GB/T 25758.4-2010無(wú)損檢測(cè)工業(yè)X射線系統(tǒng)焦點(diǎn)特性第4部分：邊緣方法

犐犆犛１９．１００

犑０４

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

犌犅／犜２５７５８．４—２０１０

無(wú)損檢測(cè)工業(yè)犡射線系統(tǒng)焦點(diǎn)特性

第４部分：邊緣方法

犖狅狀犱犲狊狋狉狌犮狋犻狏犲狋犲狊狋犻狀犵—犆犺犪狉犪犮狋犲狉犻狊狋犻犮狊狅犳犳狅犮犪犾狊狆狅狋狊犻狀犻狀犱狌狊狋狉犻犪犾犡狉犪狔

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２０１０１２２３發(fā)布２０１１１００１實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

書(shū)

犌犅／犜２５７５８．４—２０１０

前言

ＧＢ／Ｔ２５７５８《無(wú)損檢測(cè)工業(yè)Ｘ射線系統(tǒng)焦點(diǎn)特性》分為五個(gè)部分：

———第１部分：掃描方法；

———第２部分：針孔照相機(jī)射線照相方法；

———第３部分：狹縫照相機(jī)射線照相方法；

———第４部分：邊緣方法；

———第５部分：小焦點(diǎn)和微焦點(diǎn)Ｘ射線管的有效焦點(diǎn)尺寸的測(cè)量方法。

本部分為ＧＢ／Ｔ２５７５８的第４部分。

本部分等同采用ＥＮ１２５４３４：１９９９《無(wú)損檢測(cè)工業(yè)Ｘ射線系統(tǒng)焦點(diǎn)特性第４部分：邊緣方法》

（英文版）。

本部分等同翻譯ＥＮ１２５４３４：１９９９。

為便于使用，本部分作了下列編輯性修改：

———“本歐洲標(biāo)準(zhǔn)”一詞改為“本部分”；

———?jiǎng)h除ＥＮ標(biāo)準(zhǔn)的前言；

———用小數(shù)點(diǎn)“．”代替作為小數(shù)點(diǎn)的逗號(hào)“，”；

———用ＧＢ／Ｔ１．１—２０００規(guī)定的引導(dǎo)語(yǔ)代替ＥＮ標(biāo)準(zhǔn)中的引導(dǎo)語(yǔ)。

本部分的附錄Ａ為資料性附錄。

本部分由全國(guó)無(wú)損檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)（ＳＡＣ／ＴＣ５６）提出并歸口。

本部分起草單位：上海泰司檢測(cè)科技有限公司、上海英華無(wú)損檢測(cè)技術(shù)有限公司、上海材料研究所、

上海誠(chéng)友實(shí)業(yè)有限公司、上海威誠(chéng)邦達(dá)檢測(cè)技術(shù)有限公司、通用電氣傳感檢測(cè)科技（上海）有限公司、丹

東奧龍射線儀器有限公司、山東輕工業(yè)學(xué)院。

本部分主要起草人：孔凡琴、李博、章怡明、金宇飛、趙成、丁鳴華、李義彬、孫寶江。

Ⅰ

書(shū)

犌犅／犜２５７５８．４—２０１０

引言

為了滿足焦點(diǎn)尺寸測(cè)量的不同需求，在ＧＢ／Ｔ２５７５８．１～２５７５８．５中，描述了五種不同的方法。

掃描方法（ＧＢ／Ｔ２５７５８．１）適用于強(qiáng)度分布和焦點(diǎn)尺寸恒定的場(chǎng)合，例如用于校準(zhǔn)及圖像處理

過(guò)程。

射線照相方法（ＧＢ／Ｔ２５７５８．２與ＧＢ／Ｔ２５７５８．３）是傳統(tǒng)的技術(shù)，以驗(yàn)證為主要目的，適用于最高

至２００ｋＶ的場(chǎng)合。

當(dāng)針孔和狹縫照相機(jī)無(wú)法使用時(shí)，邊緣方法（ＧＢ／Ｔ２５７５８．４）或許是有效的，這種方法適用于簡(jiǎn)易

的場(chǎng)合。

為了兼顧到微焦點(diǎn)系統(tǒng)，ＧＢ／Ｔ２５７５８．５提出了一種特殊的方法。

Ⅱ

犌犅／犜２５７５８．４—２０１０

無(wú)損檢測(cè)工業(yè)犡射線系統(tǒng)焦點(diǎn)特性

第４部分：邊緣方法

１范圍

ＧＢ／Ｔ２５７５８的本部分規(guī)定了采用清晰邊緣的射線照相底片，來(lái)校驗(yàn)管電壓最高至５００ｋＶ的工業(yè)

Ｘ射線系統(tǒng)的大于０．５ｍｍ焦點(diǎn)尺寸的方法。

Ｘ射線圖像的像質(zhì)和分辨力很大程度上取決于焦點(diǎn)的特性。焦點(diǎn)成像質(zhì)量基于目標(biāo)平面的二維強(qiáng)

度分布。

邊緣方法對(duì)于在現(xiàn)場(chǎng)條件下校驗(yàn)焦點(diǎn)是特別有效，以發(fā)現(xiàn)焦點(diǎn)的變化。本方法不能用于焦點(diǎn)尺寸

的絕對(duì)測(cè)量。焦點(diǎn)尺寸的絕對(duì)測(cè)量方法見(jiàn)附錄Ａ。

２規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過(guò)ＧＢ／Ｔ２５７５８的本部分的引用而成為本部分的條款。凡是注日期的引用文

件，其隨后所有的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用于本部分，然而，鼓勵(lì)根據(jù)本部分達(dá)成

協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本

部分。

ＧＢ／Ｔ１９３４８．１無(wú)損檢測(cè)工業(yè)射線照相膠片第１部分：工業(yè)射線照相膠片系統(tǒng)的分類１）

（ＧＢ／Ｔ１９３４８．１—２００３，ＩＳＯ１１６９９１：１９９８，ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ１９８０２無(wú)損檢測(cè)工業(yè)射線照相觀片燈最低要求（ＧＢ／Ｔ１９８０２—２００５，ＩＳＯ５５８０：１９８５，

ＩＤＴ）

ＧＢ／Ｔ２５７５８．１無(wú)損檢測(cè)工業(yè)Ｘ射線系統(tǒng)焦點(diǎn)特性第１部分：掃描方法（ＧＢ／Ｔ２５７５８．１—

２０１０，ＥＮ１２５４３１：１９９９，ＩＤＴ）

３術(shù)語(yǔ)和定義

下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于ＧＢ／Ｔ２５７５８的本部分。

３．１

焦點(diǎn)犳狅犮犪犾狊狆狅狋

從測(cè)量裝置中看到的Ｘ射線管陽(yáng)極上的Ｘ射線發(fā)射區(qū)域。

［ＧＢ／Ｔ２５７５８．１］

４測(cè)試方法

４．１原理和設(shè)備

本方法是通過(guò)測(cè)量幾何不清晰度來(lái)得到焦點(diǎn)尺寸的間接測(cè)量方法。為此，采用相對(duì)較高的幾何放

大倍率將清晰邊緣映像到膠片上。

測(cè)量中需要以下設(shè)備：