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1、技術(shù)資料來源于萊特萊德哈爾濱超純水設(shè)備環(huán)境工程公司清洗配件的超純水設(shè)備原理清洗配件的超純水設(shè)備原理;設(shè)備概述設(shè)備概述半導(dǎo)體清洗用超純水設(shè)備主要運(yùn)用在半導(dǎo)體清洗行業(yè)，該設(shè)備采用先進(jìn)的反浸透技術(shù)和EDI技術(shù)，保證設(shè)備的質(zhì)量和出水水質(zhì)。該設(shè)備整體采用先進(jìn)的不銹鋼材質(zhì)，抗腐蝕才干強(qiáng)，同時(shí)也不會(huì)出現(xiàn)生銹問題，質(zhì)量可靠，遭到用戶的一致好評(píng)。;任務(wù)原理任務(wù)原理EDI安裝將離子交換樹脂充夾在陰/陽(yáng)離子交換膜之間構(gòu)成EDI單元。EDI任務(wù)原理如以下圖所示。EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開，構(gòu)成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極。在直流電的推進(jìn)下，經(jīng)過淡水室水流中的陰陽(yáng)離子分別穿過陰陽(yáng)離子交換膜

2、進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。;任務(wù)原理任務(wù)原理而經(jīng)過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水. EDI設(shè)備普通以反浸透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電導(dǎo)率普通是40-2S/cm(25)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18 M(25)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2M(25)的純水。;設(shè)備圖片;制備工藝制備工藝1、預(yù)處置系統(tǒng)反浸透系統(tǒng)中間水箱粗混合床精混合床純水箱純水泵紫外線殺菌器拋光混床精細(xì)過濾器用水點(diǎn)。(18M)(傳統(tǒng)工藝)2、預(yù)處置反浸透中間水箱水泵EDI安裝純化水箱純水泵紫外線殺菌器拋光混床0.2或0.5m精細(xì)過濾器用水點(diǎn)。(18M)(最新工藝);制備工藝制備工藝3、預(yù)處置一級(jí)反浸透加藥機(jī)(PH調(diào)理)中間水箱第二級(jí)反浸透(正電荷反滲膜)純水箱純水泵EDI安裝紫外線殺菌器0.2或0.5m精細(xì)過濾器用水點(diǎn)。(17M)(最新工藝)4、預(yù)處置反浸透中間水箱水泵EDI安裝純水箱純水泵紫外線

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