例行簡易操作步驟(精)

1、JEM-2010例行簡易操作步驟確定 SIP VACUUM < 5 X 10 -5 Pa 4. FILAMENT ONi 2.升壓加200KV5.檢查試片位置是否歸零確定SF6氣壓6. 確定D V值為+0ii設定 MAG X 40KTEM 1-3 OR 2-3YES檢查DV是否為0P AGE-1NOIj 調整 OBJ FOCUS KNOB 使 DV= +0YESBEAM是否在NO使用Bright-Tilt - Shift X. Y 調至中央11SCREEN CENTER ?YESi TEM 1-3 時調GUN i SHIFT X,Y CENTER改變 SPOT-SIZE 由 1-3NOi

2、 TEM 3-3 時調BRIGHT-TILT! Shift X, Y CENTER!如此重覆至3-3時，BEAM是否在 -* CENTER?YES使用Cond STIG-DEF X, Y 來調整,NOBEAM 在收放的同時，是否使BEAM成圓形呈現(xiàn)橢圓形變化?YES轉動 Brightness, Beam 是NOi 使用 CL APERTURE X. Y 來 CENTER BEAM否呈現(xiàn)同心圓收放?使用Z軸來FOCUS SAMPLEYESVOLTAGE觀察倍率NOCENTER是否>50K?OK?YESIv=x-* f*y 調整BRIGHT-TILTi1L_DEF X, Y使其呈最小的晃動！

3、11找到所需的位置放入OL APERTUREOL APERTURE 是否在 CENTER?NO/ 調整 OL APERTURE X.Y 來 CENTER - i In DIFF MODE;是否有OL像差Noj 調整OBJ STIG存在?；DEF X.Y 至IMAGE最清楚調整適當?shù)钠毓鈺r間 約 24 Sec.並按下 Photo Twice 送片照相即可儀器及真空狀態(tài)之準備動作1.2.3.4.5.6.TEM 例行操作 JEOL 2010 Alignment )確定 SIP VACUUM < 5 X 10 -5 Pa確定 SF6 氣壓,P1 > 0.01 Mpa, P 2 > 0

4、.3 MpaFILAMENT ON升壓至200 KV檢查試片位置是否歸零（按滑鼠旁之stage panel中之”N”鍵調整之）確定D V值為+0（以OBJ-FOCUS鈕調整之） （一）電子槍線圈傾斜校準（Gun tilt,在FEG時為An ode wobbler）1. 試片移開螢幕，倍率調至15K。2.Spot size 選用1，調整BRIGHTNESS鈕，將電子束縮為最小亮點，以 panel R2之Gun shift X,Y將亮點移至螢幕中央。（二）電子槍偏移校準（Beam shift）1. 倍率仍設為15K，Spot size換至3 （或5）。2. 以BRIGHTNESS鈕將電子束縮至最小

5、，以panel L1及panel R1之Beam shift X,Y將電子束移至正中心。3.將Spot size換回1 ,重複（一）-2之步驟以Gun shift X,Y調整，將電子束移至正中心。4.重覆1、2、3步驟，直到不論是Spot size 1或Spot size 3 （或5）時電子束皆在螢幕正中心為止。（三）飽和電流校準（Current density saturation, i.e. Gun Tilt 校準,正規(guī)操作步驟請參考備註6）法1：調Gun tilt （DEF X,Y），注意Page 1小螢幕上之Current Density值，當達到最大值時,此時得到最大亮度，意即達到飽

6、和電流。法2：調Gun tilt （DEF X,Y），目視螢幕上之spot亮度，當感覺達到最大亮度時即為飽和電流。（四）聚焦鏡孔徑調整（Condenser Aperture）1.倍率調至15K ， Spot size 調至1或3 （或5）。2. 電子束縮至最小並調至中心。3.調BRIGHTNESS鈕將電子束重複放大縮小，同時調整 Condenser Aperture兩邊之縱軸及橫軸調整鈕，直到Beam Spot不隨電子束放大縮小而偏離圓心（意即：呈同心圓放大縮小）。（五）聚焦鏡像差調整（Condenser Stigmatism）1.倍率調至15K，Spot size調至3 （或5）。2.調BR

7、IGHTNESS鈕將電子束縮至最小，以 Beam shift移亮點至中心。3. 順時針及逆時針地旋轉BRIGHTNESS，此時亮點若呈橢圓展開，按下panel L1之CondStig鍵，一邊旋轉BRIGHTNESS 一邊調整panel L1及panel R1之DEF X,Y鈕直到亮點呈圓形為止。4. 調整完後按回Cond Stig鍵還原。（六）a.影像搖擺調整（Wobbler,功能在使調beam tilt時影像不會shift）1.以brightness將spot縮成直徑約5mm 之亮點，切Image wobbler switch 至X，按右下鍵盤TILT鈕，調Image wobbler adj

8、 X（左邊兩個）使兩亮點重疊在中央，切Image wobbler switch至丫，調Image wobbler adj 丫（右邊兩個）使兩亮點重疊在中央。2.將Tilt 鈕及 Image wobbler switch 還原。b.繞射點搖擺調整（Wobbler,功能在使調beam shift時影像不會tilt;此部分之操作條件不易變化）1.倍率調至15K。2.以Brightness右轉到底，此時會聽至H ”畢”一聲（代表已超越儀器之過焦狀態(tài)極限），調DIFF-focus使呈Caustic Spot亮點（一般為逆時針方向），此時Caustic Spot呈現(xiàn)一類似 Benzu 的 mark形狀，切

9、 COND DEF ADJ 至X,按右下鍵盤 SHIFT 鈕，調 Image Wobbler adj X （左邊兩個，Shift-X 及DEF-X）使Caustic Spot亮點重疊，切 COND DEF ADJ 至Y，調 Image wobbler adj Y （ _右邊兩個,Shift-Y 及DEF-Y）使Caustic Spot 重疊。3. 將DIFF-focus, BRIGHTNESS, SHIFT鈕及COND DEF ADJ X, Y 還原。（七）電流中心調整（Current center,低倍率校準）1.首先做影像聚焦 （Image Focus）法1:將最尖點移至中央，按下Imag

10、 X或Imag 丫，此時會見到影像成雙影，是為defocus狀態(tài)，以Z-N及Z-A調整stage高度，使雙影之影像重疊成單一影像，此時試片影像為 in-focus狀態(tài)（以上稱之為試片初步聚焦）。法2:將試片薄區(qū)邊緣置入spot中，以ZR及Z調整stage高度，直到薄區(qū)邊緣之稜線模 糊時即已聚焦。法3 :將試片置入spot中，調BRIGHTNESS使spot縮到最小，此時會見到除中間亮點外 尚有其他圍繞的繞射亮點或光圈，以 ZR及Z調整stage高度，直到繞射圖譜上的繞射點或繞射環(huán)縮到只有一個單點為止（本法適用於晶型材料）。2.選擇試片緣尖端處,按panel R2之WOBBLER-OBJ後，再按

11、Brightness tilt 鍵，調整panelL1及R1之Bright tilt-DEF X,Y 使尖端置於中央且最不易晃動的狀態(tài)。（八）中間鏡、投影鏡校準（INT stig and Projector）1.調BRIGHTNESS將spot散開，試片移開。2.壓DIFF鈕，聚焦DIFFRACTION mode，調整DIF focus使繞射點變小。3.壓STIGMATOR-INT，調整Gun Shift之DEF X,Y鈕，使繞射點成正圓。4.壓DEFLECTOR-PROJ，調整Gun Shift之SHIFT X,Y鈕，移動繞射點至正中心。註：DIFF-FOCUS之聚焦:置入試片使繞射點產生，

12、套入 Obj Aperture輔助聚焦，於Diffraction Mode下調整DIFF鍵旁之DIFF-FOCUS旋鈕直到外光暈之Obj Aperture輪廓最明顯時退除Obj Aperture（詳細步驟請考備註7）。（九）電壓中心校準（Voltage center,高倍率校準x 100K以上）1.執(zhí)行此步驟前需先確定步驟（七）-1，以確定影像是否聚焦。2.倍率調至100K，調整影像在in focus狀態(tài)。3.在試片上找一處尖銳處，將其尖端移至螢幕中央。4.按下panel R1之HI鍵（wobbler），觀察影像閃動時該尖端是否離開中心點。5.若是，則按下 panel L1 之Brightne

13、ss tilt 鍵，調整panel L1 及panel R1 之DEF X,Y 鈕使尖端在螢幕閃動時仍不偏離中心點。6.調整電子束至最小亮點，並將亮點移至中心。（十）物鏡像差調整（OBJ Stig,高倍率校準咒200K以上）1.執(zhí)行此步驟前需先確定步驟（七）-1，以確定影像是否聚焦。2.倍率調在200K。3.在試片上選擇一邊緣處厚度較薄但均勻區(qū)，再搜尋一小洞或小突起物做為成像標的物。4.初步調整panel R1之Brigh-Focus 鈕,使小洞或突起物影像一半在under focus狀態(tài)另一 半在overfocus 狀態(tài)。注意：一般小洞或突起物之邊緣在 underfocus邊會產生一道亮（白

14、）線，而在overfocus邊會產生一道暗（黑）線。5.按下OBJ STIG鍵，旋轉DEF X,Y鈕，使小洞或突起物邊緣均轉為亮線或均轉為暗線,再調整OBJ-Focus鈕使小洞或突起物邊緣之明線或暗線同時消失，此時影像是在in-focus 狀態(tài)。6.按除OBJ STIG 鍵，去除 Objective stigmator 校正功能。備註1.本機 型之Con de nser Ap erture size除全開 外共有 五種,每置換一個Co nde nserAperture 後必需重新 alignment。2.不同之spot size校正情況略有差別，一旦選定某一 spot size做校正後，若需換

15、另一 spotsize觀察時，需將alignment做微調。3.視使用者之需要條件而定，若觀察影像倍率不大，可忽略”十）物鏡像差調整”之校正。4. 於上述每一步驟完成之後，需再回頭反覆確定之前校正的每一步驟之校正情況。5.6.拍照有兩種模式供應用 a.自動模式：此時AUTO鍵亮b.手動模式：由使用者自訂曝光時間，此時AUTO鍵不亮；拍照之程序必須按AUTO鍵兩次（第一次進片，第二次才是 曝光），建議調整降Beam Current以增加曝光時間為25分鐘（注意：Beam Current與Exp Time之乘績?yōu)槌?shù)）。電流值過大而減短燈絲壽命，注意電流值勿超過112uA。燈絲飽和電流調整：本步驟

16、為正規(guī)但不建議，一般初學者常會因為不正常操作，導致a.先將放大倍率加大到約250K。b. 將Filament值降到零，從小電流值開始調起，再慢慢加大電流值。c. 當螢幕上有不對稱的燈絲投影形狀時（對稱的燈絲投影形狀為外圈邊緣四塊，中間為一亮點），調整bias使燈絲在螢幕上使其呈現(xiàn)發(fā)光時的幾何形狀（COARSE及FINE同時調大會使中間亮點與外圍環(huán)帶分開，反之，則會合在一起），按Gun調整DEF X, Y使燈絲的幾何呈現(xiàn)對稱此時亦可調整 COND-STIG之DEF X, Y修飾燈絲形狀。d. 稍微加大電流值，使對稱的形狀消失而呈單一的亮點。7.e. 固定 Filament scale 的stop

17、per。 聚焦 DIFFRACTION Mode 步驟法 1： a.第一步取薄區(qū)按 DIFF進入 DIFFRACTION MODE, 置入 OBJECTIVE-APERTURE轉 DIFF-FOCUS 鈕 ,使得 DIFFRACTION-BEAM 外圍之光暈出現(xiàn),並轉動DIFF-FOCUS鈕直到外圍之光暈達到最明顯為止。b.第二步去除OBJECTIVE-APERTURE 之後,再轉BRIGHTNESS使繞射點變小變細, 此時可再微調DIFF-FOCUS使繞射點變小。法2: a.第一步取薄區(qū)按SAM/ROCK,置入FIELD-LIMITING-APERTURE, 此時需注意以FIELD-LIMI

18、TING-APERTURE 的邊緣作聚焦,調整DIFF-FOCUS鈕,使得邊緣之稜線 清楚為止。b.第二步去除 FIELD-LIMITING-APERTURE 之後，再進入 DIFFRACTION MODE,轉BRIGHTNESS使繞射點變小變細,此時可再微調DIFF-FOCUS使繞射點變小。8.恢復各功能原設定值：當儀器操作參數(shù)被嚴重修改後，此時儀器狀況幾乎完全找不到BEAM 了,請按遭修改過之功能鍵活化該功能後 ,再按pan el R2中之” N ”鍵（n ature.回復之意）,若此時仍不見BEAM,則代表其餘功能鍵亦遭修改,請逐次按各功能鍵後 再按”鍵,以回復各功能之原設定值。Micro-area illumination mode(EDS, NBD, CBD) alignment :a. TEM mode alig nment 做完b.押CBD, spot size最大，«角順時針調最大c. 用 shift(Br