YS/T 986-2014晶片正面系列字母數(shù)字標(biāo)志規(guī)范

ICS29045

H80.

中華人民共和國(guó)有色金屬行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)

YS/T986—2014

晶片正面系列字母數(shù)字標(biāo)志規(guī)范

Specificationforserialalphanumericmarkingofthefrontsurfaceofwafers

2014-10-14發(fā)布2015-04-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)工業(yè)和信息化部發(fā)布

YS/T986—2014

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)使用翻譯法等同采用晶片正面系列字母數(shù)字標(biāo)志規(guī)范

SEMIM12-0706《》。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC243)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位有研半導(dǎo)體材料股份有限公司杭州海納半導(dǎo)體有限公司萬(wàn)向硅峰電子股份有

:、、

限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司

、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人張靜邊永智孫燕魯進(jìn)軍樓春蘭王飛堯何良恩張海英

:、、、、、、、。

Ⅰ

YS/T986—2014

晶片正面系列字母數(shù)字標(biāo)志規(guī)范

1目的

11本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅片或其他半導(dǎo)體晶片上一串連續(xù)的包括字母和數(shù)字的標(biāo)記該編號(hào)標(biāo)記及關(guān)聯(lián)

.。

信息被儲(chǔ)存入數(shù)據(jù)庫(kù)對(duì)每個(gè)硅片起到了在硅片和器件制造期間追溯和控制的目的

,。

12本標(biāo)準(zhǔn)定義了晶片標(biāo)記的基本編碼規(guī)定無(wú)需處理晶片利用簡(jiǎn)單的自動(dòng)光學(xué)字符識(shí)別設(shè)備就可

.。,

以對(duì)該標(biāo)記進(jìn)行獨(dú)立和快速人工識(shí)別確保了硅片制造商對(duì)晶片標(biāo)記的一致性有利于監(jiān)控晶片工藝的

,,

變化

。

13本標(biāo)準(zhǔn)適用于廣泛的晶片產(chǎn)品如外延片片拋光片等

.,、SOI、。

2范圍

本標(biāo)準(zhǔn)定義了標(biāo)記包括字母數(shù)字的幾何尺寸和空間位置尤其適用于帶參考面和帶缺口的硅拋

,

光片

。

本標(biāo)準(zhǔn)不涉及制作標(biāo)記的技術(shù)

。

3規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

硅片字母數(shù)字標(biāo)志規(guī)范

SEMIM13(Specificationforalphanumericmarkingofsiliconwafers)

供方標(biāo)志代碼表

SEMIAUX001(Listofwaferssupplieridentificationcodes)

光學(xué)字符識(shí)別字符集概要

SEMIAUX015(OCR)(SEMIOCRcharacteroutlines)

4術(shù)語(yǔ)和定義

下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件

。

41

.

相鄰字符未對(duì)準(zhǔn)度adjacentcharactermisalignment

R

adj

同一行兩個(gè)相鄰字符的字符基線之間的垂直距離

。

42

.

字符間隔characterseparation

任意兩個(gè)字符的相鄰邊界之間的水平距離

。

43

.

字符間距characterspacing

任意兩個(gè)相鄰字符的字符中心線之間的水平距離

。

44

.

字符窗口