《金相分析基礎(chǔ)》-課件：金相試樣制備常見的問題及解析

金相分析基礎(chǔ)金相試樣制備常見的問題及解析一、磨面不平?

指試樣磨面出現(xiàn)多個平面或者有弧面?

產(chǎn)生原因是磨制過程中用力不均。?

這種缺陷的組織圖像特點是整個視場中只有部分區(qū)域組織清晰。一、磨面不平?

避免：在磨制中需要單程磨制，輕按?

試樣頂面勻速推動，時刻保證試樣平穩(wěn)。?

消除：若有局部出現(xiàn)坡面則在此處適當增加力度。二、曳尾產(chǎn)生曳尾的原因，一方面是長時間單方向拋光，使材料中的某種組織沿拋光方向變形；另一方面是拋光的壓力過大導(dǎo)致試樣與拋光布和拋光膏之間的摩擦力過大，使試樣中較軟的組織組成物被拽出但又不能在離心力的作用下被消除。曳尾的關(guān)鍵工序是拋光。二、曳尾避免：剛開始拋光時握穩(wěn)試樣輕壓在拋光盤的中心，沿徑向移動到拋光盤邊緣以增加線速度，當握持試樣穩(wěn)定后適當增加拋光壓力，并逆著拋光盤的方向自轉(zhuǎn)試樣，在拋光即將結(jié)束時，在旋轉(zhuǎn)試樣的同時緩慢地使試樣從拋光盤的邊緣向中心移動并保持旋轉(zhuǎn)以降低拋光線速度，同時緩慢減小壓力至中心時幾乎力為0，并從拋光盤的中心提起試樣。三、嵌入?

指硬的研磨顆粒固定在軟試樣的表面的現(xiàn)象。?

小顆粒比大顆粒更容易嵌入。?

消除：降低拋光載荷、轉(zhuǎn)速和時間。避免使用粒度小的SiC砂紙和金剛石懸浮液。?

（例如3μm的金剛石拋光膏比懸浮液避免嵌入的效果要好的多）四、劃痕?

指試樣表面的線性凹槽。?

劃痕主要是磨制和拋光過程中形成的，磨制過程中砂紙上脫落的砂粒易在試樣表面留下較深的劃痕；如果磨制時的砂粒帶到了拋光布或拋光劑上也會產(chǎn)生新的劃痕?；驋伖鈺r間過短未消除最細一號砂紙留下的劃痕。四、劃痕?

為了消除劃痕，粗磨時間應(yīng)較長，以徹底消除切割試樣留下的變形層?

更換砂紙時，一定要清理干凈玻璃板，試樣旋轉(zhuǎn)90°，每一號砂紙應(yīng)將上一號砂紙留下的劃痕消除。五、拔出?

指試樣第二相微粒被除去（無論第二相微粒比基體硬還是軟）的現(xiàn)象原因：在SiC砂紙上研磨時間過長，拋光時間過長，載荷過大。消除：使用無絨拋光布，降低拋光載荷，使用合適的潤滑劑六、污染指試樣磨光、拋光時研磨顆?；驖櫥瑒┑慕换プ饔孟?，污染物殘渣會聚集在第二相微粒周圍?；蛘哂捎谇鍧嵒蚋稍锊划?，腐蝕劑和溶劑的交互作用下，污染物殘渣聚集在基體周圍。六、污染指試樣磨光、拋光時研磨顆?；驖櫥瑒┑慕换プ饔孟?，污染物殘渣會聚集在第二相微粒周圍?；蛘哂捎谇鍧嵒蚋稍锊划?，腐蝕劑和溶劑的交互作用下，污染物殘渣聚集在基體周圍。六、污染消除：重新拋光腐蝕。拋光前，試樣和拋光布都要清洗干凈。腐蝕后用酒精沖洗磨面并熱風吹干。七、表面變形表面變形是在切割試樣時冷加工留下的，后面磨拋過程中如果用力過大，拋光時間過長，也會產(chǎn)生變形。變形是一種特別嚴重的缺陷和假象。七、表面變形消除：磨制時用力適當，增加粗磨時間，細磨和拋光時不要用力過大（以免產(chǎn)生新的變形），拋光時間不要過長，可采用腐蝕和拋光交替進行的方法。八、腐蝕過淺?

原因：腐蝕時間短，肉眼看試樣磨面還很光亮?

特點：顯微鏡下觀察組織襯度不明顯，組織顯示不清晰，例如圖中是60鋼的平衡組織（F+P），在500倍放大倍數(shù)下，區(qū)分不到晶界和珠光體的片層組織。?

消除：繼續(xù)腐蝕，看到磨面變灰色，停止腐蝕用流水沖洗干凈。九、腐蝕過深?

原因：腐蝕時間過長，肉眼看試樣磨面呈深灰色甚至是黑色。?

特點：顯微鏡下觀察組織襯度也不明顯，組織顯示模糊一團不清晰，例如上圖中是60鋼的平衡組織（F+P），在500倍放大倍數(shù)下，同樣區(qū)分不到晶界，甚至不能確定組織類型。?

下圖是工業(yè)純鐵的過腐蝕組織，出現(xiàn)雙晶界。九、腐蝕過深?

原因：腐蝕時間過長，肉眼看試樣磨面呈深灰色甚至是黑色。?

特點：顯微鏡下觀察組織襯度也不明顯，組織顯示模糊一團不清晰，例如上圖中是60鋼的平衡組織（F+P），在500倍放大倍數(shù)下，同樣區(qū)分不到晶界，甚至不能確定組織類型。?

下圖是工業(yè)純鐵的過腐蝕組織，出現(xiàn)雙晶界。九、腐蝕過深?

消除：重新拋光再腐蝕。腐蝕時觀察磨面變灰，馬上流水沖洗干凈，再酒精沖洗，吹干。嚴重的過腐蝕要用細砂紙磨再拋光腐蝕。優(yōu)質(zhì)金相試樣優(yōu)質(zhì)金相試樣的磨面組織：①組織清晰、晶界明顯、浸蝕均勻適度；②無假象、無劃痕、無水跡、無嵌入、無坑點、無曳尾；