電介質(zhì)及其介電特性電導(dǎo)_第1頁(yè)
電介質(zhì)及其介電特性電導(dǎo)_第2頁(yè)
電介質(zhì)及其介電特性電導(dǎo)_第3頁(yè)
電介質(zhì)及其介電特性電導(dǎo)_第4頁(yè)
電介質(zhì)及其介電特性電導(dǎo)_第5頁(yè)
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關(guān)于電介質(zhì)及其介電特性電導(dǎo)1第1頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月2現(xiàn)象:在外電場(chǎng)作用下,電介質(zhì)中載流子沿電場(chǎng)方向遷移形成泄漏電流的物理現(xiàn)象——電介質(zhì)的電導(dǎo)。表征:用電阻率或電導(dǎo)率分別表示單位長(zhǎng)度和單位截面積材料的電阻和電導(dǎo)。是表征材料導(dǎo)電性的宏觀參數(shù),與材料的幾何尺寸無(wú)關(guān)。單位:Ω.m或S/m1.概述——共性問(wèn)題電導(dǎo)率:通過(guò)材料的電流密度與電場(chǎng)強(qiáng)度之比。在線性電介質(zhì)中為常數(shù)。第2頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月31.1一般關(guān)系式

如果介質(zhì)中的載流子(自由電荷)密度n0、載流子在電場(chǎng)作用下平均遷移速度、和載流子的電荷q設(shè)電介質(zhì)在均勻電場(chǎng)E作用下,在t時(shí)間之內(nèi)通過(guò)截面積S的總電荷量l=t為載流子在t時(shí)間之內(nèi)沿電場(chǎng)方向遷移的距離則電流密度:概述——共性問(wèn)題第3頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月4

在外電場(chǎng)作用下,載流子的宏觀平均遷移速度與電場(chǎng)強(qiáng)度之間成比例關(guān)系:

此式是表征電介質(zhì)導(dǎo)電性能的宏觀參數(shù)與其微觀參數(shù)n0、、q

的一般關(guān)系式,也是研究各種物質(zhì)電導(dǎo)性質(zhì)最基本的普適關(guān)系式。概述——共性問(wèn)題式中為載流子的遷移率,表示載流子在單位電場(chǎng)強(qiáng)度作用下所獲得的宏觀平均速度,單位為(m2/V·s)代入上式可得介質(zhì)電導(dǎo)率第4頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月51.2電導(dǎo)的分類(lèi)概述——共性問(wèn)題電介質(zhì)電導(dǎo)電子電導(dǎo)離子電導(dǎo)膠粒電導(dǎo)按導(dǎo)電載流子種類(lèi)分:電導(dǎo)率范圍/(S/m)材料絕緣體10-16~10-8聚乙烯、各種高分子聚合物、聚氯乙烯、云母、變壓器油、堿玻璃半導(dǎo)體10-8~10-2有機(jī)半導(dǎo)體、蒽、CuO、Si、Ge導(dǎo)體10-2~108Ni、Cu、Ag根據(jù)常溫常壓下電導(dǎo)率的大小分:第5頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月6概述——共性問(wèn)題氣態(tài)液態(tài)固態(tài)金屬絕緣體導(dǎo)體導(dǎo)體鍺絕緣體導(dǎo)體導(dǎo)體(常溫)絕緣體(0K)碳導(dǎo)體(非晶和片狀晶態(tài))絕緣體(正四面體)NaCl絕緣(常壓)導(dǎo)體(極高壓力)物質(zhì)的導(dǎo)電性與其凝聚狀態(tài)及組成結(jié)構(gòu)有關(guān):電介質(zhì)電導(dǎo)固體電導(dǎo)液體電導(dǎo)氣體電導(dǎo)第6頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月7

電子(空穴)載流子是通過(guò)熱激發(fā)、光激發(fā)、電極注入等方式產(chǎn)生。從能帶理論來(lái)看,電介質(zhì)的禁帶寬度較大,常溫下熱激發(fā)載流子很少,在光照或強(qiáng)場(chǎng)電極注入的情況下才有明顯的電子電導(dǎo)。弱電場(chǎng)作用下,固體和液體電介質(zhì)中的載流子主要是離子,離子的來(lái)源可能是組成介質(zhì)的分子離解或是雜質(zhì)的離解,前者為本征離子后者為雜質(zhì)離子。參與介質(zhì)導(dǎo)電的載流子并非介質(zhì)中的全部離子,而是與主體結(jié)構(gòu)聯(lián)系較弱或易于遷移的部分活化離子。這些活化離子的產(chǎn)生和在電場(chǎng)作用下的定向遷移都與質(zhì)點(diǎn)的熱運(yùn)動(dòng)有關(guān),所以也有“熱離子電導(dǎo)”之稱(chēng)。概述——共性問(wèn)題第7頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月8離子晶體的離子電導(dǎo)離子晶體是正負(fù)離子以離子鍵相結(jié)合,并有周期性。離子晶體中絕大部分離子都處于晶格點(diǎn)陣的格點(diǎn)上作熱運(yùn)動(dòng),并不直接參與導(dǎo)電。參與導(dǎo)電的載流子,是由于熱激發(fā)從格點(diǎn)上躍遷到點(diǎn)陣間的填隙離子和點(diǎn)陣上失去了離子的點(diǎn)陣空位,從而構(gòu)成離子電導(dǎo)和離子空位電導(dǎo)。討論介質(zhì)電導(dǎo)主要是研究載流子的產(chǎn)生、濃度和遷移。2.離子晶體的離子電導(dǎo)

第8頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月92.1晶體中缺陷的產(chǎn)生

離子晶體中載流子的形成與晶體中缺陷的產(chǎn)生有關(guān),晶體中的缺陷主要有兩類(lèi):弗蘭凱爾(Frenkel)缺陷:

離子晶體中如含有半徑較小的離子,由于熱激發(fā)這些離子有可能從晶格點(diǎn)位置躍遷到點(diǎn)陣間形成填隙離子,同時(shí)在點(diǎn)陣上產(chǎn)生一個(gè)空位。這種填隙離子和離子空位,同時(shí)成對(duì)產(chǎn)生的缺陷。離子晶體的離子電導(dǎo)第9頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月10肖特基(Shottky)缺陷:

離子半徑較大,難以進(jìn)入點(diǎn)陣間形成穩(wěn)定的填隙離子;離子將達(dá)到晶體的表面構(gòu)成新的晶格點(diǎn)陣,晶格內(nèi)只留下空位而無(wú)填隙離子,形成單一的離子空位缺陷。

由于熱運(yùn)動(dòng),離子晶體中的缺陷不斷的產(chǎn)生又不斷地復(fù)合消失。在一定溫度下,缺陷的產(chǎn)生和復(fù)合處于動(dòng)態(tài)平衡,缺陷的濃度保持一恒定值。根據(jù)熱力學(xué)和統(tǒng)計(jì)力學(xué),可以計(jì)算出在一定溫度下平衡狀態(tài)離子缺陷的濃度值——離子晶體中的載流子濃度。離子晶體的離子電導(dǎo)第10頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月11

根據(jù)熱力學(xué)定律,體系自由能F與體系內(nèi)能U和熵S有:2.2晶體中的缺陷濃度離子晶體的離子電導(dǎo)

系統(tǒng)的熵S與系統(tǒng)的微觀狀態(tài)數(shù)W遵從:式中k為玻爾茲曼常數(shù)。

系統(tǒng)的內(nèi)能U及微觀狀態(tài)數(shù)W均與缺陷濃度n有關(guān),當(dāng)系統(tǒng)處于平衡狀態(tài)下應(yīng)有

由此就可確定離子晶體中的缺陷濃度。第11頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月12此時(shí)微觀狀態(tài)數(shù):設(shè):晶體點(diǎn)陣上格點(diǎn)濃度為N;晶體點(diǎn)陣間位置的濃度為N’;晶體點(diǎn)陣上的離子空位濃度為nf;晶體點(diǎn)陣間的填隙離子濃度nf’

;

uf

為晶體點(diǎn)陣上離子到達(dá)點(diǎn)陣間形成填隙離子和空位所需的能量。離子晶體的離子電導(dǎo)弗蘭凱爾缺陷濃度:第12頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月13如離開(kāi)點(diǎn)陣上格點(diǎn)的離子都躍遷到點(diǎn)陣間成為填隙離子,則nf=nf’,有

根據(jù)平衡態(tài)條件可求得弗蘭凱爾缺陷濃度離子晶體的離子電導(dǎo)

通常第13頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月14離子晶體的離子電導(dǎo)肖特基缺陷濃度:設(shè):晶體點(diǎn)陣上的離子空位濃度為ns;晶體點(diǎn)陣上的離子濃度N

us

為點(diǎn)陣上離子離開(kāi)格點(diǎn)到達(dá)晶體表面所需的能量。此時(shí)晶體的微觀狀態(tài)數(shù):

根據(jù)平衡態(tài)條件可求得肖特基缺陷濃度:

通常N>>ns,則有第14頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月15本征載流子濃度,由晶體結(jié)構(gòu)的緊密程度和離子半徑的大小決定。導(dǎo)電離子半徑大,晶體結(jié)構(gòu)緊密,則形成肖特基缺陷,由離子空位產(chǎn)生電導(dǎo);反之則形成弗蘭凱爾缺陷,由點(diǎn)陣空間的填隙離子及點(diǎn)陣上的離子空位形成離子電導(dǎo)和空位電導(dǎo)。載流子在電場(chǎng)作用下的遷移具有熱躍遷的性質(zhì)。如由于熱運(yùn)動(dòng)離開(kāi)格點(diǎn)進(jìn)入點(diǎn)陣間的填隙離子,可以稱(chēng)為活化離子?;罨x子也非完全自由,仍被周?chē)徑x子所束縛,而處在一最低勢(shì)能位置作熱運(yùn)動(dòng)。當(dāng)離子的熱振動(dòng)能超過(guò)周?chē)R近分子對(duì)它的束縛勢(shì)壘時(shí),離子才能離開(kāi)其原先的位置而遷移。由于熱振動(dòng)而引起的離子遷移,在無(wú)外電場(chǎng)作用時(shí)也存在。電場(chǎng)則改變了離子在不同方向的遷移數(shù),從而產(chǎn)生了宏觀的定向遷移。離子晶體的離子電導(dǎo)第15頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月16

假設(shè)離子沿三個(gè)軸線互相垂直的六個(gè)方向躍遷的幾率相等。因此活化離子的濃度為n0時(shí),在每一個(gè)方向可躍遷的活化離子濃度應(yīng)為n0/6。離子熱振動(dòng)的能量服從玻爾茲曼分布,熱振動(dòng)的頻率為,因此可以得到,沿某一規(guī)定方向,每秒鐘內(nèi)克服躍遷勢(shì)壘u0,躍遷到新的平衡位置的活化離子濃度n為:2.3離子的遷移離子晶體的離子電導(dǎo)第16頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月17

設(shè)活化的填隙離子帶正電q,電場(chǎng)沿x正方向。由于電場(chǎng)的作用,離子沿x方向由A向B遷移所需克服的勢(shì)壘將降低u,而由B向A遷移所需克服的勢(shì)壘則上升u。每秒沿X方向產(chǎn)生的過(guò)剩遷移離子數(shù):離子晶體的離子電導(dǎo)第17頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月18弱電場(chǎng)下,則有:若離子每次躍遷的距離為,則弱電場(chǎng)下活化離子沿電場(chǎng)方向的平均漂移速度和遷移率μ離子晶體的離子電導(dǎo)第18頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月19離子晶體的離子電導(dǎo)弱電場(chǎng)作用下,填隙離子所引起的離子電導(dǎo)率:

強(qiáng)電場(chǎng)下,弱電場(chǎng)作用下,離子空位所引起的離子電導(dǎo)率:

第19頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月20離子晶體的離子電導(dǎo)電導(dǎo)率隨溫度的變化規(guī)律可寫(xiě)成簡(jiǎn)化形式:介質(zhì)中同時(shí)具有兩種導(dǎo)電機(jī)制時(shí),如本征離子電導(dǎo)和雜質(zhì)離子電導(dǎo),則電導(dǎo)率隨溫度的變化:

如式中1表示本征離子電導(dǎo),2表示雜質(zhì)離子(或弱束縛離子)電導(dǎo),則A1>A2,B1>B2,u1>u2

。,

雜質(zhì)對(duì)KCl晶體導(dǎo)電率的影響

1、2、3、4,分別含SrCl2(19、6.1、1.9、0)×10-4第20頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月21離子晶體的離子電導(dǎo)

根據(jù)多種堿鹵晶體的電導(dǎo)率與溫度關(guān)系,求得離子電導(dǎo)總勢(shì)壘u表明:堿鹵晶體中的負(fù)離子半徑按F、Cl、Br、I次序增大,離子電導(dǎo)勢(shì)壘顯著下降(右圖)。熔點(diǎn)亦降低,這說(shuō)明晶體結(jié)構(gòu)的松弛,引起離子活化能及躍遷勢(shì)壘的降低,故電導(dǎo)總勢(shì)壘下降。第21頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月22

石英、高分子有機(jī)介質(zhì)、液體介質(zhì)等非離子性介質(zhì),它們主要由共價(jià)鍵分子組成。這類(lèi)介質(zhì)在弱電場(chǎng)下的電導(dǎo)主要是由雜質(zhì)離子引起,但也會(huì)存在電子及膠體產(chǎn)生的電導(dǎo)。一般電導(dǎo)率很低。其電阻率隨溫度的變化也都遵從熱離子電導(dǎo)相似的規(guī)律:非離子性介質(zhì)的離子電導(dǎo)3.非離子性介質(zhì)的離子電導(dǎo)

1-電工瓷2-高頻瓷

3-超高頻瓷4-剛玉瓷第22頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月23

根據(jù)液體介質(zhì)中的離子來(lái)源,液體介質(zhì)離子電導(dǎo)可分為本征離子電導(dǎo)和雜質(zhì)離子電導(dǎo)。本征離子電導(dǎo)是介質(zhì)本身的基本分子熱離解而產(chǎn)生的離子所形成,在強(qiáng)極性液體介質(zhì)中(如有機(jī)酸、醇、酯類(lèi)等)才明顯存在。雜質(zhì)離子是外來(lái)雜質(zhì)分子(如水、酸、有機(jī)鹽等)或液體的基本分子老化的產(chǎn)物(如有機(jī)酸、醇、酯、酚等)離解而產(chǎn)生的離子,往往是液體介質(zhì)中離子的主要來(lái)源。液體介質(zhì)的離子電導(dǎo)非離子性介質(zhì)的離子電導(dǎo)(1)離子的來(lái)源第23頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月24

極性液體分子和雜質(zhì)分子在液體中,僅有極少的一部分離解成為離子參與導(dǎo)電。非離子性介質(zhì)的離子電導(dǎo)分子(AB)離解形成正負(fù)離子(A+、B-):分子離解形成正負(fù)離子,必須越過(guò)勢(shì)壘ua,即分子離解的活化能。如果分子的濃度為N0,AB原子團(tuán)之間的相對(duì)熱振動(dòng)頻率為0,且分子熱振動(dòng)能量分布服從波爾茲曼分布,則單位體積內(nèi),每秒鐘離解的分子數(shù)N為:uuar0r1u0其中K0

表示每秒鐘能發(fā)生離解的有效熱振動(dòng)次數(shù):分子的離解速率N與分子濃度成正比,并與溫度呈指數(shù)關(guān)系增加。第24頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月25復(fù)合速率Z為:非離子性介質(zhì)的離子電導(dǎo)正負(fù)離子(A+、B-)碰撞復(fù)合成分子(AB):——離子的復(fù)合系數(shù)在動(dòng)態(tài)平衡條件下,N=Z,由此可得離子濃度:分子的離解度:n0和均隨溫度的增高呈指數(shù)關(guān)系而增加。第25頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月26離子的遷移率與固體中離子熱躍遷相似,在弱電場(chǎng)下:非離子性介質(zhì)的離子電導(dǎo)(2)離子的遷移及電導(dǎo)率與溫度的關(guān)系得到離子電導(dǎo)率與溫度及物質(zhì)特性參數(shù)的關(guān)系:

當(dāng)外加電場(chǎng)強(qiáng)度遠(yuǎn)小于擊穿場(chǎng)強(qiáng)時(shí),液體介質(zhì)的離子電導(dǎo)率為一與電場(chǎng)強(qiáng)度無(wú)關(guān)的常數(shù),其導(dǎo)電規(guī)律遵從歐姆定律。在考慮溫度變化時(shí),可忽略系數(shù)項(xiàng)隨溫度的變化,則:第26頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月27液體介質(zhì)的電泳電導(dǎo)與華爾屯定律

在液體介質(zhì)中,往往存在一些不同組成的膠粒,如變壓器油中的雜質(zhì),水分進(jìn)入某些液體介質(zhì)也可能形成乳化狀態(tài)的膠體溶液。這些膠粒均帶有一定的電荷。當(dāng)膠粒的介電常數(shù)大于液體的介電常數(shù)時(shí),膠粒往往帶正電;反之,膠粒帶負(fù)電。4.液體介質(zhì)的電泳電導(dǎo)與華爾屯定律

——華爾屯定律定律表明:液體介質(zhì)的電泳電導(dǎo)率和粘度雖然都與溫度有關(guān),但電泳電導(dǎo)率與粘度的乘積為一與溫度無(wú)關(guān)的常數(shù)。華爾屯定律對(duì)本征離子電導(dǎo)近似符合,不適用雜質(zhì)離子電導(dǎo),這也是區(qū)別膠體電導(dǎo)和雜質(zhì)離子電導(dǎo)機(jī)理的方法之一。第27頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月28電介質(zhì)的強(qiáng)場(chǎng)電導(dǎo)1.材料的電接觸特性2.載流子的增殖過(guò)程3.載流子的輸運(yùn)過(guò)程4.強(qiáng)場(chǎng)下的電流特性第28頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月29強(qiáng)場(chǎng)電導(dǎo)的基本特征:

電介質(zhì)的強(qiáng)場(chǎng)電導(dǎo)

載流子主要是電子電導(dǎo)非歐姆性具有非線性伏安特性第29頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月30物理性質(zhì)典型的半導(dǎo)體如硅、鍺等典型的絕緣體如NaCl、聚合物等禁帶Eg(eV)0.8~1.2≥5.0本征載流子濃度(m-3)T=300K2.8×1012T=300KT=500K10-181載流子遷移率(m2V-1s-1)10-4~1≤10-8本征電導(dǎo)率(Ω·m)-14.5×10-5~0.45≤10-45≤10-27電離雜質(zhì)濃度(m-3)1018~1024大多在室溫下電離≤2×10-9≤105雜質(zhì)電導(dǎo)率(Ω·m-1)1.6×10-5~1.6×105≤10-35≤2×10-22半導(dǎo)體與絕緣體的電性能比較電介質(zhì)的強(qiáng)場(chǎng)電導(dǎo)第30頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月311.材料的電接觸特性表面與界面問(wèn)題電接觸:金屬與非金屬介質(zhì)/半導(dǎo)體的接觸接觸界面的作用:載流子容易注入阻擋載流子注入如何描述界面特性?材料的電接觸特性第31頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月32(1)經(jīng)典電子論

假設(shè)金屬中自由電子為勢(shì)阱中的自由質(zhì)點(diǎn),E0表示電子擺脫金屬束縛必須做的功。1.1功函數(shù)

在熱電子發(fā)射現(xiàn)象研究中發(fā)現(xiàn),發(fā)射電流隨溫度基本上按指數(shù)規(guī)律變化:——功函數(shù)材料的電接觸特性第32頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月33

即功函數(shù)=E0

為勢(shì)阱深度。則電子服從經(jīng)典統(tǒng)計(jì)分布:發(fā)射電流密度:材料的電接觸特性比較第33頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月34由于熱發(fā)射電子的能量m2/2必須高于E0,亦有(2)量子理論

假設(shè)E0表示導(dǎo)帶底部電子離開(kāi)金屬必須做的功。利用費(fèi)米分布函數(shù)得到:材料的電接觸特性第34頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月35具有與經(jīng)典電子論相同的溫度依賴關(guān)系。但對(duì)功函數(shù)給出了不同于經(jīng)典理論的解釋?zhuān)?/p>

功函數(shù)的大小直接反映費(fèi)米能級(jí)的高低。

所以:同樣可得發(fā)射電流密度:材料的電接觸特性第35頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月36金屬中:

m=E0-EFm,E0為勢(shì)阱深度,取決于材料的結(jié)構(gòu)和表面條件非金屬中:=X+(Ec-EF)EF—費(fèi)米能級(jí),位于禁帶中,是溫度、雜質(zhì)濃度和外界壓力的函數(shù)。

EC—為導(dǎo)帶能級(jí)X—為電子親和勢(shì)。表示一個(gè)電子從表面上導(dǎo)帶底部移至真空所需能量。材料的電接觸特性第36頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月371.2接觸電勢(shì)兩種不同的材料A、B相接觸,就會(huì)帶電并產(chǎn)生不同的電勢(shì)VA、VB,二者之差稱(chēng)為接觸電勢(shì)。以金屬為例:A、B不同,反映費(fèi)米能級(jí)EF的高低不同。EF

代表電子的化學(xué)勢(shì)當(dāng)A、B接觸交換電子時(shí),發(fā)生從化學(xué)勢(shì)高到化學(xué)低的電子流動(dòng);電子由A流到B,使A表面帶正電,B表面帶負(fù)電,從而產(chǎn)生靜電勢(shì)。VA>0,VB<0材料的電接觸特性第37頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月38使A、B中的電子產(chǎn)生附加勢(shì)能-eVA<0,–eVB>0從能級(jí)圖看,表現(xiàn)為A圖下降-eVA,B圖上升–eVB

使A和B的費(fèi)米能級(jí)相接近以至拉平——兩邊的電子化學(xué)勢(shì)變?yōu)橄嗟?。電子將停止凈流?dòng),系統(tǒng)達(dá)到平衡。材料的電接觸特性第38頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月39此時(shí)有:

通過(guò)接觸電勢(shì)差來(lái)補(bǔ)償A、B之間費(fèi)米能級(jí)的差別,從而使電子達(dá)到統(tǒng)計(jì)平衡。

接觸電勢(shì)差:材料的電接觸特性第39頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月401.3電接觸類(lèi)型

介質(zhì)內(nèi)產(chǎn)生正空間電荷,即產(chǎn)生一個(gè)從接觸界面擴(kuò)展至介質(zhì)體內(nèi)部的耗盡區(qū)。如:金屬與半導(dǎo)體的接觸(1)阻擋接觸材料的電接觸特性第40頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月41(2)歐姆接觸

在接觸處載流子密度比介質(zhì)體內(nèi)高很多。如:金屬與絕緣體的接觸產(chǎn)生歐姆接觸的方法:①降低有效熱電子發(fā)射的勢(shì)壘。②減薄勢(shì)壘——產(chǎn)生隧道效應(yīng)。材料的電接觸特性第41頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月42

固體表面實(shí)際上是固體與真空的界面,也會(huì)發(fā)生表面能帶的彎曲。由于固體晶格在其表面突然終斷,使周期性勢(shì)場(chǎng)受到破壞,產(chǎn)生近表面處能帶結(jié)構(gòu)的畸變,以使表面處費(fèi)米能級(jí)與體內(nèi)保持一致。

(3)中性接觸接觸面兩側(cè)區(qū)域?yàn)殡娭行?,不存在空間電荷。接觸處載流子濃度與介質(zhì)體內(nèi)的濃度相等的接觸,如M-S-M接觸。(4)表面態(tài)材料的電接觸特性第42頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月431.4外電場(chǎng)對(duì)接觸勢(shì)壘的影響外加電壓作用對(duì)界面能帶彎曲的影響(V4>V3>V2>V1>0)材料的電接觸特性第43頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月442.載流子的增殖過(guò)程(n0)

強(qiáng)場(chǎng)下的電導(dǎo)主要是電子電導(dǎo)。在禁帶寬度較小的介質(zhì)和薄層介質(zhì)中明顯存在。介質(zhì)中的導(dǎo)電電子來(lái)自電極和介質(zhì)體內(nèi)的熱電子發(fā)射、場(chǎng)致冷發(fā)射及碰撞電離。載流子的增殖過(guò)程第44頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月45載流子的增殖過(guò)程第45頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月462.1電極效應(yīng)電接觸——接觸電勢(shì)——強(qiáng)場(chǎng)下能帶發(fā)生變化——易于電子發(fā)射電極發(fā)射——電子、空穴離開(kāi)電極進(jìn)入到介質(zhì)中高溫下,電子獲得足夠動(dòng)能離開(kāi)電極,產(chǎn)生熱電子發(fā)射電流:載流子的增殖過(guò)程第46頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月47(1)場(chǎng)助熱電子發(fā)射——肖特基效應(yīng)

由于外電場(chǎng)的存在而使有效功函數(shù)降低的效應(yīng)。

高場(chǎng)強(qiáng)下,電子被電場(chǎng)拉出金屬,產(chǎn)生場(chǎng)致發(fā)射電流。E=0

時(shí):瑞卡得遜——德西門(mén)公式電極發(fā)射——電子、孔穴離開(kāi)電極場(chǎng)助發(fā)射——介于熱電子發(fā)射和場(chǎng)致發(fā)射之間載流子的增殖過(guò)程第47頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月48①金屬與真空的邊界可用矩形勢(shì)壘表示。②金屬與介質(zhì)的邊界電子溢出金屬的勢(shì)壘發(fā)生變化,為電子與金屬表面感應(yīng)正電荷之間靜電引力形成勢(shì)壘。載流子的增殖過(guò)程第48頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月49

③陰極發(fā)射設(shè)電子在金屬外無(wú)限遠(yuǎn)處的勢(shì)能為零,在x負(fù)方向加一電場(chǎng),克服電像力的阻礙,使電子容易脫離金屬表面,則合成勢(shì)壘下降為:用鏡像法,可求得在金屬表面數(shù)個(gè)原子層外,載流子的增殖過(guò)程第49頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月50亦為E0時(shí)熱電子發(fā)射的必要條件。求極值:因此,外電場(chǎng)使熱電子所需克服的勢(shì)壘降低:s——肖特基系數(shù)若總勢(shì)壘則肖特基效應(yīng)的必要條件:載流子的增殖過(guò)程第50頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月51可得出場(chǎng)助電子發(fā)射電流密度:其中:取對(duì)數(shù)載流子的增殖過(guò)程第51頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月52

場(chǎng)致發(fā)射電流是在強(qiáng)電場(chǎng)下,由量子隧道效應(yīng)形成的電流,與溫度關(guān)系不大。不同于熱電子在較高溫下出現(xiàn),故稱(chēng)冷發(fā)射電流。(2)場(chǎng)致發(fā)射實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),電子增殖明顯。約為108V/m載流子的增殖過(guò)程第52頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月53電極效應(yīng):(1)陰極—介質(zhì)導(dǎo)帶(2)介質(zhì)價(jià)帶—陽(yáng)極體效應(yīng):(3)介質(zhì)價(jià)帶—介質(zhì)導(dǎo)帶(4)雜質(zhì)能級(jí)—介質(zhì)導(dǎo)帶強(qiáng)場(chǎng)下隧道效應(yīng)從電極進(jìn)入介質(zhì)的可能過(guò)程:載流子的增殖過(guò)程第53頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月54

為與電極——介質(zhì)功函數(shù)有關(guān)的常數(shù),與溫度關(guān)系不大。在過(guò)程(1)中,透射系數(shù):介質(zhì)中加電場(chǎng)E

,從電極進(jìn)入介質(zhì)導(dǎo)帶的隧道電流密度與場(chǎng)強(qiáng)的關(guān)系(符勒——朗得亥姆公式):載流子的增殖過(guò)程第54頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月55ZnO邊界層強(qiáng)場(chǎng)效應(yīng)器件在強(qiáng)電場(chǎng)下的電流密度與電場(chǎng)強(qiáng)度的關(guān)系曲線載流子的增殖過(guò)程第55頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月56

氣體介質(zhì)中的正離子在電場(chǎng)中加速,沖擊金屬表面,發(fā)射出帶電與不帶電的粒子。不帶電粒子可為:正離子+電子原子帶電粒子為:二次電子或負(fù)離子

(3)表面電子發(fā)射載流子的增殖過(guò)程第56頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月572.2體效應(yīng)非晶態(tài)電介質(zhì)及雜質(zhì)缺陷的存在——破壞理想晶格長(zhǎng)程有序——禁帶內(nèi)產(chǎn)生陷阱能級(jí)影響載流子的產(chǎn)生與消失——影響介質(zhì)導(dǎo)電性介質(zhì)內(nèi)部受到庫(kù)侖電勢(shì)約束的電子,如帶正電的陷阱中心所俘獲的電子等——內(nèi)肖特基效應(yīng)電場(chǎng)使介質(zhì)陷阱中心的庫(kù)侖勢(shì)壘降低,使發(fā)射載流子數(shù)迅速增加,稱(chēng)為普爾——弗倫凱爾效應(yīng)載流子的增殖過(guò)程第57頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月58(1)普爾——弗倫凱爾效應(yīng)F普爾—弗倫凱爾系數(shù)在電場(chǎng)E存在時(shí),載流子的增殖過(guò)程第58頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月59

類(lèi)似于晶體介質(zhì)中電子電導(dǎo)的分析方法,忽略沿電場(chǎng)方向的熱電子發(fā)射電流,可得因電子間靜電力作用距離故第59頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月60由此:①普爾——弗倫凱爾效應(yīng)和肖特基效應(yīng)具有相似的JE規(guī)律,且b=b’,故很難區(qū)分。②電導(dǎo)為體限制時(shí),觀察到普爾—弗倫凱爾效應(yīng)。

電導(dǎo)為電極控制時(shí),觀察到肖特基效應(yīng)。載流子的增殖過(guò)程第60頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月61

W——分子的電離能,x為自由行程(2)電子碰撞電離效應(yīng)

自由電子獲得足夠能量后,與介質(zhì)中粒子發(fā)生碰撞,碰撞電離產(chǎn)生新電子。一般發(fā)生在氣體介質(zhì)中。滿足的條件:載流子的增殖過(guò)程第61頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月623.載流子的輸運(yùn)過(guò)程()

單晶介質(zhì)——常指金屬與半導(dǎo)體散射——電子從一個(gè)穩(wěn)態(tài)躍遷到另一個(gè)穩(wěn)態(tài)聲子——離子偏離格點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)組成晶體中的格波,格波的能量是量子化的,格波的量子稱(chēng)為聲子。

實(shí)驗(yàn)證明:在金屬與半導(dǎo)體單晶中,隨溫度下降而增大,表明晶格振動(dòng)對(duì)散射起主導(dǎo)作用。而

散射是影響載流子輸運(yùn)的主要因素。3.1單晶介質(zhì)的能帶導(dǎo)電模型——擴(kuò)展態(tài)遷移率載流子的輸運(yùn)過(guò)程第62頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月63①晶體中共有化運(yùn)動(dòng)的電子在離子產(chǎn)生的周期性勢(shì)場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)。②離子偏離平衡位置使周期勢(shì)場(chǎng)破壞,附加的偏離周期性勢(shì)場(chǎng)可看為微擾,使電子躍遷,產(chǎn)生散射。載流子的輸運(yùn)過(guò)程第63頁(yè),課件共70頁(yè),創(chuàng)作于2023年2月64

特點(diǎn):1)平均自由程比原子間距離大得多,電子能量高。在半導(dǎo)體中

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