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文檔簡(jiǎn)介
題目:
Combinatorialsolid-statechemistry
ofinorganicmaterials
第15小組成員:高云霞張建段曉巍張寬心黃衛(wèi)
2006.12.31
主要內(nèi)容概述材料合成過程演變無機(jī)材料合成的發(fā)展高通量篩選和表征技術(shù)材料的探索與發(fā)現(xiàn)應(yīng)用前景關(guān)鍵詞:
LMBE~~激光分子束外延
RHEED~~反射式高能電子衍射
SQUID~~超導(dǎo)量子干涉儀
TEM~~
透射電子顯微鏡
MEMS~~微電子機(jī)械系統(tǒng)概述過去式:cookingtrial-and-error炒菜式~~Rawmaterials(蔬菜、調(diào)料)+Tools(炒鍋、爐灶)+Recipes(食譜配方)
現(xiàn)在式:制藥工業(yè)DNA序列
智能設(shè)計(jì)式~~制備具有某種特定屬性、功能的材料合成+制備+篩選
材料合成過程演變一、傳統(tǒng)方法:1、R+M(溶劑或載氣);2、E促進(jìn)反應(yīng);3、分離M和副產(chǎn)品;4、篩選二、Merrifield的縮聚反應(yīng)三、微量化學(xué)法(生物醫(yī)藥方面)四、parall+integrate
其中:P代表product;R代表reactant;E代表energy;M代表medium;我們可以看出:產(chǎn)品的制備可用方程式
P=f(R,t,p,E,m…)表示總結(jié):
以上a,b,c,d圖比較適合有機(jī)材料的制備而對(duì)于無機(jī)材料的制備我們可以借鑒下圖制備過程:無機(jī)材料合成的發(fā)展一、1965年Kennedy等電子束濺射~~三元合金二、1994年Xiang
、Schultz等材料信息學(xué)(計(jì)算機(jī)+快速表征技術(shù))三、1994年layer-by-layer系列控制合成LMBE材料制備方法的演變
圖示分析
圖a、b、c分別表示制備方法的地一、二、三代。圖a中,ABC代表在晶片上不同位置三種不同元素;圖b是在空間平面的延拓;圖c是在納米量級(jí)沉積的多層原子層。高通量篩選和表征技術(shù)LMBE(RHEED)SQUID微波顯微鏡發(fā)光顯示圖MEMSTEM(FIB)LMBE~~RHEED激光分子束外延激光分子束外延:是一種真空蒸發(fā)技術(shù),即把原材料通過加熱,轉(zhuǎn)化為氣態(tài),然后在真空中膨脹,再在襯底上凝結(jié),進(jìn)行外延生長(zhǎng)。物理靶的放置決定薄膜生長(zhǎng)的地點(diǎn);掃描反射式高能電子衍射(RHEED)系統(tǒng)判斷不同生長(zhǎng)地點(diǎn)的生長(zhǎng)模式;用于底片加熱的光纖定位的釹-釔鋁石榴石激光。通過和RHEED的同步生長(zhǎng)模式以及通過掩飾運(yùn)動(dòng)的轉(zhuǎn)換目標(biāo)的同步,原子層材料的合成可以被調(diào)整在單底片上SQUID超導(dǎo)量子干涉顯微鏡
在圓柱形的石英管上,先蒸發(fā)出一層10mm寬的Pb膜,再蒸發(fā)出一層Au膜在下方用作分流電阻;然后濺射兩條Nb膜,待其氧化后再蒸發(fā)出一層T形Pb膜。這樣在Pb
膜和Nb膜的交叉處形成兩個(gè)Nb-NbOx-Pb結(jié),即Josephon結(jié)。
Josephon結(jié):兩塊超導(dǎo)體中間夾一薄的絕緣層絕緣材料相圖和發(fā)光材料顯示絕緣材料相圖:微波顯微鏡可以通過測(cè)量諧振腔內(nèi)的公正頻率來測(cè)定材料的介電常數(shù)。圖中高的頻率變化對(duì)應(yīng)高的介電常數(shù),最后在相圖上找到高介電常數(shù)的穩(wěn)定的無定形三元組成結(jié)構(gòu)。發(fā)光材料:圖中的綠色發(fā)光區(qū)顯示的合成材料為Gd3Ga5O12/SiO2。
微熱盤裝置圖A,裝置圖示;圖B,將A用導(dǎo)線連接成陣列用于做氣體傳感器(48-元);圖C,四元裝置STM透射電子顯微鏡FIB~~聚焦離子束圖A,用聚焦離子束刻蝕技術(shù)制備TEM樣品的過程簡(jiǎn)圖。圖B,在不同溫度梯度選擇的三個(gè)點(diǎn)的高透射電子顯微鏡的表征圖象。材料的探索與發(fā)現(xiàn)
我們可通過已有相圖及已知的組份-結(jié)構(gòu)-性質(zhì)的關(guān)系,合理推測(cè)或用組份擴(kuò)展和高通量篩選法進(jìn)行試驗(yàn)。在絕緣材料方面,等人用組份擴(kuò)展法和高通量篩選法對(duì)30多個(gè)相系進(jìn)行研究試驗(yàn)發(fā)現(xiàn)一種具有特殊性能的材料ZrO2-SnO2-TiO2(絕緣常數(shù),擊穿電壓)Zr0.2Sn0.2Ti0.6O2。用時(shí)很短僅幾個(gè)月,是傳統(tǒng)方法不可比擬的。
磁性半導(dǎo)體材料方面,目前發(fā)現(xiàn)的Ge-基磁性半導(dǎo)體,Co0.1Mn0.02Ge0.88的Tc~~280K并具有很大的抗磁性。
鐵磁材料上,通過三元合金組份擴(kuò)展相圖,發(fā)現(xiàn)Ni-Mn-Ge系。發(fā)光材料(有機(jī)光發(fā)射),電池電極材料(Li-Cr-Ti-O系),玻璃體系(P2O5-TeO2-ZnO三元系)等等都得到廣泛應(yīng)用。前景
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