光電顯示技術(shù)課程

TFT-LCD的發(fā)展及其特薄膜晶體管-液晶顯示器(thinfilmliquidcrystaldisy，TFT-LCD)緒（FET點(diǎn)。隨著TFT-LCD產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展和壯大，以TFT-LCD為代表的平板顯示已替代CRT，TFTLCD發(fā)展年奧地利植物學(xué)家F.發(fā)現(xiàn)各向145.5℃年德國(guó)物理學(xué) 年年即所謂的dericksz轉(zhuǎn)變?yōu)楹髞?lái)液晶顯示器年研究發(fā)現(xiàn)液晶在電場(chǎng)的作用下會(huì)產(chǎn)生1968RCA公司G.發(fā)現(xiàn)了液晶的動(dòng)態(tài)散射（dynamicscattering的 在公司成果的基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)了液晶顯示器產(chǎn)--年有源矩陣驅(qū)動(dòng)還實(shí)現(xiàn)了高品質(zhì)彩顯示年T.P.a-LCD的電子遷移率（0.5～1.0cm2/點(diǎn)年S.W. p-SiTFT條件下的工藝，僅適用于耐高溫的襯年研究小組 提高了p-Si的電子p-SiTFT的電子遷并降低了閾值電壓，實(shí)現(xiàn)了TFT性能的進(jìn)一步優(yōu)化年，E.LTp-Si（HTp-SiTFT）1991年，SeikoEpsonLittle等又出低溫多晶硅薄膜晶管（LTpSiTFT）器件現(xiàn)狀:利用非晶硅或多晶硅材料而成的TFT-LCD具有分辨率高、色彩豐等一系列優(yōu)點(diǎn)[14]，其中，由于aSi:HTFT多突出的優(yōu)點(diǎn)而備受關(guān)注，成為TFT-LCD中的主流技術(shù)。目前，a-Si:HTFT-LCD生產(chǎn)技術(shù)已被眾多面板生產(chǎn)廠商所掌握，并進(jìn)行大批量生產(chǎn)化。TFT-LCD術(shù)發(fā)展趨就TFTLCD玻璃基板是生產(chǎn)TFT-LCD的重要原材料，其成本約占TFT-LCD總成本的15%～18%TFT，但影響產(chǎn)品成本的關(guān)鍵部分是生產(chǎn)技術(shù)最為的光刻工藝，其中，最受人們關(guān)注的就是掩模版，其質(zhì)量在很大程度上決定了TFTLCD質(zhì)，而其使用數(shù)量的減少可有效削減設(shè)備投資、縮短生產(chǎn)周期目前普遍采用的5掩模版或4掩模版光刻工藝，大大地縮減了TFT-LCD生產(chǎn)周期和生產(chǎn)成本。(圖一為TFT制造過(guò)程中掩模版使用數(shù)量在相應(yīng)減少變化圖近年來(lái)，三星以及LGD等韓國(guó)企業(yè)在近年來(lái)，三星以及LGD等韓國(guó)企業(yè)在3掩模版光刻工藝的開(kāi)發(fā)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，但由于3掩模版工藝圖一：TFT制造過(guò)程中掩模版使能開(kāi)關(guān)元件以及高精細(xì)加工技術(shù)等。除此之外，還有開(kāi)發(fā)LTp-SiTFT技術(shù)這一途徑。目前，已的p-SiTFT-LCD產(chǎn)品的解析度一般在200ppi左右。同aSiTFTLCD，LTpSiTFTLCD及電容器，因此，它每一英寸具有更大的區(qū)，從而造就了更亮的顯示可通過(guò)增強(qiáng)背光源的亮度來(lái)提高TFT-LCD顯示畫(huà)面的亮度。然而，在液晶顯示器中，由于背光源發(fā)出的光線會(huì)受到偏光片、濾光片的吸收以及TFT陣列的遮擋（如圖2所示）等因素影響，最終只有大約5%的光線透過(guò)顯示屏得到有效利用。角。隨著TFT-LCD顯示技術(shù)的不斷發(fā)展，寬視角模式已成為業(yè)界追求的目標(biāo)[。目前，主流的TFT-LCD寬視角技術(shù)有：TN+Film（寬視角補(bǔ)償膜）技術(shù)、VA（Vertical由于TFT-LCD是一種型顯示器件，其本身并不發(fā)光，因此背光模組在整個(gè)顯示系統(tǒng)中扮演著十分重要的角色[40]。然而，液晶顯示器件總功耗的90%卻貢獻(xiàn)給了背光源，TFT-LCD陷檢測(cè)系統(tǒng)方法最早采用人工作業(yè)，這不僅工作量大，而且易受到檢測(cè)人員因素的影響，故人工視覺(jué)檢測(cè)越來(lái)越不能滿足工業(yè)領(lǐng)域的要求。如何實(shí)現(xiàn)面板表面缺陷的高速自動(dòng)檢測(cè)以及成為TFT-LCD生產(chǎn)研究的重要課題之一。檢測(cè)TFT-LCD3種。為保證產(chǎn)品質(zhì)量并降低生產(chǎn)成本,很多廠家和研究人員都在致力于自動(dòng)視覺(jué)檢測(cè)技術(shù)的研根據(jù)TFT-LCD求，調(diào)整CCD同尺寸的TFT根據(jù)該規(guī)格的TFT-LCD工業(yè)機(jī)按照橫向1∶6、縱向1∶6進(jìn)行取像，即圖像的每一個(gè)像素18μm18μm29003個(gè)線程同時(shí)工作TFT-LCD3CCD相機(jī)TFT-LCD屏圖像并提取圖像的ＲOI區(qū)域，然后對(duì)圖像進(jìn)行預(yù)處理包括Gabor濾波、雙閾值二值化、圖像去噪、圖像形態(tài)學(xué)，最后對(duì)缺陷進(jìn)行分析統(tǒng)4.4相機(jī)、輔助光源和計(jì)算機(jī);軟件模塊對(duì)系統(tǒng)到的圖像進(jìn)行處理、檢測(cè)、統(tǒng)此系統(tǒng)利用一維變換和全尺寸小波變換對(duì)TFT-LCD表面缺陷圖像進(jìn)96%以上,通過(guò)對(duì)圖3部分:首先從計(jì)算機(jī)中讀入圖像并進(jìn)入預(yù)處除最后統(tǒng)計(jì)缺陷檢測(cè)信息,最后對(duì)算法效率進(jìn)行評(píng)價(jià)。CRTLCD50ms下，這些都為L(zhǎng)CD主流鋪平了道路。LCD的應(yīng)用市場(chǎng)應(yīng)該說(shuō)是潛力巨大。LCDLCD光電顯示技術(shù)，峰，，等著TFT_LCD驅(qū)動(dòng)技術(shù)的研究，，中國(guó)長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理，2000年06月TFT_LCD缺陷檢測(cè)系統(tǒng)的研究，新，電子測(cè)量與儀器學(xué)報(bào)，2014年3復(fù)雜背景下TFT-LCD表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)，，電子測(cè)量與儀器學(xué)報(bào)2011年12月LCDbrightnessdecayduetoparticulatecontaminationofbacklightunit，SanghoonKim，JournaloftheKoreanPhysicalSociety,2013,Vol.62(2)AHierarchynning