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文檔簡介
半導(dǎo)體工藝設(shè)備半導(dǎo)體工藝設(shè)備
表一、半導(dǎo)體工藝重要設(shè)備大全
清洗機超音波清洗機是當(dāng)代工廠工業(yè)零件表面清洗新技術(shù),當(dāng)前已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體硅片清洗。
超聲波清洗機“聲音也可以清洗污垢”——超聲波清洗機又名超聲波清洗器,以其干凈清洗效果給清洗界帶來了一股強勁清洗風(fēng)暴。超聲波清洗機(超聲波清洗器)運用空化效應(yīng),短時間內(nèi)將老式清洗方式難以洗到狹縫、空隙、盲孔徹底清洗干凈,超聲波清洗機對清洗器件養(yǎng)護(hù),提高壽命起到了重要作用。CSQ系列超聲波清洗機采用內(nèi)置式加熱系統(tǒng)、溫控系統(tǒng),有效提高了清洗效率;設(shè)立時間控制裝置,清洗以便;具備頻率自動跟蹤功能,清洗效果穩(wěn)定;各種機型、構(gòu)造設(shè)計,適應(yīng)不同清洗規(guī)定。CSQ系列超聲波清洗機合用于珠寶首飾、眼鏡、鐘表零部件、汽車零部件,醫(yī)療設(shè)備、精密偶件、化纖行業(yè)(噴絲板過濾芯)等清洗;對除油、除銹、除研磨膏、除焊渣、除蠟,涂裝前、電鍍前清洗有老式清洗方式難以達(dá)到效果。恒威公司生產(chǎn)CSQ系列超聲波清洗機具備如下特點:不銹鋼加強構(gòu)造,耐酸耐堿;特種膠工藝連接,運營安全;使用IGBT模塊,性能穩(wěn)定;專業(yè)電源設(shè)計,性價比高。
反滲入純水機去離子水生產(chǎn)設(shè)備之一,通過反滲入原理來實現(xiàn)凈水。
純水機清洗半導(dǎo)體硅片用去離子水生產(chǎn)設(shè)備,去離子水有毒,不可食用。
凈化設(shè)備
重要產(chǎn)品:水解決設(shè)備、灌裝設(shè)備、空氣凈化設(shè)備、凈化工程、反滲入、超濾、電滲析設(shè)備、EDI裝置、離子互換設(shè)備、機械過濾器、精密過濾器、UV紫外線殺菌器、臭氧發(fā)生器、裝配式干凈室、空氣吹淋室、傳遞窗、工作臺、高校送風(fēng)口、空氣自凈室、亞高、高效過濾器等及各種配件。
風(fēng)淋室:運用國外先進(jìn)技術(shù)和進(jìn)口電器控制系統(tǒng),組裝成一種使用新型自動吹淋室.它廣泛用于微電子醫(yī)院\制藥\生化制品\食品衛(wèi)生\精細(xì)化工\精密機械和航空航天等生產(chǎn)和科研單位,用于吹除進(jìn)入干凈室人體和攜帶物品表面附著塵埃,同步風(fēng)淋室也起氣作用,防止未凈化空氣進(jìn)入干凈區(qū)域,是進(jìn)行人體凈化和防止室外空氣污染干凈有效設(shè)備.
拋光機整個系統(tǒng)是由一種旋轉(zhuǎn)硅片夾持器、承載拋光墊工作臺和拋光漿料供應(yīng)裝置三大某些構(gòu)成。化學(xué)機械拋光時,旋轉(zhuǎn)工件以一定壓力壓在旋轉(zhuǎn)拋光墊上,而由亞微米或納米磨粒和化學(xué)溶液構(gòu)成拋光液在工件與拋光墊之間流動,并產(chǎn)生化學(xué)反映,工件表面形成化學(xué)反映物由磨粒機械作用去除,即在化學(xué)成膜和機械去膜交替過程中實現(xiàn)超精密表面加工,人們稱這種CMP為游離磨料CMP。
電解拋光電化學(xué)拋光是運用金屬電化學(xué)陽極溶解原理進(jìn)行修磨拋光。將電化學(xué)預(yù)拋光和機械精拋光有機結(jié)合在一起,發(fā)揮了電化學(xué)和機構(gòu)兩類拋光特長。它不受材料硬度和韌性限制,可拋光各種復(fù)雜形狀工件。其辦法與電解磨削類似。導(dǎo)電拋光工具使用金鋼石導(dǎo)電銼或石墨油石,接到電源陰極,被拋光工件(如模具)接到電源陽極。
光刻膠
又稱光致抗蝕劑,由感光樹脂、增感劑(見光譜增感染料)和溶劑三種重要成分構(gòu)成對光敏感混合液體。感光樹脂經(jīng)光照后,在曝光區(qū)能不久地發(fā)生光固化反映,使得這種材料物理性能,特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)恰當(dāng)溶劑解決,溶去可溶性部分,得到所需圖像(見圖光致抗蝕劑成像制版過程)。光刻膠廣泛用于印刷電路和集成電路制造以及印刷制版等過程。光刻膠技術(shù)復(fù)雜,品種較多。依照其化學(xué)反映機理和顯影原理,可分負(fù)性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)是負(fù)性膠;反之,對某些溶劑是不可溶,經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)即為正性膠。運用這種性能,將光刻膠作涂層,就能在硅片表面刻蝕所需電路圖形?;诟泄鈽渲瘜W(xué)構(gòu)造,光刻膠可以分為三種類型。①光聚合型,采用烯類單體,在光作用下生成自由基,自由基再進(jìn)一步引起單體聚合,最后生成聚合物,具備形成正像特點。②光分解型,采用具有疊氮醌類化合物材料,經(jīng)光照后,會發(fā)生光分解反映,由油溶性變?yōu)樗苄?,可以制成正性膠。③光交聯(lián)型,采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光作用下,其分子中雙鍵被打開,并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián),形成一種不溶性網(wǎng)狀構(gòu)造,而起到抗蝕作用,這是一種典型負(fù)性光刻膠??逻_(dá)公司產(chǎn)品KPR膠即屬此類。感光樹脂在用近紫外光輻照成像時,光波長會限制辨別率(見感光材料)提高。為進(jìn)一步提高辨別率以滿足超大規(guī)模集成電路工藝規(guī)定,必要采用波長更短輻射作為光源。由此產(chǎn)生電子束、X射線和深紫外(<250nm)刻蝕技術(shù)和相應(yīng)電子束刻蝕膠,X射線刻蝕膠和深紫外線刻蝕膠,所刻蝕線條可細(xì)至1□m如下。
光刻機光刻機用于將晶圓表面薄膜特定某些除去工藝設(shè)備,可以在晶圓表面會留下帶有微圖形構(gòu)造薄膜。
刻蝕機電子回旋共振等離子體刻蝕機涉及是一種集成電路制作工藝中微電子芯片加工設(shè)備。構(gòu)造具備真空室、微波系統(tǒng)、磁場、真空抽放氣系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)、監(jiān)控系統(tǒng),真空抽放氣系統(tǒng)由機械泵、擴散泵和相應(yīng)管道、閥門構(gòu)成,其特性是真空室由等離子體發(fā)生室,等離子體約束室,解決室構(gòu)成,等離子體發(fā)生室外套有兩組串接磁場線圈,在等離子體約束室周邊均布永久磁鋼,解決室內(nèi)裝有基片架。
去膠機用于半導(dǎo)體集成電路、太陽能電池以及功率器件等刻蝕、去膠工藝,刻蝕方式為等離子體各向同性刻蝕。
擴散爐半導(dǎo)體器件及大規(guī)模集成電路制造過程中用于對晶片進(jìn)行擴散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝一種熱加工設(shè)備。有臥式擴散系統(tǒng)及立式擴散系統(tǒng)兩種類型。按控制方式又分為微控和程控兩種。其構(gòu)成有:電阻加熱爐、凈化工作臺、送片系統(tǒng)、氣源柜、控制柜等。
PECVD等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)技術(shù)原理是運用低溫等離子體作能量源,樣品置于低氣壓下輝光放電陰極上,運用輝光放電(或另加發(fā)熱體)使樣品升溫到預(yù)定溫度,然后通入適量反映氣體,氣體經(jīng)一系列化學(xué)反映和等離子體反映,在樣品表面形成固態(tài)薄膜。
MOCVD
金屬有機化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(MOCVD)重要應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體材料研究和生產(chǎn),是當(dāng)今世界上生產(chǎn)半導(dǎo)體光電器件和微波器件材料重要手段,如激光器、發(fā)光二極管、高效太陽能電池、光電陰極制備,是光電子等產(chǎn)業(yè)不可缺少設(shè)備。
LPCVD
LPCVD工藝在襯底表面淀積一層均勻介質(zhì)薄膜,用作微機械構(gòu)造層材料、犧牲層、絕緣層、掩模材料,LPCVD工藝淀積材料有多晶硅、氮化硅、磷硅玻璃。不同材料淀積采用不同氣體。
PVDPVD(物理氣相沉積)涂層也被證明有效加工高溫合金。TiN(氮化鈦)PVD涂層是最早使用并依然是最受歡迎。近來,TiAlN(氮鋁化鈦)和TiCN(碳氮化鈦)涂層也能較好使用。過去TiAlN涂層應(yīng)用范疇和TiN相比限制更多。但是當(dāng)切削速度提高后它們是一種較好選取,在那些應(yīng)用提高生產(chǎn)率達(dá)40%。
濺射臺以離子束濺射為例,它由離子源、離子引出極和沉積室3大某些構(gòu)成,在高真空或超高真空中濺射鍍膜法。運用直流或高頻電場使惰性氣體(普通為氬)發(fā)生電離,產(chǎn)生輝光放電等離子體,電離產(chǎn)生正離子和電子高速轟擊靶材,使靶材上原子或分子濺射出來,然后沉積到基板上形成薄膜。
磁控濺射磁控濺射技術(shù)已經(jīng)成為沉積耐磨、耐蝕、裝飾、光學(xué)及其她各種功能薄膜重要手段.探討了磁控濺射技術(shù)在非平衡磁場濺射、脈沖磁控濺射等方面進(jìn)步,闡明運用新型磁控濺射技術(shù)可以實現(xiàn)薄膜高速沉積、高純薄膜制備、提高反映濺射沉積薄膜質(zhì)量等,并進(jìn)一步取代電鍍等老式表面解決技術(shù).最后呼吁石化行業(yè)應(yīng)大力發(fā)展和應(yīng)用磁控濺射技術(shù).
真空烘箱真空烘箱廣泛應(yīng)用于各實驗室和各工業(yè)領(lǐng)域。真空烘箱可在低溫下對熱敏材料進(jìn)行干燥。
劃片機
為了適應(yīng)集成電路發(fā)展,劃片設(shè)備技術(shù)和工藝也有了較快發(fā)展。國外已經(jīng)推出代表最高技術(shù)水平雙軸對裝式Ф300mm(12英寸)全自動劃片機,而國內(nèi)也克服技術(shù)難點,推出Ф200mm(8英寸)系列劃片設(shè)備,這些設(shè)備已陸續(xù)進(jìn)入實用化階段。
國內(nèi)外新劃片設(shè)備滿足市場高要
隨著集成電路由大規(guī)模向超大規(guī)模發(fā)展,集成度越來越高,到劃片工藝,晶圓片成本大幅增長;晶片直徑越來越大,當(dāng)前已達(dá)到Φ300mm,劃切槽越來越窄,普通在30μm-40μm,這對于以金剛石砂輪作為刃具強力磨削加工工藝來說,已進(jìn)入臨界尺寸;硅片由Ф150mm(6英寸)增大到Ф200mm,面積只增長78%,但其中可供芯片運用面積增長了90%,晶圓片成本和價值大幅度增長,這些給劃片機加工精度、可靠性穩(wěn)定性提出越來越苛刻規(guī)定,使劃片設(shè)備設(shè)計技術(shù)更加復(fù)雜,加工制造更加困難。
為了適應(yīng)集成電路發(fā)展,劃片設(shè)備技術(shù)和工藝也有了較快發(fā)展。
,占有國際劃片機市場最大份額日本DISCO公司推出了引領(lǐng)劃片機潮流,代表了劃片機最高技術(shù)水平雙軸對裝式Ф300mm全自動劃片機,它已逐漸進(jìn)入實用化階段。
國內(nèi)劃片機研制起步晚,但發(fā)展較快,特別是咱們中華人民共和國電子科技集團(tuán)公司第45研究所推出Ф150mm劃片機,已將控制平臺提高到了國際上普遍采用通用計算機操作系統(tǒng),有效縮短了與國際水平差距。我所研制HP-602型精密自動劃片機,其重要性能指標(biāo)已接近或達(dá)到國際同類機型先進(jìn)水平,在此基本上研制HP-801型精密自動劃片機是國內(nèi)第一臺Ф200mm自動劃片機,已于達(dá)到實用化,新型雙軸精密自動劃片機HP-821,日前已發(fā)給顧客進(jìn)行工藝考核。
與Ф150mm劃片機相比,Ф200mm劃片機總體繼承了Ф150mm機械機構(gòu)和成熟單元技術(shù),控制系統(tǒng)平臺由DOS操作系統(tǒng)上升為WindowsNT操作系統(tǒng),并在設(shè)備機械構(gòu)造尺寸變大同步,精度進(jìn)一步提高,而控制功能也進(jìn)一步增強,自診斷系統(tǒng)更加完善,可靠性進(jìn)一步提高。
本土克服大尺寸劃片機技術(shù)難點
由于其技術(shù)復(fù)雜性問題,大尺寸精密劃片機需要有效解決一系列技術(shù)問題:
機械系統(tǒng)要高剛度、高穩(wěn)定性、低損耗
當(dāng)劃片機工作臺處在高速運動狀態(tài)(400mm/s)之下時,產(chǎn)生加速度驅(qū)動力及相應(yīng)反作用力極易使機械構(gòu)造產(chǎn)生共振。在劃片獨特高速運營條件下,許多高頻共振狀態(tài)也受到激發(fā),使得在低速條件下完全剛性構(gòu)造顯示出明顯柔性,極大地影響設(shè)備性能。劃片設(shè)備典型密集短促往復(fù)運動更加劇了這種狀況。高精度規(guī)定,需要設(shè)備具備高速運動下抗振動極大剛度,普通相應(yīng)著厚重機械構(gòu)造;而極高速度規(guī)定,又必要采用輕質(zhì)構(gòu)造來盡量減輕負(fù)載。因而,對高精度和高速度規(guī)定,促使機械構(gòu)造設(shè)計向兩個截然相反方向發(fā)展,存在著本質(zhì)矛盾。這也正是劃片設(shè)備機械構(gòu)造設(shè)計困難和挑戰(zhàn)所在。
空氣靜壓主軸設(shè)計制造技術(shù)
空氣靜壓主軸是劃片機核心,在60000r/min高轉(zhuǎn)速下實現(xiàn)振動值不大于0.5μm,消除它與不銹鋼冷卻防水罩、機械系統(tǒng)共振或共鳴,以及它高速旋轉(zhuǎn)引起部件材料變形等,是劃片機設(shè)計最大挑戰(zhàn)。這詳細(xì)體當(dāng)前材料、設(shè)計和加工手段3個方面:一是國內(nèi)基本工業(yè)滯后,材料性能滿足不了規(guī)定,需要進(jìn)行材料研究和分析替代;二是設(shè)計過程中大某些參數(shù)及其組合需要重復(fù)實驗來摸索總結(jié),工作量巨大。三是加工手段規(guī)定高,必要具備空氣車床、空氣磨床等高精度加工設(shè)備。
高速高精度運動定位及控制技術(shù)
從國際劃片機發(fā)展過程來看,從Ф150mm到Ф200mm,精度僅提高1μm,但這是在行程增大條件下提高,對導(dǎo)軌、絲杠等機械部件精度及變形規(guī)定極嚴(yán),要保證劃切精度和芯片安全,決不容許有誤差積累,因而,只能選取閉環(huán)控制。要在不影響或盡量小地影響效率前提下實現(xiàn)閉環(huán)控制,必要采用高速高精度定位及其控制系統(tǒng)。高效能、迅速響應(yīng)驅(qū)動系統(tǒng)Ф200mm硅片尺寸大、密度高、劃切刀痕小,因而,它對各方向動態(tài)響應(yīng)和靜態(tài)穩(wěn)定性均有極高規(guī)定,而各方向運營速度曲線也比較特殊。在做圖像對準(zhǔn)時,各運動方向動態(tài)響應(yīng)、運動速度和精度都直接影響到自動對準(zhǔn)精確性、對準(zhǔn)效率和硅片對準(zhǔn)通過率。
全自動劃片機普通由主機某些、自動對準(zhǔn)、自動上下片和自動清洗4個單元構(gòu)成,其核心某些是主機。HP-821精密自動劃片機是作為全自動劃片機主機某些進(jìn)行研制,已具備雙軸劃切和自動對準(zhǔn)功能,并留有其她配套某些軟硬件接口,具備良好可擴展性。該機研制成功,在為生產(chǎn)線提供一種Ф200mm自動劃片機同步,為Ф200mm全自動劃片機整機研制奠定了基本。
分子束外延分子束外延技術(shù)(L-MBE)是近年來發(fā)展一種先進(jìn)薄膜生長技術(shù),在氧化鋅薄膜生長研究中因其獨特優(yōu)越性顯示出越來越強競爭力.在討論ZnO薄膜基本特性基本上,較為詳細(xì)地闡述了激光分子束外延技術(shù)及其在氧化鋅薄膜制備中應(yīng)用和獲得新進(jìn)展.
成像系統(tǒng)PHOTO-CHROM是全新薄層成像系統(tǒng),無需電腦即可打印輸出。圖象可以儲存在軟盤中(3張TIFF或BMP圖片,或30張JPEG圖片),再轉(zhuǎn)移到電腦中。系統(tǒng)帶PHOTO-CHIROMRF分析軟件,可以和PC機整合
氣體過濾器氣體過濾器系高壓級,使用于空氣,氮氣等介質(zhì).用于濾去氣體中固體顆粒.具備重量輕,易于安裝,通氣流量大等特點.
液體過濾器
一種液體過濾器裝置,涉及一具備入口、出口筒體,于該出口處設(shè)有蓋體,該筒體中設(shè)有至少兩組磁鐵單元,該磁鐵單元由各種磁鐵組合而成,且相鄰之磁鐵單元相對面具備相似磁極性,于該筒體中磁鐵單元后裝置有過濾單元,該過濾單元由可透析液體之濾網(wǎng)片設(shè)成筒狀。本實用新型亦可過濾液體中之鐵質(zhì)異物并使液體中之水軟化。
油過濾器油液污染是系統(tǒng)故障最重要因素,它會減少系統(tǒng)性能、縮短零部件壽命、增長換油次數(shù)和延長停機時間,給系統(tǒng)正常運營帶來極大負(fù)面影響。油過濾器用來對油液進(jìn)行合理有效過濾與凈化來控制油液污染。
擴散片
LCD光擴散片
75PBA,100PBU,100S,
100SXE,100MXE,100LSE,
100GM2,100TL2,100TL4,
125TD3
LCD光反射片
RW125,RW188,
GR38W,RW75CB,RWX3T
LED光擴散片
MTN-R1,MTN-G2
MTN-W1,MTN-W2
MTN-W4,MTN-W5
MTN-WX5,MTN-W7,
MTN-W8
D101,D105,D202
D204,D206,D207
顯影劑顯影劑涉及NPDNegativeResistDevelopers(負(fù)性光刻膠顯影劑)和PositiveResistRemovers(正性光刻膠去除劑)
曝光機微電腦電子曝光機由光源系統(tǒng),冷卻系統(tǒng),上/下框移動及真空系統(tǒng),曝光控制系統(tǒng)四大系統(tǒng)構(gòu)成.光源系統(tǒng)由兩只7KW金屬鹵素?zé)?遮光罩等構(gòu)成.冷卻系統(tǒng)由中間送冷氣冷卻燈管兩層玻璃套管(PYREX管及石英玻璃管),冷卻塔,換熱器,冷氣機構(gòu)成.上下框架移動及真空系統(tǒng)由上/下框架,上/下框架驅(qū)動某些,玻璃面,MYLAR(PE布),兩處真空吸氣口構(gòu)成.曝光控制系統(tǒng)由紫外線強度計(將曝光光量對的地顯示出來),溫度傳感器,液面?zhèn)鞲衅?壓力傳感器,位置傳感器,PLC控制器構(gòu)成.
勻膠機/甩膠機勻膠機適應(yīng)于半導(dǎo)體,硅片,晶片,基片,導(dǎo)電玻璃等工藝,制版表面涂覆.勻膠機穩(wěn)定轉(zhuǎn)速和迅速啟動,可以保證半導(dǎo)體中膠厚度一致性和均勻性
烘膠臺烘膠臺產(chǎn)品用于光刻工藝中前烘和堅膜。本產(chǎn)品具備烘膠速度快、均勻、控溫精度高等特點,并可長時間持續(xù)穩(wěn)定工作。
半導(dǎo)體封裝封裝(Package)對于芯片來說是必要,也是至關(guān)重要。封裝也可以說是指安裝半導(dǎo)體集成電路芯片用外殼,它不但起著保護(hù)芯片和增強導(dǎo)熱性能作用,并且還是溝通芯片內(nèi)部世界與外部電路橋梁和規(guī)格通用功能作用。
封裝設(shè)備
封裝工程將是為將來高精密攜帶式電子機器重要核心技術(shù)。這是覺得封裝工程技術(shù)能將各種微小半導(dǎo)體元件,密封于一小空間內(nèi),除體積小之外,功能更大。
引線引線封裝
市場上第一種獲得廣泛接納封裝是雙列直插式(DIP,DualInLine),可用陶瓷和塑料封裝體。這種封裝于20世紀(jì)60年代未開發(fā)出來,正如其名,引線從封裝兩邊引出,并與封裝垂直。這是低成本封裝,電氣性能相對較差,通過將引腳插到電路板通孔中,便可將封裝安裝在PCB上,引線會在電路板另一面夾斷,再運用波峰焊接技術(shù)來焊接。該封裝可容納最多引線數(shù)目為40,而電路板間距則為0.65mm。這種封裝形式至今仍在使用。
在20世紀(jì)70年代末80年代初,一種新電路板裝配技術(shù)浮現(xiàn),名為表面安裝(surfacemount)。在這種辦法中芯片上引線(引腳)和元件都被焊接在電路板某一表面,而不是穿過板體。這使得電路板兩面都可用于粘結(jié)芯片,安裝過程使用了焊料回流技術(shù),今天,超過95%封裝都采用了表面安裝技術(shù),為了支持這項工藝,小外形封裝應(yīng)運而生,其引線也是從封裝兩邊伸出,并做成海鷗翅膀形狀以便板級安裝,此類型封裝普通比DIP更薄,能支持最大引線數(shù)為80。
到20世紀(jì)80年代中期四邊均有引線封裝浮現(xiàn),此類封裝稱為四方扁平封裝(QuadFlatPacks,QFP)(引線呈海鷗翅膀形狀)或引線芯片載體(LeadedChipCarriers)(引線呈彎曲J字形狀)。最慣用典型四方扁平封裝間距為0.65mm或0.5mm,引線數(shù)高達(dá)208。這些封裝在20世紀(jì)90年代初期之硬盤驅(qū)動器和圖形市場獲得廣泛應(yīng)用。在電氣方面它們大概與SO封裝相近,但能提供更多引線,因而在相似尺寸上具備更多功能,這種封裝備有各種不同尺寸和厚度。
20世紀(jì)80年代末90年代初,客戶需求在相似占位面積上享有更高熱性能,于是,裸露焊盤引線封裝(Exposed-PadLeadedPackage)得以誕生。這種封裝就是把芯片粘接端暴露于底部四方扁平或更小外形封裝。這些暴露粘接端可以焊接在電路板上,以建立高效途徑為芯片進(jìn)行散熱。在其她因素相似狀況下,該封裝熱性能比較相似尺寸原則四方扁平封裝提高50%。此外,它可以在更好頻率下(2-2.5GHz)工作,此類封裝在便攜式應(yīng)用如尋呼機和PDA中得到廣泛使用。
隨著手持便攜式設(shè)備尺寸不斷縮小,消費者規(guī)定在更小尺寸中享有相似或更多功能,對于手機和PDA等應(yīng)用來說,規(guī)定封裝尺寸要小,質(zhì)量要輕,但卻不會影響性能。業(yè)界隧在20世紀(jì)90年代開發(fā)出微引線框架(MLF)系列封裝,MLF接近于芯片級封裝(ChipScalePackage,CSP),用封裝底部引線端提供到PCB板電氣接觸,而不是到海鷗翅膀形狀引線soic和qual封裝,因而,這種封裝有助于保證散熱和電氣性能。便攜式應(yīng)用是它重要動力來源,所付用封裝量差不多達(dá)20億。
引線框架引線框架普通由銅制作,與基板材料同樣。20世紀(jì)90年代浮現(xiàn)了一種新型封裝,采用分層板作為基板材料,名為球柵陣列封裝(BallGridArray,BGA)以引線框架為基本封裝只可以把引線引導(dǎo)到封裝體周邊…球柵陣列封裝引線則可引導(dǎo)到布滿封裝底部焊球上,這樣,對于引線數(shù)量相似封裝尺寸而言,較之于四方扁平封裝,BGA封裝自然更具優(yōu)勢,由于基板是分層,因而具備電源和接地平面可進(jìn)一步提高電氣性能,起初,BGA封裝典型焊球間距為1.27mm,與間距為0.5mm四方扁平封裝相比,板級裝配更加輕而易舉。
球柵陣列封裝自然發(fā)展使得相似芯片焊球間距及其封裝尺寸減小,當(dāng)間距減少為0.4至0.8mm時,就創(chuàng)造了精細(xì)間距球柵陣列,該封裝是手持式產(chǎn)品解決方案,雖然不是真正芯片級封裝,但在業(yè)界常被稱為分層式芯片級封裝。
表二、半導(dǎo)體工藝輔助設(shè)備大全
打標(biāo)機在產(chǎn)品生產(chǎn)過程中需要對其零部件進(jìn)行更有效管理或在市場上需要辨認(rèn)自己產(chǎn)品和對其進(jìn)行質(zhì)量跟蹤、分析。因而對產(chǎn)品零部件,特別是重要零部件進(jìn)行標(biāo)記(商標(biāo)、規(guī)格型號、生產(chǎn)批號)非常重要。
為了適應(yīng)當(dāng)代化生產(chǎn)需要,研制開發(fā)出了氣動工業(yè)標(biāo)記打印系統(tǒng)。該系統(tǒng)采用高頻微沖擊技術(shù),運用計算機控制對工件進(jìn)行標(biāo)記。
薄膜運用化學(xué)氣相沉積法在襯底溫度400℃如下沉積以Ⅳ族原子與氫原子為重要構(gòu)成元素半導(dǎo)體薄膜。依照它從室溫開始加熱時薄膜中氫原子放出量與升溫溫度關(guān)系曲線可知,在370℃以上410℃如下具備放出氫氣量峰值,并且所述峰值半幅值為30℃如下。揭示了一種薄膜器件,它具備包括半導(dǎo)體薄膜半導(dǎo)體單元某些以及包括導(dǎo)電性薄膜電極某些,并且它們形成在同一基板上。
襯墊材料附著物,CVD制作薄膜都在襯墊上完畢.
切割機
據(jù)線切割機工作原理,切片過程中硅片因機械作用導(dǎo)致刀痕、損傷、破損產(chǎn)生涉及機械應(yīng)力和熱經(jīng)理在內(nèi)應(yīng)力,進(jìn)而產(chǎn)生滑移位錯。當(dāng)機械應(yīng)力和熱應(yīng)力在高溫解決過程中作用程超過晶體滑移臨界應(yīng)力時,會產(chǎn)生硅片破碎。對于翹曲度、彎曲度、總厚度誤差、中心厚度誤差等辦法質(zhì)量控制,通過調(diào)節(jié)線張力、進(jìn)給速度、冷卻劑流量等一系列工藝辦法可達(dá)到目及規(guī)定,大大減少了生產(chǎn)成本,提高了生產(chǎn)效率。實驗證明,線切割機切出硅片厚度和質(zhì)量都較好滿足了下一道工序規(guī)定。
線切割系統(tǒng)磨削原理是使用自由研磨劑而非固定研磨劑,因而往復(fù)式切削系統(tǒng)比老式單向切削系統(tǒng)具備一定優(yōu)勢。對于同種材料來說,系統(tǒng)可以有更大行程和線移動速度,只有通過線往復(fù)運動,才干達(dá)到抱負(fù)研磨效果。持續(xù)供線系統(tǒng)和舊線回收系統(tǒng),可以避免線破損,還可促使線張緊以保證切削線剛性,這有助于保持切片精度,同步,最大限度運用切削線可以有效減少消耗。金屬線和工件間近似點接觸狀態(tài),成圓弧狀進(jìn)行切割,由于拉力都集中加在接觸部,可以進(jìn)行高精度、高速度切割。金屬線從供線輪通過伺服馬達(dá)控制張力,通過各種導(dǎo)向輪轉(zhuǎn)到搖動頭。在槽輪上卷上設(shè)定好圈數(shù)后,通過各種導(dǎo)向輪,再通過伺服馬達(dá)控制回收側(cè)張力,由回收拉桿將金屬線整潔排在回收輪上。實際轉(zhuǎn)動時,供線輪、槽輪、回收輪一起高速運轉(zhuǎn)。在金屬線運營同步,搖動頭帶動槽輪作周期性重復(fù)搖晃,進(jìn)行切割。此外加搖晃作用可使舊砂漿也順切割線滑出,同步有新砂漿進(jìn)入以及也起到了不斷研磨硅表面效果。
氣體檢測系統(tǒng)可燃性氣體檢測系統(tǒng)可持續(xù)監(jiān)測空氣中可燃性氣體及蒸氣濃度,在控制室或值班室顯示報警,需要時可啟動關(guān)聯(lián)設(shè)備。合用于半導(dǎo)體制造管路氣體控制等。
洗滌塔
運用渦流離心力使氣體與洗凈液產(chǎn)生攪拌、混合、附著、吸取之效果而除去廢氣中污染物。
用途:有害氣體吸取、煙氣去除、廢氣冷卻洗凈。
特點:使用氣流離心力氣液接觸方式,設(shè)備維護(hù)簡樸,平均效率約90%,壓力損失150mmAq(MAX)
本設(shè)備應(yīng)用于各種工業(yè)制造廢氣解決,如金屬工業(yè)、金屬拋光及研磨,造紙工業(yè)、化學(xué)解決、肥料行業(yè)、食品加工、電子工業(yè)、半導(dǎo)體...等等,並且可用于工業(yè)上冷卻塔。
過濾器為了防止氣動元件出故障,在回路上使用干燥器和在線過濾器,在應(yīng)用回路上使用過濾器,調(diào)壓閥,油霧器等,使空氣清潔同步通過調(diào)壓進(jìn)行控制。
檢漏儀
檢漏儀器用于檢漏儀器有氦質(zhì)譜檢漏儀、鹵素檢漏儀、高頻火花檢漏器、氣敏半導(dǎo)體檢漏儀及用于質(zhì)譜分析各種質(zhì)譜計。這里重要簡介氦質(zhì)譜檢漏儀、鹵素檢漏儀、高頻火花檢漏器工作原理、構(gòu)造及國產(chǎn)檢漏儀器技術(shù)性能。1.氦質(zhì)譜檢漏儀氮質(zhì)譜檢漏儀是用氦氣為示漏氣體專門用于檢漏儀器,它具備性能穩(wěn)定、敏捷度高特點。是真空檢漏技術(shù)中敏捷度最高,用得最普遍檢漏儀器。氦質(zhì)譜檢漏儀是磁偏轉(zhuǎn)型質(zhì)譜分析計。單級磁偏轉(zhuǎn)型儀器敏捷度為lO-9~10-12Pam3/s,廣泛地用于各種真空系統(tǒng)及零部件檢漏。雙級串聯(lián)磁偏轉(zhuǎn)型儀器與單級磁偏轉(zhuǎn)型儀器相比較,本底噪聲明顯減?。涿艚荻瓤蛇_(dá)10-14~10-15Pam3/s,合用于超高真空系統(tǒng)、零部件及元器件檢漏。逆流氦質(zhì)譜檢漏儀變化了常規(guī)型儀器構(gòu)造布局,被檢件置于檢漏儀主抽泵前級部位,因而具備可在高壓力下檢漏、不用液氮及質(zhì)譜室污染小等特點.合用于大漏率、真空衛(wèi)生較差真空系統(tǒng)檢漏,其敏捷度可達(dá)10-12Pam3/s。(1)工作原理與構(gòu)造氦質(zhì)譜檢漏儀由離子源、分析器、收集器、冷陰極電離規(guī)構(gòu)成質(zhì)譜室和抽氣系統(tǒng)及電氣某些等構(gòu)成。①單級磁偏轉(zhuǎn)型氦質(zhì)譜檢漏儀現(xiàn)以HZJ—l型儀器為例.簡介單級磁偏轉(zhuǎn)型氦質(zhì)譜檢漏儀,其構(gòu)造如圖2所示。在質(zhì)譜室內(nèi)有:由燈絲、離化室、離子加速極構(gòu)成離子源;由外加均勻磁場、擋板及出口縫隙構(gòu)成分析器;由抑制柵、收集極及高阻構(gòu)成收集器;第一級放大靜電計管和冷陰極電離規(guī)。質(zhì)譜室工作原理如圖3所示。在離化室N內(nèi),氣體電離成正離子,在電場作用下離子聚焦成束。并在加速電壓作用下以一定速度通過加速極S1縫隙進(jìn)入分析器。在均勻磁場作用下,具備一定速度離子將按圓形軌跡運動,其偏轉(zhuǎn)半徑可按式(5)計算??梢?,當(dāng)B和U為定值時,不同質(zhì)荷比me-1離子束偏轉(zhuǎn)半徑R不同。儀器B和R是固定,調(diào)節(jié)加速電壓U使氦離子束[圖中(me-1)2]正好通過出口縫隙S2,到達(dá)收集器D,形成離子流并由放大器放大。使其由輸出表和音響批示反映出來;而不同于氦質(zhì)荷比離子束[(me-1)1(me-1)3]因其偏轉(zhuǎn)半徑與儀器R值不同無法通過出口縫隙S2,因此被分離出來。(me-1)2=4,即He+質(zhì)荷比,除He+之外,C卅很少,可忽視②雙級串聯(lián)磁偏轉(zhuǎn)型氦質(zhì)譜檢漏儀圖4示出了雙級900縮轉(zhuǎn)串聯(lián)式磁偏轉(zhuǎn)型氦質(zhì)譜檢漏儀質(zhì)譜室。由于兩次分析,減少了非氦離子到達(dá)收集器機率。并且,如在兩個分析器中間,即圖中中間縫隙S2與鄰近擋板間設(shè)立加速電場,使離子在進(jìn)入第二個分析器前再次被加速。那些與氦離子動量相似非氦離子,雖然可以通過第一種分析器,但是,經(jīng)第二次加速進(jìn)入第二個分析器后,由于其動量與氦離子不同而被分離出來。由于二次分離,儀器本底及本底噪聲明顯地減小,提高了儀器敏捷度。③逆流氦質(zhì)譜檢漏儀逆流氦質(zhì)譜檢漏儀構(gòu)造特點如圖5所示。該類儀器是依照油擴散泵或分子泵壓縮比與氣體種類關(guān)于原理制成。例如,多級油擴散泵對氦氣壓縮比為102;對空氣中其他成分壓縮比為lO4~106。檢漏時,通過被檢件上漏孔進(jìn)入主抽泵前級部位氦氣,仍有某些返流到質(zhì)譜室中去,并由儀器輸出批示示出漏氣訊號。這就是逆流氦頃質(zhì)譜檢漏儀工作原理。
散熱片
電子散熱片規(guī)格43.5*10*43.5電子散熱片規(guī)格35*12.8*38電子散熱片規(guī)格45*10*45電子散熱片規(guī)格42.5*35*42.5電子散熱片規(guī)格37.5*24*37.5電子散熱片規(guī)格61*12.5*58.5電子散熱片規(guī)格53*42.5*98電子散熱片規(guī)格46*13.5
電鏡電子顯微鏡/電鏡(SEMTEM)等...離子束聚焦顯微鏡電子掃描顯微鏡TEM顯微鏡
掃描探針顯微鏡
掃描探針顯微鏡,普通只能應(yīng)用在無機材料納米級成像,但是不久研究者們也許就可以把這種技術(shù)應(yīng)用在有生命有機體生物機械構(gòu)導(dǎo)致像上——例如,被譽為大自然工程杰作蝴蝶翅膀。
美國橡樹嶺國家實驗室一位來自美國北卡萊羅納大學(xué)研究專家卡林寧,已經(jīng)成功得到了弗吉尼亞州赤蛺蝶翅膀構(gòu)造圖片,辨別率高達(dá)10毫微米。
“掃描探針顯微鏡為科學(xué)家們?nèi)娴胤治鑫矬w構(gòu)造,性質(zhì)及其功能性提供了無限機會?!笨謱幷f?!斑@為將來研制性能更高、成本更低生物和醫(yī)學(xué)應(yīng)用材料打下良好基本?!?/p>
卡林寧在生物系統(tǒng)成像方面研究最初源于上個世紀(jì)八十年代原子力顯微術(shù)發(fā)展。當(dāng)前她們正在運用一種被稱為原子力聲學(xué)顯微術(shù)(AFAM)技術(shù),這種技術(shù)運用微小聲波,不但可以探測物體表面,并且可以探測到精密生物材料表面下構(gòu)造,并且辨別率大概在5毫微米左右。
“這種改進(jìn)后成像技術(shù)可以清晰顯現(xiàn)出生物系統(tǒng)如何工作,辨別率可以達(dá)到5微毫米,相稱于一種DNA分子體積——這也正是咱們制造生物材料所需要尺寸,”卡林寧說?!吧锵到y(tǒng)構(gòu)造并不是像——例如晶體材料——那樣有規(guī)律,因此需要使用現(xiàn)實空間成像辦法才干對局部組織彈性以及局部構(gòu)造進(jìn)行分析。掃描探針顯微鏡正是適合這種應(yīng)用絕佳工具。”
“掃描探針顯微鏡是納米科技一種巨大奔騰,”卡林寧說。“這種新型科技正在飛速發(fā)展,因此每時每刻均有新研究辦法不斷涌現(xiàn)出來。然而,如果要看到掃描探針顯微鏡發(fā)揮真正潛力一天,還是需要各學(xué)科間持續(xù)不斷努力和發(fā)展。”
掃描隧道顯微鏡掃描隧道顯微鏡是80年代初期發(fā)展起來新型顯微儀器,能達(dá)到原子級超高辨別率。掃描隧道顯微鏡不但作為觀測物質(zhì)表面構(gòu)造重要手段,并且可以作為在極其細(xì)微尺度——即納米尺度(1nm=10-9m)上實現(xiàn)對物質(zhì)表面精細(xì)加工新穎工具。當(dāng)前科學(xué)家已經(jīng)可以隨心所欲地操縱某些原子。一門新興學(xué)科——納米科學(xué)技術(shù)已經(jīng)應(yīng)運而生。
中華人民共和國科學(xué)院化學(xué)研究所隧道顯微學(xué)研究室科學(xué)家正奮力投入納米科學(xué)技術(shù)研究,運用掃描隧道顯微學(xué)辦法,已于1992年成功地在石墨表面刻寫出納米級中文和圖案。
用掃描隧道顯微鏡在高定向裂解石墨表面上刻寫中文“中華人民共和國”,其中筆畫線條寬度為10nm。如果用這樣大小中文來書寫《紅樓夢》一書,只需大頭針針頭那樣小面積,就可寫進(jìn)全書內(nèi)容。
磁力顯微鏡
磁力顯微鏡(MagneticForceMicroscope,MFM)與LFM相似,不同是這種探針為沿著其長度方向磁化了鎳探針或鐵探針.當(dāng)探針接近一塊磁性樣品時,探針尖端會像一種條狀磁鐵北極或南極那樣,與樣品中磁疇互相作用而感受到磁力,并使其共振頻率發(fā)生變化,從而變化其振幅.用來觀測樣品磁場邊界清晰度、均勻度和強度等,辨別率優(yōu)于25nm.
磁力顯微鏡(Hr-MFM)產(chǎn)品由QuantumDesign與瑞士SwissProbe公司合伙與銷售,當(dāng)前,該產(chǎn)品已迅速推向全球市場,高辨別率磁力顯微鏡(Hr-MFM)是在材料表面納米尺度檢測技術(shù)上巨大奔騰:Hr-MFM超細(xì)探針使得其辨別精度比老式MFM提高近10倍,用Hr-MFM獲得磁辨別精度(10納米)甚至可以和用極化辨別掃描電子顯微鏡(SEMPA)所得到數(shù)據(jù)相媲美;該產(chǎn)品剛一浮現(xiàn)及時受到了全球科學(xué)家廣泛關(guān)注:產(chǎn)品獲評瑞士技術(shù)創(chuàng)新獎;Hr-MFM產(chǎn)品樣機被全球知名硬盤制造商美國希捷公司購得;瑞士創(chuàng)新獎專項文章評論該SwissProbe公司Hr-MFM“對于更大容量硬盤存儲器研究將帶來一次強烈沖擊”。實驗室科學(xué)家可以借助其進(jìn)行材料表面分析、磁性材料和薄膜技術(shù)等有關(guān)研究,諸如磁性量子點以及用于磁性隨機存儲器和鐵電隨機存儲器應(yīng)用層狀納米機構(gòu)等方面。
靜電力顯微鏡靜電力顯微鏡(ElectrostaticForceMicroscope,EFM)是LFM擴展,不同是EFM使用帶有電荷探針,在共振頻率附近受迫振動,針尖和樣品起到平行板電容器中兩塊板極作用,因而在樣品表面掃描時,振動振幅受樣品中電荷產(chǎn)生靜電力影響.可以測量出10-10N靜電力.相應(yīng)于10-19F電容,這種顯微鏡可通過非接觸方式研究微電子電路在極小尺度上電特性.
橫向力顯微鏡橫向力顯微鏡(LFM)是在原子力顯微鏡(AFM)表面形貌成像基本上發(fā)展新技術(shù)之一。工作原理與接觸模式原子力顯微鏡相似。
原子力顯微鏡原子力顯微鏡,簡稱AFM,是運用原子、分子間互相作用力(重要范德瓦爾斯力,價鍵力,表面張力,萬有引力,以及靜電力和磁力等)來觀測物體表面微觀形貌新型實驗技術(shù)。
AFM簡樸原理:運用納米級探針固定在可敏捷操控微米級尺度彈性懸臂上,當(dāng)針尖很接近樣品時,其頂端原子與樣品表面原子間作用力會使懸臂彎曲,偏離本來位置。依照掃描樣品時探針偏離量或其他反饋量重建三維圖像,就能間接獲得樣品表面形貌圖。
AFM突破了STM只可以用于掃描不容易氧化良導(dǎo)體樣品限制,可以掃描導(dǎo)體和絕緣體。AFM具備各種掃描模式:接觸掃描模式是原子力顯微鏡基本工作模式,輕敲掃描模式(TappingMode)特別合用于檢測生物樣品及其他柔軟、易碎、粘附性較強樣品。
MicroNanoAFM-III重要技術(shù)參數(shù):
掃描模式:AFM接觸/非接觸模式形貌檢測功能,劃移掃描,F(xiàn)-Z曲線測量,刻蝕功能;
側(cè)向力/輕敲掃描模式形貌檢測功能;
樣品尺寸:≤Φ10mm,樣品厚度:≤5mm掃描范疇:原則配備6μm×6μm接觸模式AFM(X-Y向0.2nm;Z向0.03nm)
錫膏
無鉛焊錫膏是設(shè)計用于當(dāng)今SMT生產(chǎn)工藝一種免清洗型焊錫膏。采用氧化量很少無鉛合金與無活性較好助焊膏配制而成,粘度可滿足印刷與點涂工藝,應(yīng)用范疇十分廣泛。
錫球無鉛錫球用于IC封裝焊接點上,如BGA、CSP等輕、薄、小、高性能、多功能焊接。錫球具備自動校正能力和容許相對比較大置放誤差,無端面平整度問題,電鍍用錫球,其制程中每一環(huán)節(jié)均受嚴(yán)格控制并精選高純度合金。
燒結(jié)爐
高溫電爐,實驗電爐,實驗電爐,氛圍爐,箱式電爐,管式電爐,燒結(jié)爐,熔塊爐,立式電爐,臥式電爐,真空爐,節(jié)能電爐,升降爐,梭式爐,熔塊爐等.
電鍍(1)、電鍍涵義
電鍍是應(yīng)用電解原理在某些金屬表面鍍上一薄層其她金屬或合金過程。
(2)、電鍍目
電鍍目重要是使金屬增強抗腐蝕能力、增長美觀和表面硬度。
(3)、電鍍原理
電鍍原理與電解精煉銅原理是一致。電鍍時,普通都是用具有鍍層金屬離子電解質(zhì)配成電鍍液;把待鍍金屬制品浸入電鍍液中與直流電源負(fù)極相連,作為陰極;用鍍層金屬作為陽極,與直流電源正極相連。通入低壓直流電,陽極金屬溶解在溶液中成為陽離子,移向陰極,這些離子在陰極獲得電子被還原成金屬,覆蓋在需要電鍍金屬制品上。
傳感器力學(xué)傳感器、光學(xué)傳感器、熱學(xué)傳感器、聲學(xué)傳感器、磁學(xué)傳感器,氣敏傳感器、離子傳感器,酶傳感器、免疫傳感器、微生物傳感器、細(xì)胞傳感器、組織傳感器、DNA傳感器等
真空泵真空泵、無油真空泵、往復(fù)式真空泵、水環(huán)真空泵、羅茨真空泵、真空機組、旋片式真空泵等。
橢偏儀
當(dāng)一未線偏振光入射到薄膜表面時,入射光波中電場強度P分量和電場強度S分量在兩種媒質(zhì)交界面上行為是不同,即普通P分量和S分量反射率和反射相移各不相似,于是在反射光P分量和S分量之間產(chǎn)生了附加振幅差和位相差,反射光普通會成為橢圓偏振光。在入射介質(zhì)及基片光學(xué)常數(shù)和入射角已知狀況下,這個反射橢圓偏振光參數(shù)僅由薄膜光學(xué)常數(shù)決定。這就是橢偏法測量薄膜光學(xué)常數(shù)依照。
老化箱
高低溫濕熱箱,低溫恒溫恒濕箱,恒溫恒濕箱,恒溫恒濕實驗箱,氙燈耐氣候箱,氙燈實驗機,氙燈老化箱,紫外老化機,紫外老化箱,紫外實驗機,老化箱,溫度沖擊箱,溫度沖擊實驗機,溫度沖擊實驗箱,臭氧老化實驗箱,臭氧老化箱,鹽霧實驗...
水份分析儀WA-1B型水份分析儀是集我廠近年來生產(chǎn)分析儀器之經(jīng)驗,綜合國內(nèi)外測水儀之長處,結(jié)合卡爾·費休法進(jìn)行微量水份測定之典型研制而成自動化微量水份測定儀。
氣體分析儀氣體分析儀,重要用于迅速測量空氣中氣體,它采用專利氣敏半導(dǎo)體傳感器原理,可以精準(zhǔn)探測氣體濃度達(dá)到ppb級,所配備各種量程感器之間可以互相更換,而不需要重新標(biāo)定,減少顧客使用成本,采用類似于手機菜單形式,使用簡樸,可在任何需要測量各種臭氧濃度場合下使用。500系列多了數(shù)據(jù)記錄和下載功能。
回流焊回流焊爐:又稱“再流焊”(ReflowMachine),它是通過提供一種加熱環(huán)境,使焊錫膏受熱融化從而讓表面貼裝元器件和PCB焊盤通過焊錫膏合金可靠地結(jié)合在一起設(shè)備。
再流焊再流焊爐重要有熱板式、紅外、熱風(fēng)、紅外+熱風(fēng)和氣相焊等形式。
再流焊熱傳導(dǎo)方式重要有輻射和對流兩種方式。
輻射傳導(dǎo)――重要有紅外爐。其長處是熱效率高,溫度陡度大,易控制溫度曲線,雙面焊接時PCB上、下溫度易控制。其缺陷是溫度不均勻;在同一塊PCB上由于器件顏色和大小不同、其溫度就不同。為了使深顏色和大體積元器件達(dá)到焊接溫度、必要提高焊接溫度,容易導(dǎo)致焊接不良和損壞元器件等缺陷。
對流傳導(dǎo)――重要有熱風(fēng)爐。其長處是溫度均勻、焊接質(zhì)量好。缺陷是PCB上、上溫差以及沿焊接長度方向溫度梯度不易控制。
(1)當(dāng)前再流焊傾向采用熱風(fēng)小對流方式,在爐子下面采用制冷手段,以保護(hù)爐子上、下和長度方向溫度梯度,從而達(dá)到工藝曲線規(guī)定。
(2)與否需要充N2選?。ɑ诿馇逑匆?guī)定提出)
充N2重要作用是防止高溫下二次氧化,達(dá)到提高可焊性目。對于什么樣產(chǎn)品需要充N2,當(dāng)前尚有爭議??偪雌饋?,元鉛焊接,以及高密度,特別是引腳中心距為0.5mm如下焊接過程有必要用N2,否則沒有太大必要。此外,如果N2純度低(如普通20PPN)效果不明顯,因而規(guī)定N2純度為100PPN。
蒸汽焊爐有再次興起趨勢。特別是對電性能規(guī)定極高軍品。
烘干爐重要用于電子元件和半導(dǎo)體器件排膠、干燥、燒結(jié)及玻璃退火等熱解決工藝,也可對其他材料進(jìn)行同類溫度下特殊解決,已廣泛使用在半導(dǎo)體、太陽能電池、納米材料、磁性材料、光電子等行業(yè)。可依照顧客規(guī)定配備氛圍保護(hù)裝置。
激光切割激光切割特點:
1.切割縫細(xì):激光切割割縫普通在0.10~0.20mm。
2.切割面光滑:激光切割切割面無毛刺,表面粗糙度普通控制在Ra:12.5以上。
3.速度快:激光切割速度與線切割速度相比要快諸多。
4.熱變形?。杭す饧庸ぜす飧羁p細(xì)、速度快、能量集中,因而傳到被切割材料上熱量小,引起材料變形也非常小。
5.激光切割不會與材料表面相接觸,保證產(chǎn)品不劃傷。
6.適合大件產(chǎn)品加工:大件產(chǎn)品模具制造費用很高,激光加工不需任何模具制造,并且激光加工完全避免材料沖剪時形成塌邊,可以大幅度地減少公司生產(chǎn)成本提高產(chǎn)品檔次。
7.非常適合新產(chǎn)品開發(fā):一旦產(chǎn)品圖紙形成后,立即可以進(jìn)行激光加工,你可以在最短時間內(nèi)得到新產(chǎn)品實物。
8.節(jié)約材料:激光加工采用電腦編程,可以把不同形狀產(chǎn)品進(jìn)行材料套裁,最大限度地提高材料運用率。
9.適合激光加工材料:激光可以對鋼板、不銹鋼、鋁合金板、硬質(zhì)合金等進(jìn)行加工。
10.激光加工應(yīng)用行業(yè):
(1)當(dāng)前開展激光加工方面重要是電梯、自動扶梯、紡織機械、食品機械、輕工機械、冷凍機械、印刷機械、復(fù)印機械、交通機械、港口機械、運送機械、船舶機械、農(nóng)用機械、筑路機械、搬運機械、環(huán)保機械及礦山、冶金機械等等板金加工。
(2)另一方面是電子、電器業(yè)涉及醫(yī)療儀表、器械以及控制柜箱等板金加工。
(3)電機制造業(yè)中各類轉(zhuǎn)子、定子、葉片切割成型。
(4)量具、刃具業(yè)中各類鋸條鋸片等切割成型。
(5)汽車制造業(yè)涉及零件、總裝合成和流水線中部件制造,
(6)廣告、裝潢及工藝品制造業(yè)。
涂布機光材料涂布機(反光膜涂布機、反光布涂布機)、金銀卡紙涂布復(fù)合機、不干膠紙涂布機、雙面膠帶涂布機、電化鋁涂布機、PTP鋁箔印刷涂布機、布基藥膏涂布機。
管道泵管道泵是單吸單級離心泵一種,屬立式構(gòu)造,因其進(jìn)出口在同始終線上,且進(jìn)出口口徑相似,仿似一段管道,可安裝在管道任何位置故取名為管道泵。
構(gòu)造特點:為單吸單級離心泵,進(jìn)出口相似并在同始終線上,和軸中心線成直交,為立式泵。
排污泵排污泵有:不銹鋼排污泵,潛水排污泵,自吸排污泵,液下排污泵,無堵塞排污泵,化工排污泵QW型移動式潛水排污泵,,WQ型自動耦合裝置潛水排污泵,WL型干式便拆立式排污泵,LW型直立式排污泵,GW型管道式排污泵,QWP型不銹鋼潛水排污泵,AS、AV型扯破式排污泵,JYWQ型自動攪勻潛水排污泵,WQZ型自動保護(hù)潛水排污泵,ZW型自吸無堵塞排污泵......
自吸泵
普通離心泵,若吸入液面在葉輪之下,啟動時應(yīng)預(yù)先灌水,很不以便。為了在泵內(nèi)存水,吸入管進(jìn)口需要裝底閥,泵工作時,底閥導(dǎo)致很大水力損失。
所謂自吸泵,就是在啟動前不需灌水(安裝后第一次啟動依然需灌水),通過短時間運轉(zhuǎn),靠泵自身作用,即可以把水吸上來,投入正常工作。
自吸泵按作用原理分為如下幾類:
1.氣液混合式(涉及內(nèi)混式和外混式);
2.水環(huán)輪式;
3.射流式(涉及液體射流和氣體射流)。
氣液混合式自吸泵工作過程:由于自吸泵泵體特殊構(gòu)造,水泵停轉(zhuǎn)后,泵體內(nèi)存
有一定量水,泵再次啟動后由于葉輪旋轉(zhuǎn)作用,吸入管路空氣和水充分混合,并被排到氣水分離室,氣水分離室上部氣體溢出,下部水返回葉輪,重新和吸入管路剩余空氣混合,直到把泵及吸入管內(nèi)氣體所有排出,完畢自吸,并正常抽水。
水環(huán)輪式自吸泵是將水環(huán)輪和水泵葉輪組合在一種殼體內(nèi),借助水環(huán)輪將氣體排出,實現(xiàn)自吸。當(dāng)泵正常工作后,可通過閥截斷水環(huán)輪和水泵葉輪通道,并且放掉水環(huán)輪內(nèi)液體。
射流式自吸泵,由離心泵和射流泵(或噴射器)組合而成,依托噴射裝置,在噴嘴處導(dǎo)致真空實現(xiàn)抽吸。
液下泵液下泵具備易啟動、無泄露、占地少、安裝以便等特點,因而適合輸送不得泄露強腐蝕性、高危險性或極為貴重液體,也特別適合規(guī)定安裝容器或基坑場合。
磁力泵
其電動機通過磁性聯(lián)軸器和外磁鋼連在一起,葉輪和內(nèi)磁鋼連在一起。在外磁鋼和內(nèi)磁鋼之間設(shè)有全密封隔離套,將內(nèi)、外磁鋼完全隔開,使內(nèi)磁鋼處在介質(zhì)之中,電動機轉(zhuǎn)軸通過磁鋼間磁極吸力直接帶動葉輪同步轉(zhuǎn)動。
高溫往復(fù)泵高溫往復(fù)泵是本單缸專為煉油、造紙、油氈,石化等行監(jiān)設(shè)計生產(chǎn)一秤新穎泵,該泵設(shè)計合理,構(gòu)造緊湊,參照國外產(chǎn)品消化吸取。是一種很有使用前程輸送設(shè)備,該泵對于某些顧客仍在使用蒸氣往復(fù)泵,是一種節(jié)能,環(huán)保代替產(chǎn)品。本泵合用于溫度在150-400℃之間熱水、熱油或其他物化性能類似于油水高溫介質(zhì)。
本泵機體部份由齒花箱,電機、飛輪十字頭等構(gòu)成,齒輪箱采用飛濺方式潤滑。
泵體由鑄鋼構(gòu)成雙層夾套構(gòu)造,夾室內(nèi)可通蒸氣,以往進(jìn)行保溫(如重油類),泵閥結(jié)何采用球閥方式,密封可靠、動作敏捷。泵頭和箱體之間有冷卻套隔開,冷卻套用自來水循環(huán)萬式,有效地制止泵頭熱量向箱體部擴散。本泵密封填料采用國內(nèi)最先進(jìn)石墨纖維高溫填料,其他零部件均采用耐熱鋼及時效解決,保證了該泵使用壽命。
玻璃鋼泵
玻璃鋼泵涉及玻璃鋼離心泵、玻璃鋼液下泵、耐腐蝕性強,注意環(huán)保和服務(wù)提高,是化工工業(yè)用泵抱負(fù)選取。
隔膜泵
氣動隔膜泵是一種新型輸送機械,是當(dāng)前國內(nèi)最新穎一種泵類。采用壓縮空氣為動力源,對于各種腐蝕性液體,帶顆粒液體,高粘度、易揮發(fā)、易燃、劇毒液體,均能予以抽光吸盡。氣動隔膜泵其有四種材質(zhì):塑料、鋁合金、鑄鐵、不銹鋼。隔膜泵依照不同液體介質(zhì)分別采用丁晴橡膠、氯丁橡膠、氟橡膠、聚四氟乙烯、聚四六乙烯。以滿足不同顧客需要。安頓在各種特殊場合,用來抽送種常規(guī)泵不能抽吸介質(zhì),均獲得了滿意效果。
一、氣動隔膜泵合用場合
由于氣動隔膜泵具備以上特點,因此在世界上隔膜泵自從誕生以來正逐漸侵入其她泵市場,并占有其中一某些。如:噴漆、陶瓷業(yè)中隔膜泵已占有絕對主導(dǎo)地位,而在其她某些行業(yè)中,像環(huán)保、廢水解決、建筑、排污、精細(xì)化工中正在擴大它市場份額,并具備其她泵不可代替地位。氣動隔膜泵優(yōu)勢在于:
1、由于用空氣作動力,因此流量隨背壓(出口阻力)變化而自動調(diào)節(jié),合用于中高粘度流體。而離心泵工作點是以水為基準(zhǔn)設(shè)定好,如果用于粘度稍高流體,則需要配套減速機或變頻調(diào)速器,成本就大大提高了,對于齒輪泵也是同樣如此。
2、在易燃易爆環(huán)境中用氣動泵可靠且成本低,如燃料、火藥、炸藥輸送,由于:第一、接地后不也許產(chǎn)生火花;第二、工作中無熱量產(chǎn)生,機器不會過熱;第三、流體不會過熱由于隔膜泵對流體攪動最小。
3、在工地惡劣地方,如建筑工地、工礦廢水排放、由于污水中雜質(zhì)多且成分復(fù)雜,管路易于堵塞,這樣對電泵就形成負(fù)荷過高狀況,電機發(fā)熱易損。氣動隔膜泵可通過顆粒且流量可調(diào),管道堵塞時自動停止至?xí)惩ā?/p>
4、此外隔膜泵體積小易于移動,不需要地基,占地面極小,安裝簡便經(jīng)濟(jì)??勺鳛橐苿邮轿锪陷斔捅?。
5、在有危害性、腐蝕性物料解決中,隔膜泵可將物料與外界完全隔開。
6、或是某些實驗中保證沒有雜質(zhì)污染原料。
7、可用于輸送化學(xué)性質(zhì)比較不穩(wěn)定流體,如:感光材料、絮凝液等。這是由于隔膜泵剪切力低,對材料物理影響小。
二、氣動隔膜泵原理及特點
1、壓縮空氣為動力。
2、是一種由膜片往復(fù)變形導(dǎo)致容積變化容積泵,其工作原理近似于柱塞泵,由于隔膜泵工作原理特點,因而隔膜泵具備如下特點:
泵不會過熱:壓縮空氣作動力,在排氣時是一種膨脹吸熱過程,氣動泵工作時溫度是減少,無有害氣體排出。
不會產(chǎn)生電火花:氣動隔膜泵不用電力作動力,接地后又防止了靜電火花
可以通過含顆粒液體:由于容積式工作且進(jìn)口為球閥,因此不容易被堵。
對物料剪切力極低:工作時是怎么吸進(jìn)怎么吐出,因此對物料攪動最小,合用于不穩(wěn)定物質(zhì)輸送
流量可調(diào)節(jié),可以在物料出口處加裝節(jié)流閥來調(diào)節(jié)流量。
具備自吸功能。
可以空運營,而不會有危險。
可以潛水工作。
可以輸送流體極為廣泛,從低粘度到高粘度,從腐蝕性得到粘稠。
沒有復(fù)雜控制系統(tǒng),沒有電纜、保險絲等。
體積小、重量輕,便于移動。
無需潤滑因此維修簡便,不會由于滴漏污染工作環(huán)境。
泵始終能保持高效,不會由于磨損而減少。
百分之百能量運用,當(dāng)關(guān)閉出口,泵自動停機,設(shè)備移動、磨損、過載、發(fā)熱
沒有動密封,維修簡便避免了泄漏。工作時無死點。
高壓清洗機
高壓清洗機可行性分析報告
高壓清洗機原理
通過動力裝置使高壓柱塞泵產(chǎn)生高壓水來沖洗物體表面,水沖擊力不不大于污垢與物體表面附著力,高壓水就會將污垢剝離,沖走,從而達(dá)到清洗物體表面目。
高壓清洗機用途
用于沖洗各種機動車輛,設(shè)備,建筑物外墻、地坪、浴池、游泳池等。
高壓清洗機發(fā)展動態(tài)和市場分析
當(dāng)前高壓清洗機有著遼闊市場,每年國際市場需求量在四千萬臺,且市場需求量在不斷增大。在國內(nèi)市場當(dāng)前高壓清洗機市場還處在市場發(fā)育初期,對高壓清洗機使用并不普遍,但隨著人民生活水平提高,特別是汽車逐漸普及和人民居住生活環(huán)境逐漸改進(jìn),以及咱們同發(fā)達(dá)國家人員交往增長,國外生活方式對咱們影響也在增長,國內(nèi)高壓清洗機市場也在迅速擴大,市場需求迅速增長。
當(dāng)前高壓清洗機壓力在15Mpa以上高品位市場重要控制在德國K?rcher這樣國外公司手中,在10Mpa~15Mpa中端市場也重要控制在國外公司手中,在10Mpa如下低端市場國內(nèi)產(chǎn)品市場份額在迅速擴大,重要是低端產(chǎn)品技術(shù)含量較低,工藝規(guī)定不高,對整個生產(chǎn)管理規(guī)定也不高,較容易制作,國內(nèi)產(chǎn)品在性能和質(zhì)量上沒有大差別,且國內(nèi)在勞動力成本上有著巨大優(yōu)勢,國內(nèi)勞動力成本不到西方發(fā)達(dá)國家1/10,這同步也決定了國內(nèi)在基本原材料,能源價格上較西方發(fā)達(dá)國家低,從而決定了國內(nèi)產(chǎn)品在價格上優(yōu)勢。國內(nèi)生產(chǎn)清洗機公司近來三年得到了飛速發(fā)展,例如浙江安露清洗機有限公司產(chǎn)值不到3000萬,是8000萬,是1.2億,是1.8億,預(yù)測將超過2.5億,年產(chǎn)各種清洗機100萬臺以上,產(chǎn)品所有出口。上海美浩電器有限公司當(dāng)前高壓清洗出口量也在100萬臺/年以上,年銷售額2.5億以上。其她某些公司也在迅速發(fā)展,如寧波巨港機械有限公司,上海億力公司,蘇州熊貓公司。尚有其她某些公司不斷加入到清洗機這個行業(yè)中來。當(dāng)前國高壓清洗機公司生產(chǎn)產(chǎn)品重要集中在10Mpa如下低檔產(chǎn)品,其產(chǎn)品在技術(shù)和性能上差別不大,因此只能在價格上競爭,競爭成果是使產(chǎn)品利潤空間不斷縮小,當(dāng)前低檔產(chǎn)品利潤率在10%左右,其中處在優(yōu)勢公司重要依賴起規(guī)模效益和對客戶資源占有率。其賺錢是通過銷售量不斷增長來實現(xiàn)。當(dāng)前國外大公司已將重點轉(zhuǎn)移到10Mpa以上中、高檔產(chǎn)品上來,低檔產(chǎn)品在國外貼牌生產(chǎn),她們有著銷售網(wǎng)絡(luò),品牌,技術(shù),生產(chǎn)管理方面優(yōu)勢,而咱們國家產(chǎn)品普通是通過貼牌生產(chǎn)銷往國外,咱們普通沒有自己品牌,在國外也沒有自己銷售網(wǎng)絡(luò)。
咱們進(jìn)入高壓清洗機市場時機和如何介入這個市場
隨著世界經(jīng)貿(mào)一體化步伐加快,由于中華人民共和國在勞動力成本上同發(fā)達(dá)國家相比有著很大優(yōu)勢,同步也決定了國內(nèi)在基本原材料,能源價格上較西方發(fā)達(dá)國家低,世界制造業(yè)將進(jìn)一步向中華人民共和國轉(zhuǎn)移,由于咱們產(chǎn)品物美價廉,咱們正在成為世界工廠,有諸多國外公司到國內(nèi)來采購或貼牌生產(chǎn)產(chǎn)品,咱們運用國外公司銷售網(wǎng)絡(luò)使咱們產(chǎn)品大量走向世界,從而給咱們公司提供了巨大市場機會,咱們一定要抓住這一歷史機遇。咱們不能做當(dāng)前做得比較成功公司已經(jīng)做成熟產(chǎn)品,那樣咱們在技術(shù),成本和戶資戶源占有率都沒有優(yōu)勢,咱們要做有咱們特色產(chǎn)品,做她們沒有做新產(chǎn)品,或做不好產(chǎn)品。咱們介入市場切入點應(yīng)選在中高檔產(chǎn)品上,應(yīng)當(dāng)把目光盯在高壓清洗機領(lǐng)域先進(jìn)技術(shù)上,使咱們在技術(shù)上與世界先進(jìn)公司同步,雖然先進(jìn)技術(shù)與咱們在勞動力成本、原材料能源價格上優(yōu)勢相結(jié)合,制造出具備高性價比產(chǎn)品。
咱們要生產(chǎn)產(chǎn)品
1.壓力在6Mpa,流量6L/min,電機采用竄激電機,油缸與竄激電機直接連接,省去竄激電機與油缸連接用方板,該產(chǎn)品泵開發(fā)吸取了當(dāng)今世界上最大高壓清洗機生產(chǎn)廠德國K?rcher公司先進(jìn)技術(shù),泵頭采用了塑料材料,該材料是一種新材料,尺寸穩(wěn)定性好,強度高,原材料成本較金屬材料低。泵頭構(gòu)造形式與以往泵頭構(gòu)造形有很大變化,設(shè)計精致,更快湊,制作工藝性更好,更容易制造和對產(chǎn)品質(zhì)量進(jìn)行控制,生產(chǎn)效率更高,特別適合大批量生產(chǎn)。該泵總成成本要比以往用金屬材料制造泵頭總成成本低25元以上采用該泵效率也有所提高。該產(chǎn)品制導(dǎo)致本在190元/臺,銷售價在23美元(約合212元人民幣)。當(dāng)前采用竄激電機清洗機出貨量最大廠家使上海美浩電器有限公司,每年出貨量100萬臺以上,其銷售價格在25美元以上,咱們售價要比其低2美元以上。安露同性能感應(yīng)電機清洗機售價30美元。項目投資:模具費27萬元,產(chǎn)品認(rèn)證費6萬(GS認(rèn)證,3C認(rèn)證),場地費15萬/年,流水線,檢測設(shè)備費用15萬,辦公用品費用2萬(購買電腦等),流動資金70萬。
財務(wù)分析評價
1.由于世界制造業(yè)向中華人民共和國轉(zhuǎn)移,以及國內(nèi)對高壓清洗機需求逐年增長,高壓清洗機項目成長性較好。
2.量本利分析:經(jīng)預(yù)測,單位售價212元,單位變動成本190元,固定投資65萬元。保本量=固定投資/(單價—單位變動成本)=29545(臺)
3..該保本銷量與市場巨大需求相比是很小,因而該項目獲利性較好,保本安全系數(shù)大。一年內(nèi)即可收回所有投資,投資回收期短,投資風(fēng)險系數(shù)小。
2.高壓柱塞曲軸泵
該泵采用構(gòu)造形式與中低檔高壓清洗機采用斜盤式軸向柱塞泵不同,采用是曲軸式徑向柱塞構(gòu)造式,該泵開發(fā)吸取收當(dāng)今世界上最大高壓柱塞泵生產(chǎn)廠Interpump公司先進(jìn)技術(shù),采用潤滑式曲軸傳動、耐磨損陶瓷柱塞、鍛制黃銅或不銹鋼缸體,不銹鋼單向閥閥片和閥座,保證了持續(xù)長時間不間斷工作,且維護(hù)簡樸以便。產(chǎn)品壓力從10bar-400bar、流量從6L-125L/min。該泵特點是效率高,壓力流量大,耐用,缺陷是構(gòu)造復(fù)雜,制造工藝規(guī)定高,設(shè)計開發(fā)和制造有一定難度,當(dāng)前國內(nèi)還沒有一家公司批量生產(chǎn)這種泵,但已有某些廠家在進(jìn)行開發(fā)。該泵重要用來與電機和汽油機、柴油機相配,制造超高壓清洗機,超高壓清洗機廣泛應(yīng)用于洗車行,醫(yī)藥、食品、化工、機械、紡織、冶金、陶瓷、石油、賓館、酒店、物業(yè),市政等行業(yè),可對地面、設(shè)備、管道、建筑,、沖洗去除油污和污垢。配管道疏通裝置可進(jìn)行疏通管道里污垢或配噴沙裝置可對金屬、建筑表面進(jìn)行噴沙除銹除垢等。高壓柱塞曲軸泵和配高壓柱塞曲軸泵超高壓清洗機在國際市場銷路較好,市場利潤空間也較大。國內(nèi)市場當(dāng)前也被國外大公司產(chǎn)品占領(lǐng)。咱們當(dāng)前準(zhǔn)備生產(chǎn)壓力17Mpa,流量500L/h,功率5.5Hp(汽油機動力)超高壓清洗機,制導(dǎo)致本在1200元/臺,銷售價在200美元/臺(約合1869元人民幣),而國外市場零售價是400美元/臺。項目投資:模具費15萬元,場地費15萬/年,流
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