖或閃圖。第五十七頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四58當(dāng)Bxa與AA、PP成45°時(shí),視域最亮。若△N較大或礦片較厚,可見(jiàn)弧形干涉色帶。在Bxa方向上,從中心向兩邊干涉色級(jí)序降低;在Bxo方向上,從中心向兩邊干涉色稍升高或相近。第五十八頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四59⑵成因第五十九頁(yè),共六十五頁(yè),編輯于2023年,星期四60⑵應(yīng)用該切面干涉圖與一軸晶平行光軸切面干涉圖難區(qū)分,所以不能用來(lái)確定軸性。A、當(dāng)軸性已知時(shí),可用來(lái)確定切面方向。B、當(dāng)軸性已知時(shí),可用來(lái)測(cè)光性符號(hào)。找出Bxa

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