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常用晶體及光學玻璃折射率表物質(zhì)名稱分子式或符號折射率熔凝石英SiO21.45843氯化鈉NaCl1.54427氯化鉀KCl1.49044螢???石CaF21.43381冕牌玻璃K61.51110K81.51590K91.51630重冕玻璃ZK61.61263ZK81.61400鋇冕玻璃BaK21.53988火石玻璃F11.60328鋇火石玻璃BaF81.62590重火石玻璃ZF11.64752ZF51.73977ZF61.75496液體折射率表物質(zhì)名稱分子式密度溫度℃折射率丙醇CH3COCH30.791201.3593甲CHOH30.794201.3290乙CHOH0.800201.3618苯CH661.880201.5012二硫化碳CS21.263201.6276四氯化碳CCl41.591201.4607三氯甲烷CHCl31.489201.4467乙醚CH-0?CH0.715201.3538甘油C3H,31.260201.4730松節(jié)油0.8720.71.4721
橄欖油0.9201.4763水HO21.00201.3330DMF熔點-61℃,沸點152.8℃,76℃(5.2kPa),相對密度0.9445(25/4℃),閃點58℃,自燃點445℃。對多種有機化合物和無機化合物均有良好的溶解能力和化學穩(wěn)定性。25℃的蒸氣壓為0.493kPa。1.4269晶體的折射率no和ne表物質(zhì)名稱分子式none冰H021.3131.309氟化鎂MgF21.3781.390石英Si021.5441.553氯化鎂MgO?HO21.5591.580鋯石ZrO2?SiO21.9231.968硫化鋅ZnS2.3562.378方解石CaO?CO21.6581.486鈣黃長石2Ca0?Al203?SiO21.6691.658菱鎂礦ZnO-CO21.7001.509剛石Al?1.7681.760淡紅銀礦3AgS-ASS2 232.9792.711注:n、n分別是晶體雙折射現(xiàn)象中的“尋常光”的折射率和“非常光”的折射率。????????????????????????????資料來源:華東師大《光學教程》折光率色散雙折射率硬度比重真鉆石2.420.044無103.52“蘇聯(lián)鉆”2.150.060無8.55.6-6注:“蘇聯(lián)鉆”,立方氧化錯鉆石一般情況下,基礎(chǔ)玻璃的折射率為1.5—1.7,而斜鋯石的折射率為2.2,鋯英石的折射率為1.94;SnO2可以降低釉熔體的表面張力,且具有較高地折射率(2.09)CR-39即折射率1.499單體有機高分子化學日開發(fā)出新型熱固性樹脂2004-7-289:04:29 來源:中國化工網(wǎng)日前,日本NittoDenkoCorp公司開發(fā)出一種折射系數(shù)為1.7的芳香族熱固性樹脂,高于折射率1.56的環(huán)氧樹脂,且這種樹脂的耐熱性也比環(huán)氧樹脂高30%。該公司稱,折射系數(shù)的提高是由于在其中添加了二氧化鈦、二氧化錯及其它金屬氧化物的納米級粒子。據(jù)介紹,這種樹脂主要用途在電器領(lǐng)域,包括用于涂料中可提高白色發(fā)光二極管(LEDs)的發(fā)光率和吸光率,液晶顯示器(LCDs)和其它顯示器的防反射膜,以及在電荷耦合器件(CCDs)中作為微透鏡使其能接受大量光等。金紅石型和銳鈦礦型TiO2顏料的平均折射率分別為2.71和2.57,用2.71來計算,氧化鋅顏料的相對密度為5.45?5.65,吸油度量為10?25g/100g,折射率為2.03?2.08。商業(yè)上98%顏料級硫化鋅的相對密度為4.0?4.1,折射率為2.37三氧化銻顏料的折射率約為2.0,名稱??折射率?????透光范圍???蒸發(fā)溫度(℃) 蒸發(fā)源 應用三 氧 化 二鋁1.62/550n 200~5000 2000-2200 電子槍 增透膜多層膜氟化鈰 1.63/500nm 300?50001429鉬,鉭,電子槍增透膜、多層膜氧化鈰 2.35/500nm 400~16000 1950 電子槍 增透膜冰晶石 1.33/500nm 250?140001000鉬,鉭,電子槍增透膜氧化鉿 1.95/500nm 230~7000 2500 電子槍 紫外-近紅外多層膜透明導電膜料2.0/500nm 400~8001450電子槍,Al2O3透明導電膜氟化鈣1.23-1.42/550nm150?120001280~1400鉬,鉭,鴇增透膜氟化鎂1.38/550nm 130~70001300~1600鉬,鉭,鴇增透膜、多層膜氧化鎂1.7/500nm 200~8000 2000電子槍 多層膜錯鈦混合物2.1/500nm 400~70002300鴇,電子槍增透膜氧化銃1.89/500nm 250~5000 2430電子槍 紫外多層膜二氧化硅1.45/500nm 200~2000 1600~2200電子槍 多層膜一氧化硅1.55/550nm 600?80001200?1600鑰,鉭,鴇增透膜、保護膜氧化二鉭2.1/500nm保護膜氧化二鉭2.1/500nm400~7000 1950增透膜氧化鈦2.35/500nm400~120001700~2000氧化鈦2.35/500nm400~120001700~2000多層膜、分光膜化鈦2.35/500nm400~120002200化鈦2.35/500nm400~120002200增透膜、多層膜1.87/550nm400~800025001.87/550nm400~80002500增透膜、多層膜2.05/500nm250~700025002.05/500nm250~70002500增透膜、多層膜三氧化二鈦2.35/500nm400~120001800~2000鉭,鴇電子槍增透增透膜、多層膜三氧化二鈦2.35/500nm400~120001800~2000鉭,鴇電子槍增透膜、多層膜氟化鑭1.58/500nm220~140001450鉬,電子槍增透膜硅3.4/3000nm1000~90001500電子槍外膜鍺4.4/2000nm1700~230001300~1500電子槍,鴇紅外膜硒化鋅2.58/550nm600~15000600~900鉬,鉭,電子槍紅外膜硫化鋅2.4/1200nm氟化鑭1.58/500nm220~140001450鉬,電子槍增透膜硅3.4/3000nm1000~90001500電子槍外膜鍺4.4/2000nm1700~230001300~1500電子槍,鴇紅外膜硒化鋅2.58/550nm600~15000600~900鉬,鉭,電子槍紅外膜硫化鋅2.4/1200nm400~140001100鉬,鉭,電子槍多層膜氟化釔1.49/632.8nm200~150001100鑰紅外膜(10.6mm)、增透膜氟化錯1.51/632.8nm220~150001400~1600鉬,電子槍紅外膜(10.6mm)、增透膜氟化鋁1.35/500nm 200~8000800~1000電子槍,鉬,鉭紫外膜氟化鉛 1.76/470nm 220~9000 700~1000粕 紫外膜氧化釓 1.8/550nm 320~150002200 增透膜五氧化三鈦2.35/500nm 400~120001750~2000鈦酸鋇(BaTiOj單晶具有優(yōu)異的光折變性能具有高的自泵浦相位共軛反射率和二波混頻(光放大)效率,在光信息存儲方面有巨大的潛在應用前景;同時它也是重要的襯底基片材料。晶體參數(shù):晶體結(jié)構(gòu)四方Tetragona(4m):13oC<T<132oCa=3.99,c=4.04,(at26°C)生長方法TSSG(TopSeededSolutionGrowth)頂部籽晶法熔點1612oC折射率515nm633nm800nmno2.49122.41602.3681ne2.42472.36302.3235透過波長范圍0.43-6.30
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