CREO經(jīng)典陣列實(shí)例解析(高級(jí)篇)

1、落楓之影原創(chuàng) CREO 教程-1-CREO 陣列經(jīng)典實(shí)例解析（高級(jí)篇）BY 落楓之影（）一陣列的定義：通過(guò)重復(fù)復(fù)制、改變某一個(gè)（或一組）特征的指定尺寸，根據(jù)設(shè)定的變化規(guī)律和數(shù)量，自動(dòng)生成一系列具有參數(shù)相關(guān)性的特征(組）在 CREO 軟件中，陣列的方式有以下八種：1.尺寸陣列 ：需選取特征尺寸，并指定這些尺寸的增量變化以及陣列中特征實(shí)體數(shù)。2.方向陣列：需選取平整面、線(xiàn)、軸來(lái)定義方向，同時(shí)也可以使用特征尺寸增量來(lái)控制陣列實(shí)體的形狀及位置的變化。3.軸陣列：通過(guò)圍繞一個(gè)選定的旋轉(zhuǎn)軸（基準(zhǔn)軸等）創(chuàng)建特征副本的陣列方式。4.填充陣列：指定的物體表面或部分表面區(qū)域，生成均勻的陣列。5.表陣列：使用表格的

2、方式設(shè)定陣列特征的空間尺寸和本身尺寸。6.參考陣列：借助已有的陣列實(shí)現(xiàn)新陣列的方法，參考陣列操作對(duì)象必須與已有陣列的源實(shí)體有定位尺寸關(guān)系。7.曲線(xiàn)陣列;指定陣列成員間距離或成員個(gè)數(shù)，來(lái)沿著草繪曲線(xiàn)創(chuàng)建其陣列特征。8.點(diǎn)陣列：通過(guò)創(chuàng)建基準(zhǔn)點(diǎn)或草繪幾何點(diǎn)來(lái)創(chuàng)建其陣列特征。溫馨提示：1.陣列特征不能直接使用【刪除】命令來(lái)刪除，因?yàn)檫@樣會(huì)連你的原始特征也一起刪掉，如果要保留原始特征，請(qǐng)使用【刪除陣列】命令來(lái)刪除2.陣列預(yù)覽中的黑點(diǎn)代表要進(jìn)行陣列的位置，單擊黑點(diǎn)將其變成白點(diǎn)，表示此位置不需要陣列。3.若陣列的特征有多個(gè)，需將這些特征編組，然后再進(jìn)行陣列-1-。落楓之影原創(chuàng) CREO 教程-2-二CREO

3、 軟件陣列操作界面三需要使用關(guān)系來(lái)控制陣列時(shí)，你會(huì)用到以下符號(hào):memb_v - 指定方向中的關(guān)系驅(qū)動(dòng)最終尺寸memb_i - 指定方向中的關(guān)系驅(qū)動(dòng)增量lead_v - leader 值(選擇尺寸確定方向)-陣列實(shí)例索引在第一方向(代表當(dāng)前實(shí)例特征在陣列中的位置，其值從0 開(kāi)始，第一方向第一個(gè)實(shí)例特征 idx1=0,第五個(gè)實(shí)例特征 idx1=4）-陣列實(shí)例索引在第二方向(同上，只是方向不同而已）不能在同一關(guān)系中使用 memb_v 和 memb_i，這些符號(hào)所代表的含義我將會(huì)在下面的這些實(shí)例中詳細(xì)說(shuō)明。-2-idx1idx2落楓之影原創(chuàng) CREO 教程-3-四實(shí)例解析:1.隨形陣列解析：陣列成員

4、的高度隨曲線(xiàn)的波動(dòng)而變化，技巧就在于草繪特征截面時(shí)讓其與曲線(xiàn)連系起來(lái)。A.先草繪一條曲線(xiàn)B.選擇拉伸工具，在原草繪平面中繪制矩形截面-3-落楓之影原創(chuàng) CREO 教程-4-C.直接陣列拉抻特征即可。剛才上面講到的是到曲線(xiàn)，下面這種則是到面面，操作更簡(jiǎn)單。-4-落楓之影原創(chuàng) CREO 教程-5-解析：直接拉伸到選定曲面，然后陣列即可，這里就不做詳細(xì)說(shuō)明了，只要注意一下草繪截面與參考基準(zhǔn)的位置尺寸。-5-落楓之影原創(chuàng) CREO 教程-6-2.方向陣列及軸陣列相信很多朋友都見(jiàn)到過(guò)此題，現(xiàn)在我就重點(diǎn)講解如何陣列完成上圖的臺(tái)階。解析：整個(gè)樓梯臺(tái)階呈 360 度旋轉(zhuǎn)，高度從圓柱最使低位置到最高位置，題目解

5、法很多，無(wú)論解法多少，思路都一樣，一個(gè)旋轉(zhuǎn)角度和一個(gè)高度變化。方法一：軸陣列+高度尺寸增量（注意此高度尺寸必須為位置尺寸，如果你選擇樓梯板的厚度作為高度尺寸增量，那么每一級(jí)臺(tái)階厚度為疊加尺寸，這種效果相對(duì)于圖片上的來(lái)還是比較現(xiàn)實(shí)，但我們要的是圖片效果）在這里，我新建的一個(gè)基準(zhǔn)面，然后在基準(zhǔn)面上繪制臺(tái)階，最后再使用軸陣列，通過(guò)陣列基準(zhǔn)面的位置尺寸來(lái)控制臺(tái)階高度變化，完成如下圖（建議將創(chuàng)建基準(zhǔn)面的工作放在拉伸臺(tái)階的特征內(nèi)完成）-6-落楓之影原創(chuàng) CREO 教程-7-方法二;方向陣列+角度尺寸增量（還是一樣，角度尺寸必須是位置尺寸,方能完成上圖效果）d152 是一個(gè)角度定位尺寸，其值為 360*5/

6、100=18 度（100 為圓柱的高度，5 是臺(tái)階的高度）如下圖所示。在使用陣列尺寸的時(shí)候，我們必須清楚知道自己陣列的尺寸是位置尺寸的還是形狀尺寸，位置尺寸只控制陣列后成員位置的變化，而形狀尺寸則會(huì)改變成員的原始外形。-7-落楓之影原創(chuàng) CREO 教程-8-3.關(guān)系陣列（尺寸陣列）關(guān)系陣列是本次陣列教程中的重點(diǎn)，以下講解內(nèi)容都是比較常見(jiàn)的，包含尺寸陣列、數(shù)字陣列、行為建模中刻度的陣列以及字符串陣列。A.尺寸陣列（關(guān)系應(yīng)用）解析：此題是兩個(gè)方向陣列，第一方向特征呈波形曲線(xiàn)排布且圓柱直徑由大到小，高度由低到高第二方向特征呈直線(xiàn)均勻排布，無(wú)論直徑大小，高度都一樣再看下圖-8-落楓之影原創(chuàng) CREO

7、教程-9-第一方向的尺寸A.控制圓柱呈曲線(xiàn)排布的尺寸 1（初始值為 50），這里需要用到參數(shù)B.控制圓柱直徑變化的尺寸 3 (初始值為 30）C.控制圓柱高度變化的尺寸 4（初始值為 20）D 控制圓柱第一方向間距大小的尺寸 2（初始值為 40）第二方向的尺寸A.控制圓柱在第二方向間距大小的尺寸 1（初始值為 50）選中尺寸 1，勾選【按關(guān)系定義增量】輸入關(guān)系式 memb_v=lead_v+25*sin(45*idx1)現(xiàn)在我們一起來(lái)看一下這個(gè)關(guān)系式的意思。Memb_v 前面有記載是關(guān)系驅(qū)動(dòng)最終尺寸的參數(shù)符號(hào)，lead_v 是導(dǎo)引尺寸參數(shù)符號(hào)，就是你選取的原始尺寸值，比如說(shuō)此題我選擇尺寸 d2

8、82，而 d282 原始尺寸值為 50，那么在此尺寸下編輯的關(guān)系中，lead_v 值恒為 50。你可以將 lead_v 改為 50，其結(jié)果是不會(huì)發(fā)生變-9-落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 10 -化，25*sin（45*idx1),其中 25 是振幅，Idx1 是陣列實(shí)例在第一方向的位置，比如說(shuō)第二個(gè)陣列實(shí)例吧，那么它的最終尺寸值是 50+25*sin(45*1)，也就是說(shuō)第二個(gè)圓柱的圓心到板的邊緣尺寸值為 50+25*sin(45*1)。為了方便大家理解，在這里我用一簡(jiǎn)圖來(lái)表達(dá)這些符號(hào)的意思。- 10 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 11 -B.數(shù)字陣列解析：本題難點(diǎn)在于數(shù)字的變化及均勻排

9、布在圓周之上，方法有很多，這里介紹一種常規(guī)的解題思路進(jìn)入草繪，在草繪中設(shè)置字符符參數(shù)使用文本工具，將文體行設(shè)為使用參數(shù)- 11 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 12 -尺寸陣列，如下圖所示。在鐘表表盤(pán)上的數(shù)字除了圓形排布外，還有一種方形排布的，那又該如何解決呢？- 12 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 13 -解析：要完成上圖數(shù)字陣列，需借助參考曲線(xiàn)，讓數(shù)字只能繞參考曲線(xiàn)均布。草繪一條曲線(xiàn)，如下圖所示在這里我們要將此曲線(xiàn)合并成一條曲線(xiàn)鏈，你可以使用造型或者復(fù)制工具完成- 13 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 14 -溫馨提示：?jiǎn)⒂脧?fù)制工具的方法是：選中草繪曲線(xiàn)在草繪曲線(xiàn)上點(diǎn)擊至加粗Ctr

10、l+C 打開(kāi)復(fù)制面板使用先前草繪平面，再次進(jìn)入草繪平面，選取復(fù)制曲線(xiàn)作為參考，在其上輸入文本，將文本行改為使用參數(shù)（詳細(xì)可參考上例）使用關(guān)系，在關(guān)系窗口中輸入 a=itos(floor(sd0/30)(此關(guān)系式控制數(shù)字變化）完成草繪后，陣列即可- 14 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 15 -完成后，如下圖所示- 15 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 16 -C.關(guān)于刻度陣列解析：此題難點(diǎn)在于控制刻度長(zhǎng)短，由于這些刻度一端在圓周上，而另一端變化有規(guī)律，因此我們需繪制兩個(gè)構(gòu)造圓，通過(guò)控制構(gòu)造圓直徑的變化來(lái)更改刻度長(zhǎng)短先草繪一條刻度再陣列這個(gè)刻度- 16 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 17

11、 -關(guān)系式并不難理解，這里不作詳細(xì)解釋行為建模中也有使用陣列來(lái)繪制刻度- 17 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 18 -解析：這道題目主要通過(guò)分析工具，測(cè)量瓶體體積，然后在其上按實(shí)際體積標(biāo)上刻度關(guān)于行為建模內(nèi)容，三言?xún)烧Z(yǔ)無(wú)法說(shuō)清楚，所以只講解陣列刻度部分，其實(shí)方法同上例一樣。先選取一個(gè)平面草繪第一條刻度然后將刻度投影到瓶子表面，再將刻度草繪和投影編組陣列- 18 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 19 -4.曲面 U-V 線(xiàn)陣列解析：此例是在曲面的 UV 線(xiàn)交點(diǎn)上陣列出高度不等的圓柱體。邊界混合平面與填充平面的 UV 線(xiàn)是不相同的。填充平面的 UV 線(xiàn)是相互垂直直線(xiàn)，所以在這里我使用邊界混合

12、來(lái)繪制平面。a.在同一個(gè)平面上草繪四條曲線(xiàn)（分開(kāi)草繪）- 19 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 20 -b.使用邊界混合工具，創(chuàng)建平面c.選擇造型工具，創(chuàng)建兩條曲面上的曲線(xiàn)，按下圖設(shè)置其軟件位置接著選擇相切控制面板，將約束更改為沿 U 方向（如果你更改的是另一條曲線(xiàn)，那么就將約束設(shè)置為沿 V 方向）- 20 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 21 -再選擇曲線(xiàn)的另一端點(diǎn)，按下圖修改軟點(diǎn)參數(shù)然后就是切點(diǎn)約束- 21 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 22 -另一條曲線(xiàn)也是同樣設(shè)置，就不重復(fù)講解了。- 22 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 23 -d.確定退出造型工具后，然后在這兩條曲線(xiàn)交點(diǎn)處

13、拉抻一個(gè)直徑為 30mm 的圓柱將造型與拉抻特征編組，為陣列作準(zhǔn)備e.陣列，選擇尺寸陣列，將 UV 兩條曲線(xiàn)分別作為陣列的兩個(gè)方向，在第一方向選擇U 曲線(xiàn)的兩端軟點(diǎn)參數(shù)值，如果參數(shù)值為 0.1，那么增量設(shè)置為 0.1，如果參數(shù)值為 0.9，那么增量值設(shè)置為-0.1（其軟點(diǎn)參數(shù)值的取值范圍為 01），在第二方向選擇 V 曲線(xiàn)的兩端軟點(diǎn)參數(shù)值，增量設(shè)置方法和 U 曲線(xiàn)一樣。將兩個(gè)方向陣列成員數(shù)均設(shè)為 9。在此陣列中我還在第一方向加入了高度的關(guān)系變化，第二方向加入直徑的增量。很大程度上提高了陣列的難度。足夠讓人深思！- 23 -，落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 24 -第一方向中圓柱高度添加了關(guān)系

14、memb_v=10+idx1*idx2*2確定并退出陣列。此題方法并不是唯一的，下面為大家介紹另一種方法獲取 UV 線(xiàn)a 還是同一平面上分別草繪 4 條曲線(xiàn)。(參考第一種方法）b.選擇一條草繪曲線(xiàn)，在其上創(chuàng)建基準(zhǔn)點(diǎn)- 24 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 25 -c.選擇此曲線(xiàn)相鄰曲線(xiàn)，在其上創(chuàng)建另一基準(zhǔn)點(diǎn)。- 25 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 26 -d.使用修剪工具，將曲線(xiàn)從基準(zhǔn)點(diǎn)處斷開(kāi)。- 26 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 27 -e.使用邊界混合創(chuàng)建平面UV 線(xiàn)已經(jīng)創(chuàng)建完畢，下面的工作就是在其交點(diǎn)處繪制圓柱，再將其陣列即可。詳細(xì)請(qǐng)參考第一種方法。- 27 -落楓之影原創(chuàng)

15、CREO 教程- 28 -5.表陣列解析:此題有點(diǎn)難度，主要是表格的制作有些繁瑣，我們要通這個(gè)表格再給陣列成員指定位置。需要注意的是陣列成員形狀沒(méi)有發(fā)生變化只是位置變動(dòng)而已，所以在草繪時(shí)注意位置尺寸的標(biāo)注。A.創(chuàng)建一個(gè)基準(zhǔn)面（最好用 TOP 面創(chuàng)建偏移基準(zhǔn)面，當(dāng)時(shí)自己做此題沒(méi)注意，選了 RIGHT 面作為偏移參考，結(jié)果肯定是沒(méi)有什么影響，當(dāng)你點(diǎn)標(biāo)準(zhǔn)方向的時(shí)候就很頭痛啦）- 28 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 29 -B.選擇剛創(chuàng)建的基準(zhǔn)平面作為拉伸特征的草繪平面，繪制如圖截面C.然后將基準(zhǔn)平面和拉伸特征打包編組，再使用陣列工具- 29 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 30 -選擇編輯表格

16、，在表格中輸入正方體的位置尺寸其實(shí)這個(gè)表格不難理解我們可以把這三個(gè)尺寸理解為三維空間中的 XYZ 軸，D1137 就是 Z 軸，D1172 和 D1171 是XY 軸。當(dāng)這三個(gè)值均為 0 時(shí)，那么此點(diǎn)就是這個(gè)三維空間的坐標(biāo)原點(diǎn)。如果這個(gè)沒(méi)有問(wèn)題的話(huà)，那么下面這一個(gè)呢？- 30 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 31 -解析：同上題做法一樣，一個(gè)基準(zhǔn)平面和一個(gè)拉伸特征再加上表陣列完成1.創(chuàng)建基準(zhǔn)平面，參考選擇 TOP 平面。2.在剛創(chuàng)建的基準(zhǔn)平面上拉伸邊長(zhǎng)為 99 的正方體，草繪截面如下圖所示3.編組陣列- 31 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 32 -編輯表格- 32 -落楓之影原創(chuàng) CRE

17、O 教程- 33 -6.填充陣列填充陣列的操作界面，如下圖所示CREO 軟件提供了 6 種填充排列方式，分別是正方形、菱形、六邊形、圓形、螺旋形、沿曲線(xiàn)，所以其應(yīng)用范圍比較廣，操作比較簡(jiǎn)單填充陣列的應(yīng)用解析：最常規(guī)的解法：在圓形薄板上填充正六邊形孔，然后使用鈑金中的成型工具完成（以前做此題時(shí)我是在實(shí)體中陣列孔后,再轉(zhuǎn)到鈑金中沖壓，所以才有上圖的模型樹(shù)，其實(shí)根本沒(méi)這個(gè)必要，可直接在鈑金件中完成)1.創(chuàng)建平面壁，繪制直徑為 500 的圓形截面。厚度為 2mm2.在平面壁上任意位置裁剪出一個(gè)正六邊形孔（填充陣列不需考慮初始特征的- 33 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 34 -位置）3.使用填充陣

18、列。4.使用成型工具（曲于沖壓的形狀特殊，所以我們要自己繪制一個(gè)沖孔模型，如下圖所示 ）使用自定義的沖孔模型來(lái)沖壓零件- 34 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 35 -再看下一例，此例也是通過(guò)填充陣列完成的解析：球面上的小正方體，可以使用偏移工具完成，然后面使用填充陣列即可。1.點(diǎn)選已繪制好直徑為 100 的球體表面，使用偏移工具- 35 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 36 -2.選擇偏移特征，陣列映射到曲面空間：陣列導(dǎo)引被直接投影到曲面上，陣列成員會(huì)從草繪平面映射到曲面空間，曲面間距與草繪間距匹配。按照投影：陣列導(dǎo)引和陣列成員直接投影到曲面，間距不會(huì)進(jìn)行調(diào)整，不能投影到曲面上的陣列成員

19、將會(huì)從陣列中移除映射到曲面 UV 空間：陣列成員會(huì)從草繪平面映射到曲面的 UV 空間- 36 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 37 -7.曲線(xiàn)陣列曲線(xiàn)陣列操作界面，如下圖所示曲線(xiàn)陣列同填充陣列中的沿曲線(xiàn)排列類(lèi)似，操作比較簡(jiǎn)單。此例是臨時(shí)做教程的時(shí)候隨手畫(huà)的，目的在于講解曲線(xiàn)陣列的應(yīng)用。解析：本例涉及到的知識(shí)點(diǎn)有曲線(xiàn)方程、變截面掃描、隨形曲線(xiàn)陣列。A.輸入我們所要的星形曲線(xiàn)方程（你也可以在草繪中繪制一個(gè)星形曲線(xiàn)）- 37 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 38 -B.新建基準(zhǔn)平面，在平面上草繪兩個(gè)圓C.使用變截面掃描工具。草繪截面，配合關(guān)系函數(shù)。- 38 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 39 -D.使用拉伸工具，繪制一個(gè)直徑為 1 的圓柱，深度選擇拉伸到曲面E.曲線(xiàn)陣列- 39 -落楓之影原創(chuàng) CREO 教程- 40 -8.參考陣列參考陣列一般情況下都是呈不可用狀態(tài)，除非它所陣列的對(duì)象和先前已有陣列的源實(shí)體有定位尺寸關(guān)系。當(dāng)你選擇要陣列的特征與先前陣列的特