磁粉檢測(cè) 課件全套

磁粉檢測(cè)1范圍

JB/T4730的本部分規(guī)定了射線檢測(cè)、超聲檢測(cè)、磁粉檢測(cè)、滲透檢測(cè)和渦流檢測(cè)等五種無損檢測(cè)方法的一般要求和使用原則。本部分適用于在制和在用金屬材料制承壓設(shè)備的無損檢測(cè)。2規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款，通過JB/T4730的本部分的引用而成為本部分的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用于本部分。然而，鼓勵(lì)根據(jù)本部分達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本部分。GB/T12604.1無損檢測(cè)術(shù)語超聲檢測(cè)GB/T12604.2無損檢測(cè)術(shù)語射線檢測(cè)GB/T12604.3無損檢測(cè)術(shù)語滲透檢測(cè)GB/T12604.4無損檢測(cè)術(shù)語聲發(fā)射檢測(cè)GB/T12604.5無損檢測(cè)術(shù)語磁粉檢測(cè)GB/T12604.6無損檢測(cè)術(shù)語渦流檢測(cè)GB17925—1999氣瓶對(duì)接焊縫X射線實(shí)時(shí)成像檢測(cè)GB/T18182—2000金屬壓力容器聲發(fā)射檢測(cè)及結(jié)果評(píng)價(jià)方法GB/T19293—2003對(duì)接焊縫X射線實(shí)時(shí)成像檢測(cè)法JB/T4730.2—2005承壓設(shè)備無損檢測(cè)第2部分：射線檢測(cè)JB/T4730.3—2005承壓設(shè)備無損檢測(cè)第3部分：超聲檢測(cè)JB/T4730.4—2005承壓設(shè)備無損檢測(cè)第4部分：磁粉檢測(cè)JB/T4730.5—2005承壓設(shè)備無損檢測(cè)第5部分：滲透檢測(cè)JB/T4730.6—2005承壓設(shè)備無損檢測(cè)第6部分：渦流檢測(cè)國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局國質(zhì)鍋檢字【2003】248號(hào)文特種設(shè)備無損檢測(cè)人員考核與監(jiān)督管理規(guī)則3術(shù)語和定義GB/T12604.1~12604.6規(guī)定的、以及下列術(shù)語和定義適用于JB/T4730的本部分。3.1相關(guān)顯示relevantindication磁粉檢測(cè)時(shí)由缺陷（裂紋、未熔合、氣孔、夾渣等）產(chǎn)生的漏磁場吸附磁粉形成的磁痕顯示，或滲透檢測(cè)時(shí)由缺陷產(chǎn)生的滲透劑顯示，通常稱之為相關(guān)顯示。一般也叫做缺陷顯示。3.25非相關(guān)顯示non-relevantindication由磁路截面突變以及材料磁導(dǎo)率差異等原因產(chǎn)生的漏磁場吸附磁粉形成的磁痕顯示，或是由于加工工藝、零件結(jié)構(gòu)、外形或機(jī)械損傷等所引起的滲透劑顯示，通稱為非相關(guān)顯示。3.26偽顯示falseindication不是由漏磁場吸附磁粉形成的磁痕顯示，也叫假顯示。3.27切線磁場強(qiáng)度tangentialmagneticfieldstrength平行于被檢工件表面的磁場強(qiáng)度分量。3.28交叉磁軛crossedyoke在同一平面（或曲面）上，由具有一定相位差（不等于0o或180o）而且相互交叉成一定角度（不等于0°或180°）的兩相正弦交變磁場相互疊加而在該平面（或曲面）上產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)磁場的磁粉探傷設(shè)備。3.29環(huán)境可見光environmentvisiblelight

在暗區(qū)，黑光照射下從工件表面測(cè)得的可見光照度。使用原則4.1概述4.1.1應(yīng)根據(jù)受檢承壓設(shè)備的材質(zhì)、結(jié)構(gòu)、制造方法、工作介質(zhì)、使用條件和失效模式，預(yù)計(jì)可能產(chǎn)生的缺陷種類、形狀、部位和方向，選擇適宜的無損檢測(cè)方法。4.1.2射線和超聲檢測(cè)主要用于承壓設(shè)備的內(nèi)部缺陷的檢測(cè)；磁粉檢測(cè)主要用于鐵磁性材料制承壓設(shè)備的表面和近表面缺陷的檢測(cè)；滲透檢測(cè)主要用于金屬材料和非金屬材料制承壓設(shè)備的表面開口缺陷的檢測(cè)；渦流檢測(cè)主要用于導(dǎo)電金屬材料制承壓設(shè)備表面和近表面缺陷的檢測(cè)。4.1.3鐵磁性材料表面檢測(cè)時(shí)，宜采用磁粉檢測(cè)。4.1.4當(dāng)采用兩種或兩種以上的檢測(cè)方法對(duì)承壓設(shè)備的同一部位進(jìn)行檢測(cè)時(shí)，應(yīng)按各自的方法評(píng)定級(jí)別。4.1.5采用同種檢測(cè)方法按不同檢測(cè)工藝進(jìn)行檢測(cè)時(shí)，如果檢測(cè)結(jié)果不一致，應(yīng)以危險(xiǎn)度大的評(píng)定級(jí)別為準(zhǔn)。4.4磁粉檢測(cè)

4.4.1磁粉檢測(cè)通常能確定表面和近表面缺陷的位置、大小和形狀。4.4.2磁粉檢測(cè)適用于鐵磁性材料制板材、復(fù)合板材、管材以及鍛件等表面和近表面缺陷的檢測(cè)；也適用于鐵磁性材料對(duì)接焊接接頭、T型焊接接頭以及角焊縫等表面和近表面缺陷的檢測(cè)。磁粉檢測(cè)不適用非鐵磁性材料的檢測(cè)。4.4.3磁粉檢測(cè)的具體技術(shù)要求應(yīng)符合JB/T4730.4的規(guī)定。4.5滲透檢測(cè)

4.5.1滲透檢測(cè)通常能確定表面開口缺陷的位置、尺寸和形狀。4.5.2滲透檢測(cè)適用于金屬材料和非金屬材料板材、復(fù)合板材、鍛件、管材和焊接接頭表面開口缺陷的檢測(cè)。滲透檢測(cè)不適用多孔性材料的檢測(cè)。4.5.3滲透檢測(cè)的具體技術(shù)要求應(yīng)符合JB/T4730.5的規(guī)定。5一般要求

5.1無損檢測(cè)機(jī)構(gòu)5.1.1進(jìn)行承壓設(shè)備無損檢測(cè)的機(jī)構(gòu)應(yīng)按JB/T4730的本部分的規(guī)定制定出符合要求的無損檢測(cè)工藝規(guī)程。檢測(cè)記錄和報(bào)告應(yīng)準(zhǔn)確、完整，并經(jīng)相應(yīng)責(zé)任人員簽字認(rèn)可。5.1.3檢測(cè)記錄和報(bào)告等保存期不得少于7年。7年后，若用戶需要可轉(zhuǎn)交用戶保管。5.1.4檢測(cè)用儀器和設(shè)備的性能應(yīng)進(jìn)行定期檢定（校準(zhǔn)），并有記錄可查。5.2無損檢測(cè)工藝規(guī)程

5.2.1無損檢測(cè)工藝規(guī)程包括通用工藝規(guī)程和工藝卡。5.2.2無損檢測(cè)通用工藝規(guī)程：5.2.2.1無損檢測(cè)通用工藝規(guī)程應(yīng)根據(jù)相關(guān)法規(guī)、產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)、有關(guān)的技術(shù)文件和JB/T4730的本部分的要求，并針對(duì)檢測(cè)機(jī)構(gòu)的特點(diǎn)和檢測(cè)能力進(jìn)行編制。無損檢測(cè)通用工藝規(guī)程應(yīng)涵蓋本單位（制造、安裝或檢測(cè)單位）產(chǎn)品的檢測(cè)范圍。5.2.2.2無損檢測(cè)通用工藝規(guī)程至少應(yīng)包括以下內(nèi)容：

a）適用范圍；b）引用標(biāo)準(zhǔn)、法規(guī)；c）檢測(cè)人員資格；d）檢測(cè)設(shè)備、器材和材料；e）檢測(cè)表面制備；f）檢測(cè)時(shí)機(jī)；g）檢測(cè)工藝和檢測(cè)技術(shù)；h）檢測(cè)結(jié)果的評(píng)定和質(zhì)量等級(jí)分類；i）檢測(cè)記錄、報(bào)告和資料存檔；j）編制（級(jí)別）、審核（級(jí)別）和批準(zhǔn)人；k）制定日期。5.2.2.3無損檢測(cè)通用工藝規(guī)程的編制、審核及批準(zhǔn)應(yīng)符合相關(guān)法規(guī)或標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定。5.2.3無損檢測(cè)工藝卡：5.2.3.1實(shí)施無損檢測(cè)的人員應(yīng)按無損檢測(cè)工藝卡進(jìn)行操作。5.2.3.2無損檢測(cè)工藝卡應(yīng)根據(jù)無損檢測(cè)通用工藝規(guī)程、產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)、有關(guān)的技術(shù)文件和JB/T4730的本部分的要求編制，一般應(yīng)包括以下內(nèi)容：a）工藝卡編號(hào)；b）產(chǎn)品名稱，產(chǎn)品編號(hào)，制造、安裝或檢驗(yàn)編號(hào)，承壓設(shè)備的類別、規(guī)格尺寸、材料牌號(hào)、材質(zhì)、熱處理狀態(tài)及表面狀態(tài)；c）檢測(cè)設(shè)備與器材：設(shè)備種類、型號(hào)、規(guī)格尺寸、檢測(cè)附件和檢測(cè)材料；d）檢測(cè)工藝參數(shù)：檢測(cè)方法、檢測(cè)比例、檢測(cè)部位、標(biāo)準(zhǔn)試塊或標(biāo)準(zhǔn)試樣（片）；e）檢測(cè)技術(shù)要求：執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)和驗(yàn)收級(jí)別；f）檢測(cè)程序；g）檢測(cè)部位示意圖；h）編制（級(jí)別）和審核（級(jí)別）人；i）制定日期。5.2.3.3無損檢測(cè)工藝卡的編制、審核應(yīng)符合相關(guān)法規(guī)或標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定。5.3無損檢測(cè)人員5.3.1從事承壓設(shè)備的原材料、零部件和焊接接頭無損檢測(cè)的人員，應(yīng)按照《特種設(shè)備無損檢測(cè)人員考核與監(jiān)督管理規(guī)則》的要求取得相應(yīng)無損檢測(cè)資格。5.3.2無損檢測(cè)人員資格級(jí)別分為Ⅲ（高）級(jí)、Ⅱ（中）級(jí)和Ⅰ（初）級(jí)。取得不同無損檢測(cè)方法各資格級(jí)別的人員，只能從事與該方法和該資格級(jí)別相應(yīng)的無損檢測(cè)工作，并負(fù)相應(yīng)的技術(shù)責(zé)任。5.4未列入本標(biāo)準(zhǔn)的無損檢測(cè)方法的應(yīng)用JB/T4730的本部分不排斥其他無損檢測(cè)方法的應(yīng)用。當(dāng)采用未列入JB/T4730規(guī)定的無損檢測(cè)方法時(shí)，使用該技術(shù)進(jìn)行檢測(cè)的單位應(yīng)向全國鍋爐壓力容器標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提交有關(guān)技術(shù)資料，經(jīng)評(píng)審形成標(biāo)準(zhǔn)案例。承壓設(shè)備無損檢測(cè)

第4部分：磁粉檢測(cè)

1范圍JB/T4730的本部分規(guī)定了承壓設(shè)備磁粉檢測(cè)方法及質(zhì)量分級(jí)要求。本部分適用于鐵磁性材料制承壓設(shè)備的原材料、零部件和焊接接頭表面、近表面缺陷的檢測(cè)，不適用于奧氏體不銹鋼和其它非鐵磁性材料的檢測(cè)。與承壓設(shè)備有關(guān)的支承件和結(jié)構(gòu)件，如有要求也可參照本部分進(jìn)行磁粉檢測(cè)。2規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過JB/T4730的本部分的引用而成為本部分的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用于本部分，然而，鼓勵(lì)根據(jù)本部分達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本部分。GB11533—1989標(biāo)準(zhǔn)對(duì)數(shù)視力表GB/T16673—1996無損檢測(cè)用黑光源（UV-A）輻射的測(cè)量JB/T4730.1承壓設(shè)備無損檢測(cè)第1部分：通用要求JB/T6063—1992磁粉探傷用磁粉技術(shù)條件JB/T6065—2004無損檢測(cè)磁粉檢測(cè)用試片JB/T6066—2004無損檢測(cè)磁粉檢測(cè)用環(huán)形試塊JB/T8290—1998磁粉探傷機(jī)3一般要求磁粉檢測(cè)的一般要求除應(yīng)符合JB/T4730.1的有關(guān)規(guī)定外，還應(yīng)符合下列規(guī)定。3.1磁粉檢測(cè)人員磁粉檢測(cè)人員的未經(jīng)矯正或經(jīng)矯正的近（距）視力和遠(yuǎn)（距）視力應(yīng)不低于5.0（小數(shù)記錄值為1.0）,測(cè)試方法應(yīng)符合GB11533的規(guī)定。并1年檢查1次，不得有色盲。3.2磁粉檢測(cè)程序

磁粉檢測(cè)程序如下：預(yù)處理；磁化；施加磁粉或磁懸液；磁痕的觀察與記錄；缺陷評(píng)級(jí)；退磁；后處理。3.3磁粉檢測(cè)設(shè)備

3.3.1設(shè)備磁粉檢測(cè)設(shè)備應(yīng)符合JB/T8290的規(guī)定。3.3.2提升力當(dāng)使用磁軛最大間距時(shí)，交流電磁軛至少應(yīng)有45N的提升力；直流電磁軛至少應(yīng)有177N的提升力；交叉磁軛至少應(yīng)有118N的提升力(磁極與試件表面間隙為0.5mm)。3.3.3斷電相位控制器采用剩磁法檢測(cè)時(shí)，交流探傷機(jī)應(yīng)配備斷電相位控制器。3.3.4黑光輻照度及波長當(dāng)采用熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，使用的黑光燈在工件表面的黑光輻照度應(yīng)大于或等于1000μW/cm2，黑光的波長應(yīng)為320nm～400nm，中心波長約為365nm。黑光源應(yīng)符合GB/T16673的規(guī)定。3.3.5退磁裝置退磁裝置應(yīng)能保證工件退磁后表面剩磁小于或等于0.3mT（240A/m）。3.3.6輔助器材

一般應(yīng)包括下列器材：a）磁場強(qiáng)度計(jì)；b）A1型、C型、D型和M1型試片、標(biāo)準(zhǔn)試塊和磁場指示器；c）磁懸液濃度沉淀管；d）2倍～10倍放大鏡；e）白光照度計(jì)；f）黑光燈；g）黑光輻照計(jì)；毫特斯拉計(jì)。3.4磁粉、載體及磁懸液

3.4.1磁粉磁粉應(yīng)具有高磁導(dǎo)率、低矯頑力和低剩磁，并應(yīng)與被檢工件表面顏色有較高的對(duì)比度。磁粉粒度和性能的其他要求應(yīng)符合JB/T6063的規(guī)定。3.4.2載體濕法應(yīng)采用水或低粘度油基載體作為分散媒介。若以水為載體時(shí)，應(yīng)加入適當(dāng)?shù)姆冷P劑和表面活性劑，必要時(shí)添加消泡劑。油基載體的運(yùn)動(dòng)粘度在38℃時(shí)小于或等于3.0mm2/s，使用溫度下小于或等于5.0mm2/s，閃點(diǎn)不低于94℃，且無熒光和無異味。3.4.3磁懸液磁懸液濃度應(yīng)根據(jù)磁粉種類、粒度、施加方法和被檢工件表面狀態(tài)等因素來確定。一般情況下，磁懸液濃度范圍應(yīng)符合表1的規(guī)定。測(cè)定前應(yīng)對(duì)磁懸液進(jìn)行充分的攪拌。磁懸液濃度3.5標(biāo)準(zhǔn)試件3.5.1標(biāo)準(zhǔn)試片3.5.1.1標(biāo)準(zhǔn)試片主要用于檢驗(yàn)磁粉檢測(cè)設(shè)備、磁粉和磁懸液的綜合性能，了解被檢工件表面有效磁場強(qiáng)度和方向、有效檢測(cè)區(qū)以及磁化方法是否正確。標(biāo)準(zhǔn)試片有A1型、C型、D型和M1型。其規(guī)格、尺寸和圖形見表2。A1型、C型和D型標(biāo)準(zhǔn)試片應(yīng)符合JB/T6065的規(guī)定。3.5.1.2磁粉檢測(cè)時(shí)一般應(yīng)選用A1-30/100型標(biāo)準(zhǔn)試片。當(dāng)檢測(cè)焊縫坡口等狹小部位，由于尺寸關(guān)系，A1型標(biāo)準(zhǔn)試片使用不便時(shí)，一般可選用C-15/50型標(biāo)準(zhǔn)試片。為了更準(zhǔn)確地推斷出被檢工件表面的磁化狀態(tài)，當(dāng)用戶需要或技術(shù)文件有規(guī)定時(shí)，可選用D型或M1型標(biāo)準(zhǔn)試片。表2標(biāo)準(zhǔn)試片的類型、規(guī)格和圖形3.5.1.3標(biāo)準(zhǔn)試片使用方法

a）標(biāo)準(zhǔn)試片適用于連續(xù)磁化法，使用時(shí)，應(yīng)將試片無人工缺陷的面朝外。為使試片與被檢面接觸良好，可用透明膠帶將其平整粘貼在被檢面上，并注意膠帶不能覆蓋試片上的人工缺陷。

b）標(biāo)準(zhǔn)試片表面有銹蝕、褶折或磁特性發(fā)生改變時(shí)不得繼續(xù)使用。3.5.2磁場指示器磁場指示器是一種用于表示被檢工件表面磁場方向、有效檢測(cè)區(qū)以及磁化方法是否正確的一種粗略的校驗(yàn)工具,但不能作為磁場強(qiáng)度及其分布的定量指示。其幾何尺寸見圖1。3.5.3中心導(dǎo)體磁化方法標(biāo)準(zhǔn)試塊中心導(dǎo)體磁化方法標(biāo)準(zhǔn)試塊應(yīng)符合JB/T6066的規(guī)定。3.6磁化電流類型及其選用

3.6.1電流類型磁粉檢測(cè)常用的電流類型有：交流、整流電流(全波整流、半波整流)和直流。3.6.2電流值磁化規(guī)范要求的交流磁化電流值為有效值，整流電流值為平均值。磁粉檢測(cè)用的磁化電流的波形、電流表指示及換算關(guān)系參見附錄A（資料性附錄）。3.7磁化方向

磁化方向包括縱向磁化、周向磁化和復(fù)合磁化。3.7.1縱向磁化檢測(cè)與工件軸線方向垂直或夾角大于或等于45°的缺陷時(shí)，應(yīng)使用縱向磁化方法?？v向磁化可用下列方法獲得：a）線圈法（見圖2）；

b）磁軛法（見圖3）。圖2線圈法圖3磁軛法3.7.2周向磁化檢測(cè)與工件軸線方向平行或夾角小于45°的缺陷時(shí)，應(yīng)使用周向磁化方法。周向磁化可用下列方法獲得：a）軸向通電法（見圖4）；b）觸頭法（見圖5）；c）中心導(dǎo)體法（見圖6）；圖4軸向通電法圖5觸頭法圖5觸頭法

圖6中心導(dǎo)體法

圖7交叉磁軛法

3.7.3復(fù)合磁化復(fù)合磁化法包括交叉磁軛法（見圖7）和交叉線圈法等多種方法。3.7.4焊接接頭的典型磁化方法磁軛法、觸頭法、繞電纜法和交叉磁軛法的典型磁化方法參見附錄B（資料性附錄）。3.8磁化規(guī)范

3.8.1磁場強(qiáng)度磁場強(qiáng)度可以用以下幾種方法確定：

a）用磁化電流表征的磁場強(qiáng)度按3.8.6.1~3.8.6.3所給出的公式計(jì)算；b）利用材料的磁特性曲線，確定合適的磁場強(qiáng)度；c）用磁場強(qiáng)度計(jì)測(cè)量施加在工件表面的切線磁場強(qiáng)度。連續(xù)法檢測(cè)時(shí)應(yīng)達(dá)到2.4kA/m～4.8kA/m，剩磁法檢測(cè)時(shí)應(yīng)達(dá)到14.4kA/m。d）用標(biāo)準(zhǔn)試片（塊）來確定磁場強(qiáng)度是否合適。3.8.2軸向通電法和中心導(dǎo)體法磁化規(guī)范按表3中公式計(jì)算。表3軸向通電法和中心導(dǎo)體法磁化規(guī)范中心導(dǎo)體法可用于檢測(cè)工件內(nèi)、外表面與電流平行的縱向缺陷和端面的徑向缺陷。外表面檢測(cè)時(shí)應(yīng)盡量使用直流電或整流電。3.8.3偏置芯棒法當(dāng)使用中心導(dǎo)體法時(shí)，如電流不能滿足檢測(cè)要求時(shí)應(yīng)采用偏置芯棒法進(jìn)行檢測(cè)，芯棒應(yīng)靠近內(nèi)壁放置，導(dǎo)體與內(nèi)壁接觸時(shí)應(yīng)采取絕緣措施。每次有效檢測(cè)區(qū)長度約為4倍芯棒直徑（見圖8）,且應(yīng)有一定的重疊區(qū)，重疊區(qū)長度應(yīng)不小于有效檢測(cè)區(qū)的10%（0.4d）。磁化電流仍按表3中公式計(jì)算，式中D的數(shù)值取芯棒直徑加兩倍工件壁厚H—磁場；F—缺陷圖8偏置芯棒法檢測(cè)有效區(qū)3.8.4觸頭法3.8.4.1當(dāng)采用觸頭法局部磁化大工件時(shí)，磁化規(guī)范見表4。3.8.4.2采用觸頭法時(shí)，電極間距應(yīng)控制在75mm～200mm之間。磁場的有效寬度為觸頭中心線兩側(cè)1/4極距，通電時(shí)間不應(yīng)太長，電極與工件之間應(yīng)保持良好的接觸，以免燒傷工件。兩次磁化區(qū)域間應(yīng)有不小于10%的磁化重疊區(qū)。檢測(cè)時(shí)磁化電流應(yīng)根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)試片實(shí)測(cè)結(jié)果來校正。3.8.5磁軛法3.8.5.1磁軛的磁極間距應(yīng)控制在75mm～200mm之間，檢測(cè)的有效區(qū)域?yàn)閮蓸O連線兩側(cè)各50mm的范圍內(nèi)，磁化區(qū)域每次應(yīng)有不少于15mm的重疊。3.8.5.2采用磁軛法磁化工件時(shí)，其磁化電流應(yīng)根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)試片實(shí)測(cè)結(jié)果來選擇；如果采用固定式磁軛磁化工件時(shí)，應(yīng)根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)試片實(shí)測(cè)結(jié)果來校驗(yàn)靈敏度是否滿足要求。3.8.6線圈法線圈法產(chǎn)生的磁場平行于線圈的軸線。線圈法的有效磁化區(qū)是從線圈端部向外延伸到150mm的范圍內(nèi)。超過150mm以外區(qū)域，磁化強(qiáng)度應(yīng)采用標(biāo)準(zhǔn)試片確定。3.8.6.1低充填因數(shù)線圈法。當(dāng)線圈的橫截面積大于或等于被檢工件橫截面積的10倍時(shí)，使用下述公式：偏心放置時(shí)，線圈的磁化電流按式（1）計(jì)算（誤差為10%）：

…（1）正中放置時(shí)，線圈的磁化電流按式（2）計(jì)算（誤差為10%）：

……（2）以上各式中：I——施加在線圈上的磁化電流，A；

N——線圈匝數(shù)；

L——工件長度，mm；D——工件直徑或橫截面上最大尺寸，mm；R——線圈半徑，mm。3.8.6.2高充填因數(shù)線圈法。用固定線圈或電纜纏繞進(jìn)行檢測(cè)，若此時(shí)線圈的截面積小于或等于2倍工件截面積（包括中空部分），磁化時(shí)，可按式（3）計(jì)算磁化電流（誤差10%）：

………………（3）式中各符號(hào)意義同式（1）。3.8.6.3中充填因數(shù)線圈法。當(dāng)線圈大于2倍而小于10倍被檢工件截面積時(shí)，

…（4）式中：（NI）h——式（3）高充填因數(shù)線圈計(jì)算的NI值。（NI）l——式（1）或式（2）低充填因數(shù)線圈計(jì)算的NI值。Y——線圈的橫截面積與工件橫截面積之比。3.8.6.4上述公式不適用于長徑比（L/D）小于2的工件。對(duì)于長徑比（L/D）小于2的工件，若要使用線圈法時(shí)，可利用磁極加長塊來提高長徑比的有效值或采用標(biāo)準(zhǔn)試片實(shí)測(cè)來決定電流值。對(duì)于長徑比（L/D）大于等于15的工件，公式中（L/D）取15。3.8.6.5當(dāng)被檢工件太長時(shí)，應(yīng)進(jìn)行分段磁化，且應(yīng)有一定的重疊區(qū)。重疊區(qū)應(yīng)不小于分段檢測(cè)長度的10%。檢測(cè)時(shí)，磁化電流應(yīng)根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)試片實(shí)測(cè)結(jié)果來確定。3.8.6.6計(jì)算空心工件時(shí)，此時(shí)工件直徑D應(yīng)由有效直徑Deff代替。對(duì)于圓筒形工件：

Deff=[（Do）2-（Di）2]1/2……（5）式中：Do——圓筒外直徑，mm；Di——圓筒內(nèi)直徑，mm。對(duì)于非圓筒形工件：Deff=………（6）式中：At——零件總的橫截面積，mm2；Ah——零件中空部分的橫截面積，mm2。3.9質(zhì)量控制

磁粉檢測(cè)用設(shè)備、儀表及材料應(yīng)定期校驗(yàn)。3.9.1綜合性能試驗(yàn)每天檢測(cè)工作開始前，用標(biāo)準(zhǔn)試片、標(biāo)準(zhǔn)試塊檢驗(yàn)磁粉檢測(cè)設(shè)備及磁粉和磁懸液的綜合性能（系統(tǒng)靈敏度）。3.9.2磁懸液濃度測(cè)定對(duì)于新配制的磁懸液，其濃度應(yīng)符合3.5的要求。對(duì)循環(huán)使用的磁懸液，每天開始工作前，應(yīng)進(jìn)行磁懸液濃度測(cè)定。3.9.3磁懸液污染判定對(duì)循環(huán)使用的磁懸液，應(yīng)每周測(cè)定一次磁懸液污染。測(cè)定方法是將磁懸液攪拌均勻，取100mL注入梨形沉淀管中，靜置60min檢查梨形沉淀管中的沉淀物。當(dāng)上層（污染物）體積超過下層（磁粉）體積的30%時(shí)，或在黑光下檢查熒光磁懸液的載體發(fā)出明顯的熒光時(shí)，即可判定磁懸液污染。3.9.4磁懸液潤濕性能檢驗(yàn)檢測(cè)前，應(yīng)進(jìn)行磁懸液潤濕性能檢驗(yàn)。將磁懸液施加在被檢工件表面上，如果磁懸液的液膜是均勻連續(xù)的，則磁懸液的潤濕性能合格；如果液膜被斷開，則磁懸液中潤濕性能不合格。3.9.5電流表精度校驗(yàn)磁粉檢測(cè)設(shè)備的電流表，至少半年校驗(yàn)一次。當(dāng)設(shè)備進(jìn)行重要電氣修理或大修后，應(yīng)進(jìn)行校驗(yàn)。3.9.6電磁軛提升力校驗(yàn)電磁軛的提升力至少半年校驗(yàn)一次。在磁軛損傷修復(fù)后應(yīng)重新校驗(yàn)。3.9.7輔助儀表校驗(yàn)磁粉檢測(cè)用的輔助儀表，如黑光輻照計(jì)、照度計(jì)、磁場強(qiáng)度計(jì)、毫特斯拉計(jì)等，至少每年校驗(yàn)一次。3.9.8其他設(shè)備內(nèi)部短路檢查、電流載荷校驗(yàn)、通電時(shí)間校驗(yàn)等原則上每年進(jìn)行一次測(cè)定。3.10安全防護(hù)

3.10.1軸向通電法和觸頭法檢驗(yàn)不應(yīng)在易燃易爆的場合使用；使用在其他地方，也應(yīng)該預(yù)防起火燃燒。3.10.2使用水磁懸液檢測(cè)承壓設(shè)備時(shí)，應(yīng)防止絕緣不良或電器短路。3.10.3使用熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，應(yīng)避免黑光燈直接照射人的眼睛。3.10.4使用干法檢驗(yàn)時(shí)，要求通風(fēng)良好，并應(yīng)注意防塵。3.11被檢工件表面的準(zhǔn)備

3.11.1工件表面被檢工件表面不得有油脂、鐵銹、氧化皮或其它粘附磁粉的物質(zhì)。表面的不規(guī)則狀態(tài)不得影響檢測(cè)結(jié)果的正確性和完整性，否則應(yīng)做適當(dāng)?shù)男蘩?。如打磨，則打磨后被檢工件的表面粗糙度Ra≤25μm。如果被檢工件表面殘留有涂層，當(dāng)涂層厚度均勻不超過0.05mm，且不影響檢測(cè)結(jié)果時(shí)，經(jīng)合同各方同意，可以帶涂層進(jìn)行磁粉檢測(cè)。3.11.2安裝接觸墊采用軸向通電法和觸頭法磁化時(shí)，為了防止電弧燒傷工件表面和提高導(dǎo)電性能，應(yīng)將工件和電極接觸部分清除干凈，必要時(shí)應(yīng)在電極上安裝接觸墊。3.11.3封堵若工件有盲孔和內(nèi)腔，宜加以封堵。3.11.4反差增強(qiáng)劑為增強(qiáng)對(duì)比度，可以使用反差增強(qiáng)劑。3.12檢測(cè)時(shí)機(jī)焊接接頭的磁粉檢測(cè)應(yīng)安排在焊接工序完成之后進(jìn)行。對(duì)于有延遲裂紋傾向的材料，磁粉檢測(cè)應(yīng)根據(jù)要求至少在焊接完成24h后進(jìn)行。除另有要求，對(duì)于緊固件和鍛件的磁粉檢測(cè)應(yīng)安排在最終熱處理之后進(jìn)行。檢測(cè)方法4.1檢測(cè)方法分類根據(jù)不同的分類條件，磁粉檢測(cè)方法的分類如表5所示。4.2干法4.2.1干法通常用于交流和半波整流的磁化電流或磁軛進(jìn)行連續(xù)法檢測(cè)的情況，采用干法時(shí)，應(yīng)確認(rèn)檢測(cè)面和磁粉已完全干燥，然后再施加磁粉。4.2.2磁粉的施加可采用手動(dòng)或電動(dòng)噴粉器以及其他合適的工具來進(jìn)行。磁粉應(yīng)均勻地撒在工件被檢面上。磁粉不應(yīng)施加過多，以免掩蓋缺陷磁痕。在吹去多余磁粉時(shí)不應(yīng)干擾缺陷磁痕。4.3濕法4.3.1濕法主要用于連續(xù)法和剩磁法檢測(cè)。采用濕法時(shí)，應(yīng)確認(rèn)整個(gè)檢測(cè)面被磁懸液濕潤后，再施加磁懸液。4.3.2磁懸液的施加可采用噴、澆、浸等方法，不宜采用刷涂法。無論采用哪種方法，均不應(yīng)使檢測(cè)面上磁懸液的流速過快。4.4連續(xù)法采用連續(xù)法時(shí)，被檢工件的磁化、施加磁粉的工藝以及觀察磁痕顯示都應(yīng)在磁化通電時(shí)間內(nèi)完成，通電時(shí)間為1s～3s，停施磁懸液至少1s后方可停止磁化。為保證磁化效果應(yīng)至少反復(fù)磁化兩次。4.5剩磁法4.5.1剩磁法主要用于矯頑力在1kA/m以上，并能保持足夠的剩磁場（剩磁在0.8T以上）的被檢工件。4.5.2采用剩磁法時(shí)，磁粉應(yīng)在通電結(jié)束后再施加，一般通電時(shí)間為0.25s～ls。施加磁粉或磁懸液之前，任何強(qiáng)磁性物體不得接觸被檢工件表面。4.5.3采用交流磁化法時(shí)，應(yīng)配備斷電相位控制器以確保工件的磁化效果。4.6交叉磁軛法使用交叉磁軛裝置時(shí)，四個(gè)磁極端面與檢測(cè)面之間應(yīng)盡量貼合，最大間隙不應(yīng)超過1.5mm。連續(xù)拖動(dòng)檢測(cè)時(shí)，檢測(cè)速度應(yīng)盡量均勻，一般不應(yīng)大于4m/min。磁痕顯示的分類和記錄

5.1磁痕的分類和處理5.1.1磁痕顯示分為相關(guān)顯示、非相關(guān)顯示和偽顯示。5.1.2長度與寬度之比大于3的缺陷磁痕，按條狀磁痕處理，長度與寬度之比不大于3的磁痕，按圓形磁痕處理。5.1.3長度小于0.5mm的磁痕不計(jì)。5.1.4兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一直線上且間距不大于2mm時(shí)，按一條磁痕處理，其長度為兩條磁痕之和加間距。5.1.5缺陷磁痕長軸方向與工件（軸類或管類）軸線或母線的夾角大于或等于30°時(shí)，按橫向缺陷處理，其他按縱向缺陷處理。5.2缺陷磁痕的觀察5.2.1缺陷磁痕的觀察應(yīng)在磁痕形成后立即進(jìn)行。5.2.2非熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，缺陷磁痕的評(píng)定應(yīng)在可見光下進(jìn)行，通常工件被檢表面可見光照度應(yīng)大于等于1000lx；當(dāng)現(xiàn)場采用便攜式設(shè)備檢測(cè)，由于條件所限無法滿足時(shí)，可見光照度可以適當(dāng)降低，但不得低于500lx。熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，所用黑光燈在工件表面的輻照度大于或等于1000μW/cm2，黑光波長應(yīng)在320nm～400nm的范圍內(nèi)，缺陷磁痕顯示的評(píng)定應(yīng)在暗室或暗處進(jìn)行，暗室或暗處可見光照度應(yīng)不大于20lx。檢測(cè)人員進(jìn)入暗區(qū)，至少經(jīng)過3min的暗室適應(yīng)后，才能進(jìn)行熒光磁粉檢測(cè)。觀察熒光磁粉檢測(cè)顯示時(shí)，檢測(cè)人員不準(zhǔn)戴對(duì)檢測(cè)有影響的眼鏡。5.2.3除能確認(rèn)磁痕是由于工件材料局部磁性不均或操作不當(dāng)造成的之外，其他磁痕顯示均應(yīng)作為缺陷處理。當(dāng)辨認(rèn)細(xì)小磁痕時(shí)，應(yīng)用2倍～10倍放大鏡進(jìn)行觀察。5.3缺陷磁痕顯示記錄

缺陷磁痕的顯示記錄可采用照相、錄相和可剝性塑料薄膜等方式記錄，同時(shí)應(yīng)用草圖標(biāo)示。6復(fù)驗(yàn)

當(dāng)出現(xiàn)下列情況之一時(shí)，需要復(fù)驗(yàn)：

a）檢測(cè)結(jié)束時(shí)，用標(biāo)準(zhǔn)試片或標(biāo)準(zhǔn)試塊驗(yàn)證檢測(cè)靈敏度不符合要求時(shí)；b）發(fā)現(xiàn)檢測(cè)過程中操作方法有誤或技術(shù)條件改變時(shí)；c)合同各方有爭議或認(rèn)為有必要時(shí)。退磁

7.1退磁一般要求規(guī)定檢測(cè)后加熱至700℃以上進(jìn)行熱處理的工件，一般可不進(jìn)行退磁。在下列情況下工件應(yīng)進(jìn)行退磁：a）當(dāng)檢測(cè)需要多次磁化時(shí)，如認(rèn)定上一次磁化將會(huì)給下一次磁化帶來不良影響；b)如認(rèn)為工件的剩磁會(huì)對(duì)以后的機(jī)械加工產(chǎn)生不良影響；c）如認(rèn)為工件的剩磁會(huì)對(duì)測(cè)試或計(jì)量裝置產(chǎn)生不良影響；d）如認(rèn)為工件的剩磁會(huì)對(duì)焊接產(chǎn)生不良影響；e）其他必要的場合。7.2退磁方法退磁可分為交流退磁法和直流退磁法兩種。7.2.1交流退磁法將需退磁的工件從通電的磁化線圈中緩慢抽出，直至工件離開線圈1m以上時(shí)，再切斷電流。或?qū)⒐ぜ湃胪姷拇呕€圈內(nèi)，將線圈