宏觀應(yīng)力測(cè)定課件

1、第六章 宏觀應(yīng)力測(cè)定引言單軸應(yīng)力測(cè)定原理平面應(yīng)力測(cè)定原理試驗(yàn)方法試驗(yàn)精度的保證及測(cè)試原理 的適用條件10/11/20221第六章 宏觀應(yīng)力測(cè)定引言10/10/2022161 引言內(nèi)應(yīng)力是指產(chǎn)生應(yīng)力的各種外部因素撤除之后材料內(nèi)部依然存在、并自身保持平衡的應(yīng)力。通常分為三類（如下表）：第一類內(nèi)應(yīng)力；第二類內(nèi)應(yīng)力；第三類內(nèi)應(yīng)力。第一類內(nèi)應(yīng)力又稱宏觀應(yīng)力，在工程上常把宏觀應(yīng)力稱為殘余應(yīng)力。10/11/20222HNU-ZLP61 引言內(nèi)應(yīng)力是指產(chǎn)生應(yīng)力的各種外部因素撤除之后材料內(nèi)部類型名稱平衡范圍衍射效應(yīng)產(chǎn)生原因第一類內(nèi)應(yīng)力宏觀內(nèi)應(yīng)力在物體內(nèi)部相當(dāng)大（眾多晶粒）范圍內(nèi)使譜線位移熱處理、表面處理、機(jī)加工

2、等第二類內(nèi)應(yīng)力微觀內(nèi)應(yīng)力晶粒、亞晶粒內(nèi)部使譜線寬化或衍射強(qiáng)度降低晶格的彈性彎曲、扭轉(zhuǎn)或均勻壓縮、拉伸第三類內(nèi)應(yīng)力超微觀內(nèi)應(yīng)力位錯(cuò)線附近、析出相周圍、晶界附近、復(fù)合材料界面等若干個(gè)原子尺度范圍內(nèi)不同種類的原子移動(dòng)、擴(kuò)散和原子重新排列使晶格產(chǎn)生畸變10/11/20223HNU-ZLP類型名稱平衡范圍衍射效應(yīng)產(chǎn)生原因第一類內(nèi)應(yīng)力宏觀內(nèi)應(yīng)力在物體X射線測(cè)定宏觀應(yīng)力的實(shí)驗(yàn)依據(jù)是物體中殘余應(yīng)力會(huì)使晶面的衍射線產(chǎn)生位移。宏觀殘余應(yīng)力測(cè)定方法還有：電阻應(yīng)變片法、機(jī)械引伸儀法、超聲波法等。X射線法與這些方法相比，具有如下特點(diǎn)：它是有效的無損檢測(cè)方法；它所測(cè)定的僅僅是彈性應(yīng)變，而不含有范性應(yīng)變（范性變形不會(huì)引起衍

3、射線位移）；X射線照射面積可以小到12mm直徑，因此它可測(cè)定小區(qū)域的局部應(yīng)力；只能得到表面應(yīng)力，且精度受組織因素影響很大。10/11/20224HNU-ZLPX射線測(cè)定宏觀應(yīng)力的實(shí)驗(yàn)依據(jù)是物體中殘余應(yīng)力會(huì)使晶面的衍射線62 單軸應(yīng)力測(cè)定原理在拉應(yīng)力y的作用下，正好與拉伸方向垂直的試樣中某晶粒的（hkl）晶面，其晶面間距將由d0擴(kuò)張為dn，則其應(yīng)變?yōu)椋?根據(jù)彈性力學(xué)原理，其應(yīng)力：10/11/20225HNU-ZLP62 單軸應(yīng)力測(cè)定原理在拉應(yīng)力y的作用下，正好與拉伸方向直接測(cè)定y是很困難的，但對(duì)于均質(zhì)材料： 為泊松比。對(duì)于多晶體試樣，總可以找到若干個(gè)晶粒的（hkl）晶面與試樣表面平行，這些晶面的

4、晶面間距變化是可測(cè)的： 因此10/11/20226HNU-ZLP直接測(cè)定y是很困難的，但對(duì)于均質(zhì)材料：10/10/202263 平面應(yīng)力測(cè)定原理由于X射線的穿透能力有限，只能測(cè)到1030m的深度，此時(shí)垂直于表面的應(yīng)力分量近似為零，即測(cè)得的是接近二維平面應(yīng)力。根據(jù)彈性力學(xué)原理，在一個(gè)受力物體內(nèi)，在任一點(diǎn)上總可以找到三個(gè)互相垂直的方向，使得與三個(gè)方向垂直的各平面上切應(yīng)力為零，僅存在三個(gè)相互垂直的主應(yīng)力1、 2 、3。10/11/20227HNU-ZLP63 平面應(yīng)力測(cè)定原理由于X射線的穿透能力有限，只能測(cè)到垂直于試樣表面的應(yīng)變3在二維應(yīng)力下，主應(yīng)力1、 2與試樣表面平行，表層主應(yīng)力30，但在1和

5、2 的作用下，垂直于試樣表面的應(yīng)變3并不為零，當(dāng)材料各向性時(shí)：3可由平行于表面的某晶面間距d值的變化測(cè)定，即：10/11/20228HNU-ZLP垂直于試樣表面的應(yīng)變3在二維應(yīng)力下，主應(yīng)力1、 2與試平行于表面某方向上的應(yīng)力（1） 前面推導(dǎo)出的公式得到的是正應(yīng)力之和，但工程中通常需某個(gè)方向上的應(yīng)力，如與1夾角為的OB方向（圖6-3）的應(yīng)力，其測(cè)定步驟為：1、測(cè)定應(yīng)變3。由平行于表面的（hkl）晶面的面間距變化求出：10/11/20229HNU-ZLP平行于表面某方向上的應(yīng)力（1） 前面推導(dǎo)出的公式得到平行于表面某方向上的應(yīng)力（2）2、測(cè)定與表面呈任意的角方向上的（hkl）晶面的應(yīng)變。它由法線與

6、試樣表面法線成角的那些（hkl）晶面的間距變化求出，如圖6-4(b)：注意： 的方向如圖63，它位于OA方向上，并與試樣表面法線Ns、 共面， 角的任意是指在該平面內(nèi)與試樣表面法線Ns夾角的變化10/11/202210HNU-ZLP平行于表面某方向上的應(yīng)力（2）2、測(cè)定與表面呈任意的角平行于表面某方向上的應(yīng)力（3）3、對(duì)于各向同性的彈性體，根據(jù)彈性力學(xué)原理： 將 、 3代入上式： 用dn代替d0：10/11/202211HNU-ZLP平行于表面某方向上的應(yīng)力（3）3、對(duì)于各向同性的彈性體，sin2法基本原理根據(jù)前述兩個(gè)公式可得到下面的第三個(gè)公式：對(duì)第三式求偏導(dǎo)：10/11/202212HNU-

7、ZLPsin2法基本原理根據(jù)前述兩個(gè)公式可得到下面的第三個(gè)公式：對(duì)布拉格方程進(jìn)行微分： 即： 因?yàn)?，所以：10/11/202213HNU-ZLP對(duì)布拉格方程進(jìn)行微分：10/10/202213HNU-ZLP將上式簡(jiǎn)寫為： 式中 ，當(dāng)晶體材料已知、反射面（hkl）和入射線波長(zhǎng)一定時(shí)K1為常數(shù)，可以看出上式實(shí)際為一直線方程，直線斜率就是當(dāng)M0時(shí)， K1 0，則 0，材料表面為壓應(yīng)力；當(dāng)M0時(shí)， K1 0，材料表面為拉應(yīng)力。sin2法一般測(cè)4個(gè)或以上的角下的210/11/202214HNU-ZLP將上式簡(jiǎn)寫為：10/10/202214HNU-ZLP關(guān)于應(yīng)力常數(shù)K1 K1屬于晶體學(xué)特性參數(shù)，它是sin

8、2法的應(yīng)力常數(shù)； ，其中/180是為將2角轉(zhuǎn)換為弧度而加進(jìn)的，第一項(xiàng)與晶體材料及其特性有關(guān)，E是材料的彈性系數(shù)（模量），是材料的泊松比。該項(xiàng)可通過計(jì)算或?qū)嶒?yàn)得到：當(dāng)材料各向同性，應(yīng)力測(cè)量精度要求不高時(shí)，可采用工程數(shù)據(jù)計(jì)算；當(dāng)要精確測(cè)量應(yīng)力時(shí)，可通過實(shí)驗(yàn)確定或查表得到。20是與所選反射晶面（hkl）和輻射波長(zhǎng)有關(guān)的10/11/202215HNU-ZLP關(guān)于應(yīng)力常數(shù)K1 K1屬于晶體學(xué)特性參數(shù)，它是sin2法64 試驗(yàn)方法原則上可采用照相法和衍射儀法來測(cè)定宏觀應(yīng)力，但照相法效率低、誤差大，現(xiàn)在一般不使用，多用衍射法。衍射法通常包括衍射儀法和應(yīng)力儀法，其中應(yīng)力儀可對(duì)工件進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)。衍射儀法是通用的

9、方法，主要掌握其測(cè)量步驟、幾何原理和實(shí)施方法。10/11/202216HNU-ZLP64 試驗(yàn)方法原則上可采用照相法和衍射儀法來測(cè)定宏觀應(yīng)力，衍射儀法測(cè)量步驟1、測(cè)定0時(shí)的202、測(cè)定為任意角時(shí)的2，一般選取15， 30 ，45 進(jìn)行測(cè)量，當(dāng)然也可以選測(cè)其它角度或更多的角度；3、用2 sin2作圖，求出直線斜率M；4、求應(yīng)力常數(shù)K1；5、計(jì)算 K1M10/11/202217HNU-ZLP衍射儀法測(cè)量步驟1、測(cè)定0時(shí)的2010/10/202衍射儀法測(cè)量幾何10/11/202218HNU-ZLP衍射儀法測(cè)量幾何10/10/202218HNU-ZLP采用衍射儀測(cè)量應(yīng)力的實(shí)施方法采用衍射儀測(cè)量應(yīng)力時(shí)，

10、怎樣實(shí)現(xiàn)的改變？其方法是選擇適當(dāng)?shù)难苌鋬x的測(cè)角儀驅(qū)動(dòng)方式，采用多次測(cè)量，選擇多少個(gè)角就測(cè)量多少次， 的改變是通過樣品臺(tái)繞測(cè)角儀軸獨(dú)立旋轉(zhuǎn)來實(shí)現(xiàn)的：當(dāng)0時(shí)，試樣表面法線Ns與反射晶面(hkl)法線Np重合，如要實(shí)現(xiàn)15，將樣品臺(tái)繞測(cè)角儀軸旋轉(zhuǎn)15，使試樣表面法線Ns相對(duì)于0時(shí)試樣表面法線Ns間的夾角為15，這時(shí)Ns與晶體中另一組(hkl)晶面法線Np重合，在新位置上，試樣表面法線Ns與所選定待測(cè)晶面(hkl)法線Np成15，而這些法線的變化都是相對(duì)于X射線管（入射X射線）而言的，其它角度類推。幾何關(guān)系如圖。10/11/202219HNU-ZLP采用衍射儀測(cè)量應(yīng)力的實(shí)施方法采用衍射儀測(cè)量應(yīng)力時(shí)，怎

11、樣實(shí)現(xiàn)10/11/202220HNU-ZLP10/10/202220HNU-ZLP在測(cè)量過程中，X射線管即入射X射線方向固定不變（不隨 角變化），當(dāng)角確定為0后，進(jìn)行第一次測(cè)量，試樣不動(dòng)，X射線管不動(dòng)，計(jì)數(shù)器繞測(cè)角儀圓在20附近轉(zhuǎn)動(dòng)，測(cè)出20，然后轉(zhuǎn)動(dòng)試樣，得到15 ，依照同樣的方法測(cè)出215，依此類推。10/11/202221HNU-ZLP在測(cè)量過程中，X射線管即入射X射線方向固定不變（不隨 角變 65 試驗(yàn)精度的保證及 測(cè)試原理的適用條件樣品制備輻射的選擇吸收因子和角因子的校正衍射峰位置的確定測(cè)試原理的適用條件10/11/202222HNU-ZLP 65 試驗(yàn)精度的保證及 測(cè)樣品制備加工切

12、割至合適尺寸，表面磨平；表面深腐蝕去除機(jī)加工層；表面清洗、干燥；對(duì)于測(cè)量因加工、表面處理所引起的表面殘余應(yīng)力，應(yīng)保留表面狀態(tài)，不作破壞性處理。10/11/202223HNU-ZLP樣品制備加工切割至合適尺寸，表面磨平；10/10/20222輻射的選擇反射晶面（hkl）盡量選擇角接近90 （一般應(yīng)在75以上）；衍射背底強(qiáng)度較低，衍射峰較尖銳。 根據(jù)上述原則和試樣材料，選擇合適的陽極靶和反射晶面（hkl）。10/11/202224HNU-ZLP輻射的選擇反射晶面（hkl）盡量選擇角接近90 （一般應(yīng)吸收因子和角因子的校正當(dāng)衍射峰寬化和不對(duì)稱時(shí)，需用吸收因子和角因子對(duì)峰形進(jìn)行修正：當(dāng)0 時(shí)，入射線和

13、衍射線在試樣中所經(jīng)歷的路程不同，吸收因子不僅與角有關(guān)，而且與角有關(guān)，從而造成衍射峰不對(duì)稱。當(dāng)衍射峰半高寬大于6且應(yīng)力較大時(shí)，有必要考慮吸收修正因子：當(dāng)衍射峰半高寬在3.5 4以上時(shí)，有必要進(jìn)行角因子修正：修正方法：采用拋物線法定峰位，將所選點(diǎn)的強(qiáng)度進(jìn)行校正，校正強(qiáng)度等于實(shí)測(cè)強(qiáng)度除以該點(diǎn)處的()R()。10/11/202225HNU-ZLP吸收因子和角因子的校正當(dāng)衍射峰寬化和不對(duì)稱時(shí)，需用吸收因子和衍射峰位置的確定(1)用衍射峰形的表觀最大值所對(duì)應(yīng)的衍射角(2)作為衍射峰位P0；(2)切線法：將衍射峰形兩側(cè)的直線部分延長(zhǎng)，取其交點(diǎn)Px所對(duì)應(yīng)的衍射角作為衍射峰位。(3)弦中點(diǎn)法和弦中點(diǎn)連線法；(4)三點(diǎn)拋物線法；(5)重心法。10/11/202226HNU-ZLP