第7章 特征操作.ppt

1、1,第七章 特征操作,特征操作是對已創(chuàng)建特征模型進行局部修改，從而對模型進行細化，即在特征建模的基礎(chǔ)上增加一些細節(jié)的表現(xiàn)，因此有時也叫細節(jié)特征。通過特征操作，可以用簡單的特征創(chuàng)建比較復(fù)雜的特征實體。,2,常用特征操作,細節(jié)特征: 邊緣倒圓、邊緣倒角、面倒圓、軟倒圓和拔錐等。 相關(guān)復(fù)制：WAVE幾何鏈接器、抽取、合成曲線、特征引用陣列、鏡像特征、鏡像體、幾何體引用陣列和提升體等。 組合體：布爾求和、求差與求交；縫合與補片體等。 修剪：修剪體、修剪片、修剪與延伸等。 偏置與比例：偏置面、比例體與殼（挖空）等。,3,邊倒圓,邊倒圓操作功能就是按照用戶指定的半徑值對預(yù)選的實體邊進行倒圓操作，以產(chǎn)生平滑

2、過渡。 在【特征操作】工具欄中單擊按鈕或選擇菜單命令【插入】/【細節(jié)特征】/【邊倒圓】。UG NX 6共提供了3種邊倒圓的方式。,4,邊倒圓,5,思考練習(xí),【練習(xí)7-1】邊倒圓edge_blend_1.prt,Tangent Curves,Face Edges,6,思考練習(xí),【練習(xí)7-2】編輯邊倒圓blend_edit_dryer.prt,Edge Blend (24),Edge Blend (25),Edge Blend (26),7,邊倒角,邊倒角功能是在選定的兩組面之間進行倒角操作，并可對面進行裁剪操作。 在【特征操作】工具欄中單擊按鈕或選擇菜單命令【插入】/【細節(jié)特征】/【倒斜角】。,

3、對稱,非對稱,偏置和角度,8,思考練習(xí),【練習(xí)7-3】建立倒角chamfer_1.prt,Offset and Angle Offset =1.75 Angle = 30,Asymmetric Distance 1 = .25 Distance 2 = .5,9,拔模,拔模是將指定特征模型的表面或邊沿指定的方向傾斜一定的角度。 在【特征操作】工具欄中單擊按鈕或選擇菜單命令【插入】/【細節(jié)特征】/【拔?！俊?10,拔模,從平面拔錐,從邊緣拔錐,11,拔模,相切到面,到分模邊緣,12,思考練習(xí),【練習(xí)7-4】拔模draft.prt,設(shè)計意圖是： 當前部件底部（1）和凸墊頂部（2）的尺寸必須維持不變

4、。 在所有外部表面上作用一10度拔錐。 拔模方向必須關(guān)聯(lián)到部件底部（1）和凸墊頂部（2）。 圓形凸臺（3）的外頂端點須保持在當前位置不變。 作用一5度拔錐到內(nèi)部孔。維持開口(4)的尺寸,Angle =10,13,思考練習(xí),14,面倒圓,面倒圓操作功能就是在用戶選取的表面之間創(chuàng)建一個相切于選取表面的倒圓特征。 在【特征操作】工具欄中單擊或選擇菜單命令【插入】/【細節(jié)特征】/【面倒圓】。,15,軟倒圓,軟倒圓與面倒圓的操作基本相同，不同之處在于面倒圓可指定圓角類型及半徑方式，而軟倒圓則需要根據(jù)兩相切曲線以及圓角形狀控制參數(shù)來決定倒圓面的形狀。 在【特征操作】工具欄中單擊按鈕或選擇菜單命令【插入】/

5、【細節(jié)特征】/【軟倒圓】。,16,實例特征,實例特征操作可以是對已有特征產(chǎn)生陣列（矩形陣列或環(huán)形陣列）、圖樣面等操作。實例操作產(chǎn)生的特征實際上是按照用戶設(shè)置的特征分布位置實現(xiàn)對已有特征的復(fù)制，這些實例特征對象稱為特征的成員，當修改其中任何一個成員特征的參數(shù)時，所有成員特征的參數(shù)均會得到更新。 注意: 1、有布爾操作的特征的引用陣列必須與父實體保持相交。 2、不能建立下列特征的引用：殼(控空)、倒圓、倒角、偏置片體、基準、修剪的片體、拔錐、修剪體等特征與自由形狀特征。,17,實例特征,在【特征操作】工具欄中單擊按鈕或選擇菜單命令【插入】/【關(guān)聯(lián)復(fù)制】/【實例特征】。在其中通過選擇不同的實例方式，

6、可以完成特征不同的實例操作。系統(tǒng)共提供了3種不同的實例操作方式。,18,矩形引用陣列,矩形引用陣列用于從一個或多個選擇的特征建立一線性的引用陣列。 矩形引用陣列或是建立在XC和YC中的兩維(幾行特征)中 或是建立在XC或YC中的一維(一行特征)中， 這些引用陣列基于加入的數(shù)和偏置距離、平行于XC和/或YC軸生成。 1. XC和YC方向的引用數(shù)必須是大于零的整數(shù)。 2. 偏置值可以是正或負。,19,矩形引用陣列,20,思考練習(xí),【練習(xí)7-5】矩形引用陣列instance_arrary_1.prt,Orient,Method = General Number Along XC = 2 XC Off

7、set = 1.25 Number Along YC= 3 YC Offset = 0.687,21,圓形引用陣列,1. 引用數(shù)必須是大于零的整數(shù)。 2. 角度值可以是正或負。,22,思考練習(xí),【練習(xí)7-6】圓形引用陣列instance_array_2.prt,Extrude (5) Boss (6) Boss (7) Extrude (9) Simple Hole (12),Method = General Number = 3 Angle = 120,Edit Parameters: Number = 4 Angle = 90,Cross Section = Symmetric Dista

8、nce = 1.5 Chamfer All Instance = ON,23,鏡像體,該功能用于以用戶選取的基準平面來鏡像所選的實體特征。 如果在原來體中的特征參數(shù)改變, 引起原來體改變, 這些改變也將反映在鏡像體中。 如果編緝相關(guān)基準面參數(shù)，鏡像體會相應(yīng)改變。 如果刪除原物體或基準面, 鏡像體也被刪除。 如果移動原來體, 鏡像體也會移動。 可以添加特征到鏡像體。 可以利用Unite操作來組合原物體和鏡像體以建立一對稱的模型。,24,鏡像體,在【特征操作】工具欄中單擊按鈕或選擇菜單命令【插入】/【關(guān)聯(lián)復(fù)制】/【鏡像體】。 如果勾選“固定于當前時間戳記”，那么在鏡像體之后，對原來體做的任何修改都

9、不反映在鏡像體中，該選項默認設(shè)置為勾選。,25,思考練習(xí),【練習(xí)7-7】鏡像體mirror_hair_dryer.prt,26,修剪體,利用一個表面、基準面或其它幾何體去修剪一個或多個目標體，被修剪的體取得修剪幾何體的形狀。 所有參數(shù)化信息被保留。 必須選擇至少一個的目標體，即使只有一個可能的目標體時。 可以選擇單個面、同一實體的多個面或基準面去修剪目標體。 在【特征操作】工具欄中單擊按鈕或選擇菜單命令【插入】/【修剪】/【修剪體】。,27,修剪體,28,思考練習(xí),【練習(xí)7-8】修剪體trim_body.prt,29,殼,利用殼命令按照用戶指定的厚度對一個實體進行挖空操作或圍繞它建立一殼體。 在【特征操作】工具欄中單擊圖標或選擇菜單命令【插入】/【偏置/縮放】/【抽殼】。,30,思考練習(xí),【練習(xí)7-9】 建立一殼體shell_hair_dryer.prt,31,思考練習(xí),【練習(xí)7-10】 建立殼與編輯方向shell_face_selection.prt,32,思考練習(xí),【練習(xí)7-11】 具有不同壁厚的殼體shell_alternate_thickness.prt,Tangent Faces,Alternate Thickness,33,思考練習(xí),【練習(xí)