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文檔簡介

RENA設(shè)備與工藝培訓(xùn)2019-1-9RENA清洗制絨原理方程HNO+Si=Sio,+NOT+H2OSio2+4HF=SiF4+2H,OSiF4+2HF=H2ISiFISi+2KoH+H,O-K,siO3+2H2NO2+H-O=HNO3+HNO2Si+HNO2=Sio2NO+H2OHNO3+NO+H,O=HNO2RENA刻蝕原理方程:3s+4HNO3+18HF3H2S|F6]+4NO2+8H2OSO2+HF—H2[SF6]+H2oRENA設(shè)備:內(nèi)部和表面絨面RENA運行時的內(nèi)部狀況圖多晶硅片經(jīng)過制絨后的絨面形貌注:需要指明的是RENA清洗制絨過程中片子是全部淹沒在溶液內(nèi)的。而在RENA刻蝕過程中片子是漂浮在溶液上的。RENA設(shè)備:外觀公司一般會根據(jù)需要在RENA在下料臺也會安裝吸片裝置,用以挑糙擬擦截下料臺用來代替人工手工放片RENA設(shè)備:各部分構(gòu)件介紹chillierOKeepprocesstemperaturestableETchbath口Rinse1abath口Acidicbath

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