光譜的產(chǎn)生及意義課件

1、光譜的產(chǎn)生及意義報(bào)告人：忠信科技 陳忠詰報(bào)告大綱壹：“光”的特性。貳：光譜產(chǎn)生的原理。參：光譜的分類。肆：吸收光譜的介紹。伍：光學(xué)光譜的介紹。陸：抗反射光譜的介紹。柒：抗反射光譜的變動(dòng)。壹：“光”的特性一：粒子說(shuō)（能量特性）：能量固定； 直線前進(jìn)； 二：波動(dòng)說(shuō)（傳遞特性）：透射與反射； 繞射； 干射；頻率及振幅決定能量大小停止前進(jìn)，光線即消失，能量轉(zhuǎn)成熱量；振幅相抵消，光線即減弱（消失），能量轉(zhuǎn)成熱量；貳：光譜產(chǎn)生的原理參：光譜的分類一：吸收光譜。二：光學(xué)光譜二：強(qiáng)度決定因素： （1）成份 （2）濃度（或含量） 三：會(huì)產(chǎn)生吸收光譜的物質(zhì)：分子結(jié)構(gòu) （1）有機(jī)物； （2）液體：水、溶劑、氨水等；

2、 （3）氣體：二氧化碳、氧氣、氮?dú)獾?；四：不?huì)產(chǎn)生吸收光譜的物質(zhì)： （1）金屬； （2）金屬氧化物：二氧化鈦、二氧化矽； （3）玻璃伍：光學(xué)光譜的介紹一：產(chǎn)生原理：光線相互“干射”形成。二：產(chǎn)生物質(zhì)：“透光” 、“薄膜”介質(zhì)“組合”三：光譜形狀及光線強(qiáng)度決定因素： （一）介質(zhì)折射率：本身特性及含量； （二）結(jié)晶型態(tài)相對(duì)折射率； （三）厚度； （四）相對(duì)折射率； （五）反射率。 反射一次干射二次干射空氣SiO2TiO2玻璃干射原理一： 基本原理：干射效應(yīng)效應(yīng)要能發(fā)揮： 12H2 23H3（2） （：相對(duì)折射率；H：厚度）二： 的取決因素： （一）本身的結(jié)晶性。 （二）本身的純度。 （三）相對(duì)的比

3、值。 一次干射 （nm） 厚度 （nm） 速度 （SD） 二次干射 （nm） 厚度 （nm） 速度 （TiO2） 250 180 780 540 130 325 328 80 245 328 235 250 70 110 540 385 220 157 520 510 123 300陸：抗反射光譜的介紹。一：為何需要“抗反射” ？二：需要甚麼樣的“抗反射光譜” 。三：膜層設(shè)計(jì)。四：色澤的比較。一：為何需要“抗反射” ？LCD的背光光源強(qiáng)度低：避免外部光 線的投影： 一：電視螢?zāi)弧?二：儀表。 三：光學(xué)系統(tǒng)。二：需要甚麼樣的“抗反射光譜” 白熱燈泡光波長(zhǎng)分佈圖 半螺旋型省電燈泡光波長(zhǎng)分佈圖抗反射

4、光譜膜層設(shè)計(jì)一：高折射介質(zhì)優(yōu)先設(shè)定：有無(wú)限多組。二：高折射介質(zhì)厚度設(shè)定：4 5：變異小三：儘可能?。航档头瓷洌ㄇ疤幔貉u程安定）。四：不同折射率的二氧化鈦，不同厚度：附註説明：折射率低，無(wú)法有效抑制長(zhǎng)波長(zhǎng)（紅光）。 折射率高，反射率亦高，偏藍(lán)光。 生產(chǎn)方式 溶劑鍍膜 蒸鍍 水性鍍膜 折射率 2.2 2.4 2.7 設(shè)計(jì)膜厚 130 119 106柒：抗反射光譜的變動(dòng)變動(dòng)分類： 一：鍍膜過(guò)程光譜變動(dòng)（同一片）。 二：長(zhǎng)期生產(chǎn)過(guò)程的變動(dòng)（不同片）。 三：溶膠合成過(guò)程的變動(dòng)。鍍膜過(guò)程光譜變動(dòng)原因一：厚度變動(dòng)；二：孔隙度變動(dòng)；影響（相對(duì)折射率）三：結(jié)晶型態(tài)變動(dòng)。溶劑型溶膠各種成份的比重及折射率： 類別

5、比重 折射率 Ti(OR)4 0.97 1.03 Ti(OR)3(OH) 1.08 Ti(OR)2(OH)2 1.27 1.18 Ti(OR)(OH)3 1.56 Ti (OH)4 2.45 1.42 TiO2（A） 3.90 2.56 TiO2（R） 4.23 2.62 TiO2（B） 4.13 2.59比重變動(dòng)的因素一：結(jié)晶結(jié)構(gòu)的變動(dòng)（D）； D（V1V2）D1V1 D2 V2二：溶劑（或水）的含量（Ds）； D（VdVs）DVd Ds VS三：孔隙度的變動(dòng)（P）。 D（VdVs）PDVd Ds VS比重和厚度的相關(guān)性D2V2D2SH1D1V1D1SH2；（ D：密度，V：體積；H：厚度）

6、面積不變前提下：D2H1P1D1H2P2（P：孔隙度）；D2：D1（H1P1）：（H2P2）若孔隙度不變，只有膜厚變動(dòng)： 則D2：D1H1：H2D（V1V2）D1V1D2V2假設(shè)鍍膜後，溶劑（或水）含量5，則：D3.900.9510.053.755，若鍍完膜厚為120nm，則烘烤後，膜厚： H1203.7553.90115（nm）孔隙度和折射率關(guān)係（R） （0）（1-P）1P （P：孔隙度：膜層固定後結(jié)構(gòu)變動(dòng)造成）例如：同為T(mén)iO2，不同孔隙度，其折射率如下： 孔隙度（） 折射率 0 2.560 10 2.404 20 2.248（H） 30 2.092（U）孔隙度的影響一：光譜。二：光譜安定性。三：機(jī)械性能：刮傷、掉膜、亮點(diǎn)、黑點(diǎn)。鍍膜過(guò)程光譜變動(dòng)整理一：A廠： 低溫烘烤：膜厚變動(dòng)； 高溫?zé)Y(jié)：結(jié)晶型態(tài)變動(dòng)；孔隙度變動(dòng)； 強(qiáng)化：孔隙度變動(dòng)。二：B廠： 低溫烘烤：膜厚變動(dòng)； 高溫?zé)Y(jié)：膜厚、孔隙度、結(jié)晶型態(tài)均變動(dòng)； 強(qiáng)化：結(jié)晶型態(tài)變動(dòng)。三：水性： 低溫烘烤：膜厚變動(dòng)； 高溫?zé)Y(jié)：不變； 強(qiáng)化：不變。長(zhǎng)期生產(chǎn)過(guò)程的變動(dòng)（不同片）一：基本因素：12H2 23H3（2）12H2【 （TiO2）（1-P）P 】 H3（2）二：詳細(xì)說(shuō)明： （一）結(jié)晶結(jié)構(gòu)相對(duì)比率變動(dòng)。 （二）粒徑變動(dòng)。 （三）濃度（固含量）變動(dòng)。溶膠合成過(guò)程的變動(dòng)一：原料製作過(guò)程，部份