標(biāo)準(zhǔn)解讀
GB/T 19921-2005是一項由中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會頒布的標(biāo)準(zhǔn),其全稱為《硅拋光片表面顆粒測試方法》。這項標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了對硅拋光片表面顆粒進(jìn)行檢測和評估的具體方法,旨在確保半導(dǎo)體材料的質(zhì)量控制與生產(chǎn)過程的一致性。以下是該標(biāo)準(zhǔn)的主要內(nèi)容概述:
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適用范圍:本標(biāo)準(zhǔn)適用于單晶硅拋光片表面顆粒的檢測,主要應(yīng)用于集成電路、太陽能電池等領(lǐng)域的硅片質(zhì)量控制。它不適用于其他類型材料的顆粒測試或硅片的其他性質(zhì)測試。
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術(shù)語定義:標(biāo)準(zhǔn)首先明確了“表面顆?!?、“檢測區(qū)域”、“顆粒尺寸”等相關(guān)術(shù)語的定義,為后續(xù)測試提供了統(tǒng)一的語言基礎(chǔ)。
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測試前準(zhǔn)備:規(guī)定了測試環(huán)境的要求,如清潔度、溫濕度控制;測試儀器的選擇與校準(zhǔn),包括光學(xué)顯微鏡、掃描電子顯微鏡等;以及樣品的處理方法,確保測試前硅片表面無污染。
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測試方法:
- 視覺檢查:在特定光照條件下,通過目視或使用放大設(shè)備直接觀察硅片表面。
- 自動顆粒計數(shù):利用自動化檢測設(shè)備,如自動光學(xué)檢測系統(tǒng)(AOI),對硅片表面進(jìn)行掃描并自動識別顆粒。
- 尺寸測量:對識別出的顆粒,采用適宜的測量工具準(zhǔn)確測定其尺寸,通常包括最大長度、寬度等。
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測試區(qū)域的確定:標(biāo)準(zhǔn)指定了測試區(qū)域的選擇原則,可以是全片掃描或選取代表性區(qū)域進(jìn)行檢測,依據(jù)實際需求和成本效益考慮。
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數(shù)據(jù)處理與報告:要求記錄測試過程中發(fā)現(xiàn)的所有顆粒信息,包括位置、大小、形態(tài)等,并提供統(tǒng)計分析方法,以便于評估硅片表面顆粒污染程度。
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質(zhì)量判定準(zhǔn)則:根據(jù)顆粒的數(shù)量、大小分布等指標(biāo),設(shè)定不同等級的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn),用于判斷硅片是否符合使用要求或客戶規(guī)格。
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不確定度評估:討論了測試過程中可能引入的誤差來源及如何評估測試結(jié)果的不確定性,以提高測試結(jié)果的可靠性和可比性。
如需獲取更多詳盡信息,請直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 19921-2018
- 2005-09-19 頒布
- 2006-04-01 實施
文檔簡介
ICS77.040.01H17中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T?19921—2005硅拋光片表面顆粒測試方法Testmethodofparticlesonsiliconwafersurfaces2005-09-19發(fā)布2006-04-01實施中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
GB/T19921-2005前本標(biāo)準(zhǔn)是參照SEMIM25—95《用于硅片檢驗系統(tǒng)的相對于乳膠球直徑的光點缺陷的校準(zhǔn)片規(guī)程》、SEMIM35-0299F《使用自動檢查系統(tǒng)探測硅片表面特性的發(fā)展中的規(guī)范指南》、SEMIM50-1101《使用覆蓋的方法確定掃描表面檢查系統(tǒng)捕獲率和虛假計數(shù)率的測試方法》.ASTMF1620—96《應(yīng)用單個分散的聚苯乙烯乳膠球沉積在拋光或外延硅片表面來校準(zhǔn)掃描表面檢查系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程》ASTMF1621—96《對掃描表面檢查系統(tǒng)的定位準(zhǔn)確性能力測定的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程》及SEMATECH技術(shù)轉(zhuǎn)移文件SEMATECH99083800D-TR《一個改進(jìn)的高精度掃描校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)的先進(jìn)顆粒尺寸測量技術(shù)》等標(biāo)準(zhǔn)編制。本標(biāo)準(zhǔn)由中國有色金屬工業(yè)協(xié)會提出,本標(biāo)準(zhǔn)由全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:北京有色金屬研究總院本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:孫燕、盧立延、董慧燕、劉紅艷、翟富義本標(biāo)準(zhǔn)由全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會負(fù)責(zé)解釋,本標(biāo)準(zhǔn)為首次發(fā)布。
GB/T19921-2005硅拋光片表面顆粒沽污是影響半導(dǎo)體器件制造的重要因素,也是一個重要的材料驗收參數(shù)。但是到目前為止.國際上還沒有拋光片表面顆粒的測試方法標(biāo)準(zhǔn),只有相關(guān)的幾個專業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。為滿足我國硅材料的生產(chǎn)使用的需求,同時考慮到與國際相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的接軌.我們在對國際相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)充分理解、吸收的基礎(chǔ)上.綜合我國硅材料的生產(chǎn)使用情況及國際上硅材料的生產(chǎn)和微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和現(xiàn)狀編制了本標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)是一個硅拋光片表面顆粒測試的指導(dǎo)文件。從應(yīng)用角度提出了對顆粒檢測的環(huán)境、設(shè)備、?;醇皽y量等方面的要求。
GB/T19921-2005硅拋光片表面顆粒測試方法范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了應(yīng)用掃描表面檢查系統(tǒng)(SSIS)對硅拋光片表面顆粒進(jìn)行測試、計數(shù)和報告的程序本標(biāo)準(zhǔn)適用于硅拋光片.也可適用于硅外延片或其他鏡面拋光片(如化合物拋光片)。本標(biāo)準(zhǔn)也可適用于觀測硅拋光片表面的劃痕、桔皮、凹坑、波紋等缺陷,但這些缺陷的檢測、分類依賴于設(shè)備的功能,并與檢測時的初始設(shè)暨有關(guān)?。罕緲?biāo)準(zhǔn)涉及的方法通常選用波長(488~633)nm的激光光源,最常用的是488nm的氬離子激光器;目前可測量的最小顆粒直徑約為0.06km或更小些。規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而,鼓勵根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。ASTMF1620—96應(yīng)用單個分散的聚苯乙烯乳膠球沉積在拋光或外延硅片表面來校準(zhǔn)掃描表面檢查系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程(所有部分)ASTMF1621—96對掃描表面檢查系統(tǒng)的定位準(zhǔn)確性能力測定的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)程(所有部分)SEMIM1-0302硅單品拋光片規(guī)范3術(shù)語和定義下列術(shù)語和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)捕獲率Capturerate掃描表面檢查系統(tǒng)在一-確定的設(shè)置下運行時,檢查系統(tǒng)探測到的局部光散射體的乳膠球當(dāng)量信號的概率。3.2動態(tài)范圍dynamicrange隨著一種測試條件的設(shè)定,掃描表面檢查系統(tǒng)可收集信號的覆蓋范圍33等效尺寸準(zhǔn)確度cquivalentsizingaccuracy在拋光片上沉積的、特定標(biāo)稱尺寸的、單個分散的聚苯乙烯乳膠球的測量尺寸分布的變化系數(shù)與由聚苯乙烯乳膠球狀懸浮體供應(yīng)商所提供的球的標(biāo)稱尺寸分布的變化系數(shù)之比、3.4延伸光散射體extendedlightscatterer種特征,比檢測設(shè)備的空間分辨率大。位于品片表面或近表面,因而引起了相對于品片周圍光
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