第五章 配位滴定法

本文格式為Word版，下載可任意編輯——第五章配位滴定法1、氨羧配位劑與金屬離子協(xié)同物的特點(diǎn)是什么呢？

氨羧配位劑是一類以氨基二乙酸為基體的配位劑。它的分子中含有氨氮和羧氧配位原子。前者易與Co、Ni、Zn、Cu、Hg等金屬離子配位，后者則幾乎與所有高價(jià)金屬離子配位。因此氨羧配位劑兼有兩者的配位能力，幾乎能與所有金屬離子配位。EDTA是氨羧配位劑中應(yīng)用最多的一種。EDTA與金屬離子形成多基配位體的協(xié)同物，又稱螯合物。在一般狀況下，配位比都是1:1。EDTA與金屬離子形成的螯合物立體結(jié)構(gòu)中具有多個(gè)五元環(huán)，穩(wěn)定性高。另外，此類配位反應(yīng)速度快，生成的協(xié)同物水溶性大，大多數(shù)金屬離子與EDTA的協(xié)同物為無(wú)色，便于用指示劑確定終點(diǎn)，這些都給配位滴定提供了有利條件。

2、何謂協(xié)同物的穩(wěn)定常數(shù)、離解常數(shù)和累積穩(wěn)定常數(shù)？他們之間的關(guān)系是什么？穩(wěn)定常數(shù)P87。

累積穩(wěn)定常數(shù)（第三章）

3、何謂副反應(yīng)系數(shù)？何謂條件穩(wěn)定常數(shù)？他們之間有何關(guān)系？

將被測(cè)離子M與滴定劑Y之間的反應(yīng)作為主反應(yīng)，其他伴隨的副反應(yīng)對(duì)主反應(yīng)影響的程度為副反應(yīng)系數(shù)（如酸效應(yīng)系數(shù)、配位效應(yīng)系數(shù)、共存離子效應(yīng)系數(shù)等）；條件穩(wěn)定常數(shù)為在一定條件將各種副反應(yīng)對(duì)金屬離子-EDTA協(xié)同物的影響同時(shí)考慮時(shí)，協(xié)同物的實(shí)際穩(wěn)定常數(shù)，它表示了在一定條件下有副反應(yīng)發(fā)生時(shí)主反應(yīng)進(jìn)行的程度。（5-8、5-9a）

4、影響配位滴定突躍范圍的因素是什么？

配位滴定的滴定突躍大小取決于兩個(gè)因素：一個(gè)是條件穩(wěn)定常數(shù)KMY’，另一個(gè)是被測(cè)定金屬離子的濃度CM。在濃度一定的條件下，KMY’越大，突躍也越大。在KMY’一定的條件下，金屬離子的濃度越低，滴定曲線的起點(diǎn)越高，滴定突躍則隨之減小。

5、金屬指示劑的作用原理是什么？它應(yīng)具備哪些條件？

作用原理：金屬指示劑是一種有機(jī)染料，它與被測(cè)定金屬離子發(fā)生配位反應(yīng)，形成一種與染料本身顏色不同的協(xié)同物。例如常用指示劑鉻黑T(EBT)在pH7~10的溶液中呈藍(lán)色，而與其金屬離子的協(xié)同物呈紅色。若以EDTA滴定Mg2+,用EBT作指示劑。滴定開始時(shí)溶液中有大量的Mg2+,部分的Mg2+與EBT協(xié)同，浮現(xiàn)MgIn-的紅色。隨著EDTA的參與，EDTA逐漸與Mg2+協(xié)同，在化學(xué)計(jì)量點(diǎn)附近，Mg2+濃度降得很快，參與的EDTA進(jìn)而奪取MgIn-協(xié)同物中的Mg2+，使EBT游離出來(lái)，浮現(xiàn)指示劑Hin2-的藍(lán)色，表示終究滴定終點(diǎn)。

具備條件：①與金屬離子生成的協(xié)同物顏色與指示劑本身的顏色有明顯區(qū)別。

②金屬指示劑與金屬協(xié)同物的穩(wěn)定性與金屬-EDTA協(xié)同物的穩(wěn)定性低。這

樣EDTA才能奪取Min中的M，使指示劑游離出來(lái)而變色。

6、何謂指示劑的封閉現(xiàn)象？怎樣消除封閉？

某些金屬離子與指示劑生成極穩(wěn)定的協(xié)同物，過量的EDTA不能從MIn中將金屬離子奪出，因而在化學(xué)計(jì)量點(diǎn)時(shí)指示劑也不變色，或變色不敏銳，使終點(diǎn)推遲。這種現(xiàn)象稱為指示劑的封閉現(xiàn)象。

若被測(cè)物質(zhì)產(chǎn)生封閉為永久封閉，需更換指示劑，若干擾離子產(chǎn)生封閉，可參與掩蔽劑消除干擾。

7、EDTA滴定單一離子時(shí)，如何確定最高酸度和最低酸度？

P98上面。（緩沖液的作用。P99）

8、在有共存離子時(shí)，如何控制適合的酸度范圍以提高選擇性？若控制酸度仍不能達(dá)到目的，還能采取什么措施？例5-9。

可采用掩蔽法，降低溶液中溶液中游離N的濃度。

9、配位滴定中常用的掩蔽方法有哪些？各適用于哪些狀況？

根據(jù)掩蔽反應(yīng)的類型可以分為配位掩蔽法、沉淀掩蔽法、氧化還原掩蔽法P