堿性蝕刻液直接電解工藝說明

1、宇眾環(huán)保深圳市宇眾環(huán)?？萍加邢薰痉絿撹岭]胞 ziyuarheng yuartouzhi IT chuano jia zhi宇眾保W源理造值內(nèi)部保密文件第1頁(yè)共8頁(yè)一、工程概況建設(shè)單位：深圳市宇眾環(huán)?？萍加邢薰荆?項(xiàng)目：堿性蝕刻液處理系統(tǒng):30T/月； 原液：堿性蝕刻液:含銅量110-130g/L；二、設(shè)計(jì)總導(dǎo)則 技術(shù)設(shè)計(jì)總導(dǎo)則：本套系統(tǒng)處理工藝是基于充分考慮以下因素的基礎(chǔ)上 而制定原液的銅離子含量；廢水站處理要求；工藝設(shè)計(jì)的可靠性；設(shè)備對(duì)原液銅離子改變的適應(yīng)能力；操作的簡(jiǎn)便性；投資和運(yùn)行的費(fèi)用；設(shè)備便于保養(yǎng)和清潔的功能；處理質(zhì)量的穩(wěn)定性； 本技術(shù)總則用于本工程的蝕刻液處理系統(tǒng)。它提出了該系

2、統(tǒng)的功能設(shè)計(jì)、 制造、性能、安裝和調(diào)試方面的技術(shù)要求。需方即使未規(guī)定所有的技術(shù)要求和適用標(biāo)準(zhǔn)，供方應(yīng)提供一套滿足本技 術(shù)方案和所列標(biāo)準(zhǔn)的高質(zhì)量系統(tǒng)設(shè)備及其相應(yīng)服務(wù)。供方應(yīng)提供高質(zhì)量的設(shè)備。這些設(shè)備應(yīng)是技術(shù)先進(jìn)、經(jīng)濟(jì)上合理、成熟 可靠的設(shè)備，能滿足需方的各項(xiàng)要求。所有設(shè)備的設(shè)計(jì)、制造和安裝應(yīng) 保證工作的可靠性，并保證盡可能的減少維修量。在簽訂合作協(xié)議之后，需方有權(quán)提出因規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)程發(fā)生變化而產(chǎn)生 的一些補(bǔ)充要求，具體項(xiàng)目由雙方共同商定。三、項(xiàng)目介紹在電子線路版（PCB）蝕刻過程中，蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液 要達(dá)到最佳的蝕刻效果，每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應(yīng)分量的蝕刻 鹽（N

3、H4CI）及氨水（NH3）。要持續(xù)蝕刻液中上述各種成份的濃度最佳水平， 蝕刻用過后的（以下稱用后蝕刻液）溶液需不斷由添加的藥劑所取締。本 系統(tǒng)主要應(yīng)用直接電解法，可以在回收銅的同時(shí)回收蝕刻劑，將大量原本需要 排放的用后蝕刻液再生還原成為可再次使用的再生蝕刻液。只需極少 量的補(bǔ)充劑及氨水，補(bǔ)償因運(yùn)作時(shí)被帶走而失去的部份。從而取代蝕刻子深圳市宇眾環(huán)?？萍加邢薰痉絿撹辆?ziyuarheng yuartouzhi IT chuaro jia zhi宇眾保W源理造值內(nèi)部保密文件第2頁(yè)共8頁(yè)液，該工藝不但可以減少蝕刻廢液回收后的污水排放量，減少環(huán)境污染，同時(shí) 還可以降低PCB廠家的生產(chǎn)成本。使用本系統(tǒng)

4、的主要效益再生液可回收利用，節(jié)省物料，降低生產(chǎn)成本。再生液可回收利用，降低治理污水成本。響應(yīng)國(guó)家政策，節(jié)能減排，污染基本為零排放，。做到清潔生產(chǎn)，降低工廠環(huán)保壓力。四、電解原理電解缸的蝕刻液陽極陰極通電后，溶液中的銅離子(Cu)向陰極移動(dòng)，到達(dá)陰 極后獲得電子而在陰極析出純銅(亦稱氯化銅)。由于這些離子與銅離子相比 不易析出，所以電解時(shí)只要適當(dāng)調(diào)節(jié)電位差即可避免這些離子在陽極上析出。電能轉(zhuǎn)變?yōu)榛瘜W(xué)能的過程，即直流電通過電解槽，在電極溶液界面上進(jìn)行 電化學(xué)反應(yīng)的過程。通電時(shí)，在外電場(chǎng)的作用下，蝕刻液中的正、負(fù)離子分別 向陰、陽極遷移，離子在電極-溶液界面上進(jìn)行電化學(xué)反應(yīng)。在陰極上進(jìn)行 還原反應(yīng)。

5、電解是一種非常強(qiáng)有力的促進(jìn)氧化還原反應(yīng)的手段，許多很難進(jìn)行 的氧化還原反應(yīng)，都可以通過電解來實(shí)現(xiàn)。例如：可將熔融的氟化物在陽極上 氧化成單質(zhì)氟，熔融的鋰鹽在陰極上還原成金屬鋰。電解工業(yè)在國(guó)民經(jīng)濟(jì)中具 有重要作用，許多有色金屬和稀有金屬的冶煉及金屬的精煉，基本化工產(chǎn)品的 制備，還有電鍍、電拋光、陽極氧化等，都是通過電解實(shí)現(xiàn)的。五、技術(shù)路線深圳市宇眾環(huán)?？萍加?公司方嚀枇隴胞 ziyuarheng yuartouzhi IT chuano jia zhi深圳市宇眾環(huán)保科技有 公司方嚀枇隴胞 ziyuarheng yuartouzhi IT chuano jia zhi宇眾保W源理造值內(nèi)部保密文件第

6、3頁(yè)共8頁(yè)銅蝕刻再生液銅蝕刻液循環(huán)再生技術(shù)路線3.1核心技術(shù)及創(chuàng)新性分析該系統(tǒng)由三部分組成：自控銅無損分離系統(tǒng)。A銅電積系統(tǒng)。蝕刻液存儲(chǔ)及組份調(diào)節(jié)系統(tǒng)。自控銅無損分離系統(tǒng)：是將廢蝕刻液中的銅離子通過富銅劑從廢液中無損分離銅離子，并將銅離子移 送到銅電積系統(tǒng)，釋放銅離子后的貧銅劑再回到此系統(tǒng)繼續(xù)工件。銅電積系統(tǒng)：富銅劑中的銅離子釋放到此系統(tǒng)中，通過電積提取高純度電解銅。蝕刻液存儲(chǔ)及組份調(diào)節(jié)系統(tǒng)：系統(tǒng)將已降低銅含量的蝕刻液通過組份調(diào)節(jié)，使 Cu +、C|-、PH值達(dá)到生產(chǎn)要求，待生產(chǎn)所用。系統(tǒng)工作時(shí)，整個(gè)系統(tǒng)物料 實(shí)現(xiàn)無排放封閉式循環(huán)運(yùn)行。3.2系統(tǒng)對(duì)外界的要求由需方將蝕刻液液送至設(shè)備安裝處；由需

7、方將電源線輸送至電控柜上；由需方提供設(shè)備安裝所需場(chǎng)地，占地約10-20平方；六、技術(shù)資料清單1.工藝總說明、平面布置圖；3深圳市宇眾環(huán)?？萍加邢薰痉絿撹辆?ziyuarheng yuartouzhi IT chuaro jia zhi宇眾保W源理造值內(nèi)部保密文件第4頁(yè)共8頁(yè)深圳市宇眾環(huán)?？萍嘉g刻液直接也解設(shè)備平而布置圖神EB：電許強(qiáng)方案一：埒8米*寬2, 5米=45平米占地面積局4米搭棚）岫機(jī)WHBI濟(jì)II前：1kA an岫機(jī)WHBI濟(jì)II前：1kA an深菖色】含銅較高的蝕到液 藍(lán)但：IF存電品中的濁刻液 淺藍(lán)色：含桐較低的再生袖2.電氣圖；3操作手冊(cè)；4.安裝、調(diào)試、售后服務(wù)內(nèi)容調(diào)試工作

8、：現(xiàn)場(chǎng)安裝結(jié)束后由深圳市宇眾環(huán)?？萍加邢薰静咳尕?fù)責(zé)系統(tǒng) 的調(diào)試工作； 培訓(xùn)工作：在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行系統(tǒng)調(diào)試的同時(shí)，結(jié)合現(xiàn)場(chǎng)調(diào)試實(shí)際情況對(duì)操作員進(jìn) 行現(xiàn)場(chǎng)培訓(xùn)；對(duì)操作員講解系統(tǒng)設(shè)備的技術(shù)圖紙資料、操作手冊(cè)、培訓(xùn)結(jié)束后可全面掌握 全套系統(tǒng)的工藝流程、設(shè)備工作原理、操作規(guī)程、并能獨(dú)立進(jìn)操作與維護(hù)全 套系統(tǒng)，進(jìn)行一般性的故障排除和維修。六、環(huán)保效益分析我們的技術(shù)開發(fā)戰(zhàn)略是從污染源頭來預(yù)防而不是被動(dòng)地從事后治理污染 的角度出發(fā)。對(duì)PCB企業(yè)各工序的污染源特征進(jìn)行本質(zhì)分析，以確定其采用循 環(huán)使用、清潔生產(chǎn)的技術(shù)可能性；針對(duì)各工序（即污染源）產(chǎn)出的不同類型液 體廢物（廢蝕刻液、一次洗滌廢水、）之具體特點(diǎn)，分別實(shí)

9、行資源化、和無害c I深圳市宇眾環(huán)保科技有 公司0乎濁哩 ziyuarheng yuartouzhi IT chuaro jia zhi- - _ .宇眾保資源肱源頭理、創(chuàng)造值內(nèi)部保密文件第5頁(yè)共8頁(yè)化戰(zhàn)略，對(duì)其有價(jià)值部分進(jìn)行回收，有用部分進(jìn)行完全回用，以確保PCB企業(yè)蝕刻工序在生產(chǎn)品質(zhì)上更穩(wěn)定、含銅廢液零排放、使生產(chǎn)成本大幅降低（，75%）。七、設(shè)備圖片深圳市宇眾環(huán)保科技有限公司方嚀枇掘 ziyuarheng yuartouzhi IT chuaro jia zhi宇眾保W源理造值內(nèi)部保密文件第6頁(yè)共8頁(yè)八、工藝流程廠家提供九、項(xiàng)目動(dòng)力準(zhǔn)備說明1.處理30噸堿性蝕刻廢液所需水、電、氣見下表序

10、號(hào)名稱單位用量備注1冷卻水m3/h302寸管接駁，貴司提供，或在現(xiàn)場(chǎng)安 裝一臺(tái)4P的冰水機(jī)2電力負(fù)荷kva300貴司提供，接至現(xiàn)場(chǎng)指定位置3廢氣處理量m3/h2000我司安裝廢氣吸收塔，貴司提供場(chǎng) 地4自來水m3/h202寸管接駁，貴司接至現(xiàn)場(chǎng)指定位置備注：廢氣吸收攵由我司提供&廢氣吸收塔抽氣，蝕刻液、廢液外圍管道，由貴司承擔(dān)，如需我司安裝，則另外計(jì)算費(fèi)用。2.項(xiàng)目動(dòng)力接入點(diǎn)說明項(xiàng)目用電由貴司配送，根據(jù)項(xiàng)目實(shí)施用地布局接入指定位置；深圳市宇眾環(huán)保科技有限公司方嚀枇隴胞 ziyuarheng yuartouzhi IT chuano jia zhi宇眾保W源理造值內(nèi)部保密文件第7頁(yè)共8頁(yè)項(xiàng)目獨(dú)立車間規(guī)劃抽氣管路走向與吸收塔安裝位置;配送DI水與冷卻水至項(xiàng)目布局指定位置。十、蝕刻液直接電解設(shè)備清單項(xiàng)目主體設(shè)備規(guī)格說明（單套處理量30T/月）編號(hào)設(shè)備名稱單位數(shù)量規(guī)格備注1電解槽個(gè)12500